防反射薄膜制造技术

本发明专利技术提供一种在宽频带中具有优异的反射特性(低反射性)且着色被抑制的防反射薄膜。本发明专利技术的防反射薄膜依次具有：透明基材、从该透明基材起的依次的密合层、第一Nb

Antireflection film

【技术实现步骤摘要】
防反射薄膜
本专利技术涉及防反射薄膜。
技术介绍
一直以来，为了防止外部光在CRT、液晶显示装置、等离子体显示面板等的显示器画面的反射，广泛使用配置在显示器画面的表面的防反射薄膜。作为防反射薄膜，例如已知具有折射率不同的多个层的多层薄膜。已知通过使用这类多层薄膜可得到高防反射性能(在宽频带中低的反射率)。防反射薄膜的防反射性能一般以光反射率(luminousreflectance)Y(％)来评价，该光反射率越低则防反射性能越优异。但是，存在若想要降低光反射率则反射色相容易着色的问题。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平11-204065号公报专利文献2：日本专利5249054号
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术是为了解决上述现有课题而作出的，其目的在于，提供在宽频带中具有优异的反射特性(低反射性)且着色被抑制的防反射薄膜。用于解决问题的方案本专利技术的防反射薄膜依次具有：透明基材、从该透明基材起依次的密合层、第一Nb2O5层、第一SiO2层、第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防反射薄膜，其依次具有：透明基材、从该透明基材起的依次的密合层、第一Nb

【技术特征摘要】
20181025 JP 2018-2007561.一种防反射薄膜，其依次具有：透明基材、从该透明基材起的依次的密合层、第一Nb2O5层、第一SiO2层、第二Nb2O5层、第二SiO2层、和防污层，
第一Nb2O5层的光学膜厚为28nm～33nm，
第一SiO2层的光学膜厚为43nm～57nm，
第二Nb2O5层的光学膜厚为264nm～288nm，
第二SiO2层的光学膜厚为113nm～129nm。


2.根据权利要求1所述的防反射薄膜，其中，所述防污层的折射率为1.00...

【专利技术属性】
技术研发人员：高见佳史，横井辽太郎，梨木智刚，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP