一种晶体表面缺陷的双面红外热像检测系统技术方案

技术编号:24085840 阅读:44 留言:0更新日期:2020-05-09 06:01
一种晶体表面缺陷的双面红外热像检测系统,其特征在于:包括左固定座(1)、右固定座(2)、SiC单晶片(3)、PC(41)、电源(42)、第一信号发生器(51)、第一感应加热器(61)、第一感应加热线圈(71)、第一热像仪(81)、第二信号发生器(52)、第二感应加热器(62)、第二感应加热线圈(72)、第二热像仪(82);还具有一种利用该晶体表面缺陷的双面红外热像检测系统对SiC单晶片在短时间内完成双面检测的计算方法,包括以下步骤:缺陷图库建立步骤、开机检测步骤、选择卡部与放置晶片的步骤、检测步骤、形成报告步骤、批量测试步骤。

A double-sided infrared thermal image detection system for crystal surface defects

【技术实现步骤摘要】
一种晶体表面缺陷的双面红外热像检测系统
本专利技术涉及晶体表面及内部缺陷检测的
,尤其涉及一种晶体表面缺陷的双面红外热像检测系统。
技术介绍
对于碳化硅晶体来讲,是一种非常难熔的非金属化合物,SiC单晶具有半导体性能,可以制造二极管和其他半导体元件,质量好的SiC晶片是电子工业的重要原料,而且其耐磨、耐高温,机械性能也非常好,适于在严酷环境下坚持工作。碳化硅的理论化学组成例如是,Si70.04左右,C29.96左右,2600℃下均化学稳定,常温下比热容约为0.228卡/克*度,随着温度升高,比热容有所增加,目前用于半导体的SiC单晶大块,一般为黄色透明或者无色透明状,具有非线性伏安特性以及较强的化学稳定性。目前SiC多切成晶片应用,但是由于切割过程的应力或者原生制备过程的原因,SiC晶片往往有着这样那样的暗病,虽然其是透明的,但是往往存在暗纹、热斑、掺杂缺陷等肉眼不易检查的缺陷存在,而这些缺陷通过肉眼或者可见光的光学方法是难以发现和甄别的。现有技术中,激光与红外杂志的《C/SiC复合材料的红外热像无损检测研本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶体表面缺陷的双面红外热像检测系统,其特征在于:/n包括左固定座(1)、右固定座(2)、SiC单晶片(3)、PC(41)、电源(42)、第一信号发生器(51)、第一感应加热器(61)、第一感应加热线圈(71)、第一热像仪(81)、第二信号发生器(52)、第二感应加热器(62)、第二感应加热线圈(72)、第二热像仪(82);/nSiC单晶片(3)是厚度在5-20mm之间的长方体薄片,所述SiC单晶片(3)的左侧放置在左固定座(1)上的左凹槽(15)内,SiC单晶片(3)的右侧放置在右固定座(2)上的右凹槽(25)内;/n所述第一热像仪(81)、第一感应加热线圈(71)、SiC单晶片(3)...

【技术特征摘要】
1.一种晶体表面缺陷的双面红外热像检测系统,其特征在于:
包括左固定座(1)、右固定座(2)、SiC单晶片(3)、PC(41)、电源(42)、第一信号发生器(51)、第一感应加热器(61)、第一感应加热线圈(71)、第一热像仪(81)、第二信号发生器(52)、第二感应加热器(62)、第二感应加热线圈(72)、第二热像仪(82);
SiC单晶片(3)是厚度在5-20mm之间的长方体薄片,所述SiC单晶片(3)的左侧放置在左固定座(1)上的左凹槽(15)内,SiC单晶片(3)的右侧放置在右固定座(2)上的右凹槽(25)内;
所述第一热像仪(81)、第一感应加热线圈(71)、SiC单晶片(3)、第二感应加热器(62)、第二热像仪(82)从前到后依次放置,且第一感应加热线圈(71)、SiC单晶片(3)、第二感应加热器(62)三者所处的平面相互平行,第一热像仪(81)和第二热像仪(82)均垂直于前述三者所处的平面设置,且第一热像仪(81)和第二热像仪(82)的镜头均大约对准SiC单晶片(3)的中心点处;
所述左固定座(1)由左底座(11)、左凹部(12)和左卡部(13)组成,左底座(11)为长方体状,且其上表面有一个前后开设的用于左凹部(12)下端塞入固定的左底座槽(111),左凹部(12)整体是长方体,右上端设有一向左凹入的左凹槽(121)以使得左凹部(12)俯视呈凹口向右的“凹”字形,左卡部(13)从前面或后面看去呈倒“U”形,且其右侧中间的位置有一个左缺失部(131),左凹部(12)的左侧到左凹槽(121)的左侧的距离,恰与左卡部(13)的内侧宽度相同,左卡部(13)从上方扣在左凹部(12)的上方使得左固定座(1)右侧形成左凹槽(15);
所述右固定座(2)由右底座(21)、右凹部(22)和右卡部(23)组成,右底座(21)为长方体状,且其上表面有一个前后开设的用于右凹部(22)下端塞入固定的右底座槽(211),右凹部(22)整体是长方体,左上端设有一向右凹入的右凹槽(221)以使得右凹部(22)俯视呈凹口向左的“凹”字形,右卡部(13)从前面或后面看去呈倒“U”形,且其左侧中间的位置有一个右缺失部(231),右凹部(22)的右侧到右凹槽(221)的左侧的距离,恰与右卡部(23)的内侧宽度相同,右卡部(23)从上方扣在右凹部(22)的上方使得右固定座(2)左侧形成右凹槽(25);
所述PC(41)上具备热像检测软件,电源(42)给PC(41)、第一信号发生器(51)、第一感应加热器(61)、第一热像仪(81)、第二信号发生器(52)、第二感应加热器(62)、第二热像仪(82)均单独供电;所述第一信号发生器(51)和第二信号发生器(52)的控制输入端口均连接至PC并从热像检测软件处接收控制信号,第一信号发生器(51)的输出端接入第一感应加热器(61)的输入端,第二信号发生器(52)的输出端接入第二感应加热器(62)的输入端;第一感应加热线圈(71)的两端接入第一感应加热器(61)的两个输出端,第二感应加热线圈(72)的两端接入第二感应加热器(62)的两个输出端;
所述第一感应加热线圈(71)和第二感应加热线圈(72)均为2-4匝绕线的电磁激励线圈,且圈部大体呈正方形且四角处呈圆角状,第一热像仪(81)的镜头从第一感应加热线圈(71)的圈内可获得SiC单晶片(3)前面表面至少90-95%的面积的视野,第二热像仪(82)的镜头从第二感应加热线圈(72)的圈内可获得SiC单晶片(3)后面表面至少90-95%的面积的视野。


2.如权利要求1所述的一种晶体表面缺陷的双面红外热像检测系统,其特征在于:
所述SiC单晶片的厚度为5-20mm之间的整数;所述左卡部具有左缺失部前后宽度不同的一系列15个,该一系列15个的左缺失部前后宽度为从1mm到15...

【专利技术属性】
技术研发人员:张岩董伟赵然黄甜甜马鹏翔付吉国王美林
申请(专利权)人:国宏华业投资有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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