试样支撑体制造技术

试样支撑体(1A)包括基板(2)、电离基板(3)、支撑部(5)和框架(7)。电离基板(3)在第2表面(3b)上具有用于滴落试样的多个测量区域(R)。在电离基板(3)的至少各测量区域(R)形成有在第1表面(3a)和第2表面(3b)开口的多个贯通孔(3c)。至少在第2表面(3b)上的贯通孔(3c)的周缘部设置有导电层(4)。框架(7)具有壁部(7b)，壁部(7b)以从基板(2)与电离基板(3)相对的方向观察划分多个测量区域(R)的方式设置于第2表面(3b)上的各测量区域(R)的周缘部上。

Specimen support

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】试样支撑体
本专利技术涉及一种试样支撑体。
技术介绍
一直以来，已知有一种对试样照射激光而将试样中的化合物电离，通过检测电离了的试样来进行质量分析的方法。在专利文献1中记载了如下方法：将设置有多个贯通孔(mm级)的固定板配置在保持板上，通过该贯通孔将试样滴落到保持板上，对该试样照射激光，由此进行试样的电离。在专利文献2中记载了如下方法：在设置有多个非贯通孔(μm级)的基板滴落加入了基质(matrix)的试样，对浸透于该非贯通孔的内部的试样照射激光，由此进行试样的电离。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2014-21048号公报专利文献2：美国专利第7695978号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题根据如上述方法那样从上对多个测量点(凹部)滴落试样的方式，能够进行试样的连续测量。然而，在上述方法中，在相对于凹部的试样的滴落量过多时，试样从该凹部溢出，失去所谓凹凸效果(通过凹凸结构而使激光的能量容易传递到试样的效果)，存在试样的电离效率降低的可能性。即，存在不能够适当本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种试样支撑体，其特征在于，包括：/n基板；/n电离基板，其配置在所述基板上；/n支撑部，其以所述电离基板的和所述基板相对的第1表面与所述基板彼此隔开的方式相对于所述基板将所述电离基板支撑；以及/n框架，其从所述基板与所述电离基板相对的方向观察，至少形成于所述电离基板中的所述第1表面的相反侧的第2表面的周缘部上，/n所述电离基板在所述第2表面上具有用于滴落试样的多个测量区域，/n在所述电离基板的至少各所述测量区域，形成有在所述第1表面和所述第2表面开口的多个贯通孔，/n至少在所述第2表面上的所述贯通孔的周缘部设置有导电层，/n所述框架具有壁部，所述壁部以从所述基板与所述电离基板相对的方向观...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170921 JP 2017-1815971.一种试样支撑体，其特征在于，包括：
基板；
电离基板，其配置在所述基板上；
支撑部，其以所述电离基板的和所述基板相对的第1表面与所述基板彼此隔开的方式相对于所述基板将所述电离基板支撑；以及
框架，其从所述基板与所述电离基板相对的方向观察，至少形成于所述电离基板中的所述第1表面的相反侧的第2表面的周缘部上，
所述电离基板在所述第2表面上具有用于滴落试样的多个测量区域，
在所述电离基板的至少各所述测量区域，形成有在所述第1表面和所述第2表面开口的多个贯通孔，
至少在所述第2表面上的所述贯通孔的周缘部设置有导电层，
所述框架具有壁部，所述壁部以从所述基板与所述电离基板相对的方向观察划分所述多个测量区域的方式设置于所述第2表面上的各所述测量区域的周缘部上。


2.如权利要求1所述的试样支撑体，其特征在于：
所述导电层以还覆盖所述框架的表面的方式形成。


3.如权利要求2所述的试样支撑体，其特征在于：
还包括：固定部件，其具有导电性，且在与所述导电层的覆盖所述框架的表面的部分接触的状态下将所述电离基板与所述基板彼此固定。


4.如权利要求1～3中任一项所述的试样支撑体，其特征在于：
所述支撑部具有第1支撑部，所述第1支撑部以从所述基板与所述电离基板相对的方向观察，划分所述多个测量区域的方式设置于所述第1表面上的各所述测量区域的周缘部与所述基板之间。


5.如权利要求4所述的试样支撑体，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：大村孝幸，小谷政弘，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP