【技术实现步骤摘要】
X射线成像系统及X射线成像方法
本专利技术涉及X射线成像
,更具体地,涉及一种X射线成像系统及X射线成像方法。
技术介绍
自从1985年伦琴发现X射线,并将其应用于医疗成像领域,医疗X射线影像技术迅速发展并普及,目前已占据着医疗成像领域的最大份额,在人类疾病诊断、健康保健具有广泛应用。由于待测物体为生命体,医疗X射线影像朝着低剂量、高成像质量方向发展。传统X射线成像往往依赖于高成像质量的平板探测装置,如非晶硅、互补金属氧化物半导体(CMOS)等,其像素尺寸往往在100μm左右,以Varex4343R产品为例,像素数可达1024×1024以上。平板探测装置生产涉及光刻、蒸镀等多道掩膜(mask)工艺,工艺复杂,成本高且成品率较低。目前,X射线成像系统为了获得清晰的图像,需将生命体暴露在X射线下足够长的时间,不可避免地对生命体造成较大伤害。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种X射线成像系统,用以解决现有X射线成像系统对生命体造成较大伤害的问题。为了解决上述问题,本专利技术实 ...
【技术保护点】
1.一种X射线成像系统,其特征在于,包括:/n发射装置,用于出射准直X射线;/n调制装置,设置在所述发射装置与待测物体之间,用于调制所述准直X射线并形成调制光场;/n单像素探测装置,设置在所述待测物体远离所述调制装置的一侧,用于采集所述X射线经所述调制装置和待测物体后的测量信号;/n处理装置,与所述单像素探测装置连接,用于将所述测量信号与预先存储的参考信号进行空间关联计算,获得待测物体的图像。/n
【技术特征摘要】
1.一种X射线成像系统,其特征在于,包括:
发射装置,用于出射准直X射线;
调制装置,设置在所述发射装置与待测物体之间,用于调制所述准直X射线并形成调制光场;
单像素探测装置,设置在所述待测物体远离所述调制装置的一侧,用于采集所述X射线经所述调制装置和待测物体后的测量信号;
处理装置,与所述单像素探测装置连接,用于将所述测量信号与预先存储的参考信号进行空间关联计算,获得待测物体的图像。
2.根据权利要求1所述的X射线成像系统,其特征在于:所述发射装置包括X射线发射源和准直器,所述准直器设置于X射线发射源的出光方向,所述准直器包括设置小孔的准直板,所述X射线发射源发出的X射线经所述小孔形成准直X光线。
3.根据权利要求2所述的X射线成像系统,其特征在于:所述X射线发射源包括单色性X射线发射源或非单色性X射线发射源。
4.根据权利要求1-3任一项所述的X射线成像系统,其特征在于:所述调制装置包括调制器和驱动器,所述调制器设置于驱动器上,所述驱动器用于驱动所述调制器在垂直于准直X射线的平面内运动。
5.根据权利要求4所述的X射线成像系统,其特征在于:所述调制器包括基底和在所述基底上阵列排布的多个调制块,在垂直于准直X射线的平面内,所述调制块的形状包括圆形、椭圆形、矩形、正多边形、梯形或三角形。
6.根据权利要求5所述的X射线成像系统,其特征在于:所述调制块的等效长度为5μm-20μm,所述调制块的等效宽度为5μm-20μm,相邻调制块之间的间隙小于等于10μm。
7.根据权利要求5所述的X射线成像系统,其特征在于:在平行于准直X射线的平面内,所述调制块的厚度为50μm-900μm。
8.根据权利要求5所述的X...
【专利技术属性】
技术研发人员:王文琳,周莉,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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