【技术实现步骤摘要】
本专利技术是有关于一种空气供应系统,特别是有关于一种适用于一无尘室中的空气供应系统。
技术介绍
一般来说,一些重要的半导体制程(例如显影制程)必须在无尘室(clean room)中进行,而其制程设备是设置于无尘室之中。如上所述,这些半导体制程必须在一定的环境空气条件下才能进行,也就是说,在无尘室中的微分子污染物(airborne molecularcontamination,AMC)含量必须受到严格管制,如此才不至于影响半导体制程的进行。此外,上述的微分子污染物主要是指有机化合物总合(total organic compound,TOC)、氨(NH3)、硫化物总合(total sulfur,TS)等污染。请参阅图1,一无尘室1可以具有多个楼层结构,例如第一层11以及第二层12,而各种半导体制程机台(包括一般制程机台21以及重要制程机台22)可以设置于其中一个楼层(例如第二层12)中。一种公知的空气供应系统是设置于无尘室1中,其可用来提供清洁的空气给一般制程机台21以及重要制程机台22使用。上述的空气供应系统主要包括有一进气导管31、一外气空调单元(make-u ...
【技术保护点】
一种空气供应系统,适用于具有一重要制程机台的一无尘室之中,包括:一外气空调单元;一进气导管,连接于该无尘室外部与该外气空调单元,用于将该无尘室外部的空气输送至该外气空调单元之中;一二次空调箱,具有一第一化学过滤器; 一第一空气输送管,连接于该外气空调单元与该二次空调箱之间,用于将流经该外气空调单元的空气输送至该二次空调箱之中,其中,输送至该二次空调箱中的空气中的微分子污染物由该第一化学过滤器过滤去除;以及一第二空气输送管,连接于该二次空调 箱与该重要制程机台之间,用于将流经该二次空调箱的该第一化学过滤器 ...
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:郭博菘,陈勇达,周政隆,吴东立,黄铭文,
申请(专利权)人:台湾积体电路制造股份有限公司,
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]
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