一种改善LED芯片表面污染的处理方法技术

发明专利技术涉及一种改善LED芯片表面污染的处理方法，属于LED芯片技术领域，包括步骤(1)将芯片先后置于无水乙醇溶液和去离子水中清洗刷洗，(2)将芯片先后置于乙酸水溶液和去离子水中清洗、刷洗；(3)将芯片置于酸、去离子水、氟化物组成的混合溶液中清洗，然后取出置于去离子水下冲洗；(4)将芯片置于清洗机中进行高压去离子水清洗、氮气吹干；(5)将芯片取出置于加热台上烘烤，彻底去除水汽。本方法原材料消耗少，步骤简单，操作简便，处理成本低，可有效的去除芯片表面污染、残留试剂、粗糙等表面异常，提高芯片质量和良率。

A method to improve the surface pollution of LED chips

【技术实现步骤摘要】
一种改善LED芯片表面污染的处理方法
本专利技术涉及一种改善LED芯片表面污染的处理方法，属于LED芯片

技术介绍
LED照明技术发展十分迅速，自上世纪60年代以来，有关数据统计表明，LED成本每隔十年下降十倍，而发光效率则每隔十年提高十倍，目前已在生活照明、交通信号、建筑装饰、景观、户外显示、背光源、玩具、服饰等各个方面为人们所接受，同时LED技术也在不断的升级和创新，满足人类生产、生活的不同需要。LED的生产过程中，LED芯片的生产是影响产品成本、指标及销售的重要因素。众所周知，LED芯片的制作需要经过金属镀膜、图形制作、衬底减薄、芯片切割、测试、封装等多个工步作业，任何一个工步出现问题将直接影响芯片的最终质量，导致芯片轻则降档，严重的直接报废，最终影响产品成本和效益。因此，只有在芯片的制作过程中进行严格的控制才能有效的保证芯片最终质量，即便如此，芯片外观异常或多或少依然是无法避免的，主要是因为设备、工艺、人为、环境、原材料等方面的因素无法做到精确的控制，即便做到，相关的资金投入也会使产品成本大幅提高，仍然对最终产品效益无本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种改善LED芯片表面污染的处理方法，其特征在于，包括如下步骤：/n(1)将芯片置于无水乙醇溶液中清洗，然后取出使用刷子蘸取无水乙醇对芯片表面进行刷洗，然后将芯片置于去离子水下冲洗；/n(2)将芯片置于乙酸水溶液中清洗，然后取出使用刷子蘸取乙酸水溶液对芯片表面进行刷洗，然后将芯片置于去离子水下冲洗；/n(3)将芯片置于酸、去离子水、氟化物组成的混合溶液中清洗，然后取出置于去离子水下冲洗；所述的酸为乙酸、甲酸、氢硫酸、草酸、偏铝酸、次氯酸、氢氟酸中的一种或一种以上，所述的氟化物为氟化铵、氟化钠、氟化氢钠、氟化铝中的一种或一种以上；/n(4)将芯片置于1000-5000转/分的清洗机中进行高压...

【技术特征摘要】
1.一种改善LED芯片表面污染的处理方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)将芯片置于无水乙醇溶液中清洗，然后取出使用刷子蘸取无水乙醇对芯片表面进行刷洗，然后将芯片置于去离子水下冲洗；
(2)将芯片置于乙酸水溶液中清洗，然后取出使用刷子蘸取乙酸水溶液对芯片表面进行刷洗，然后将芯片置于去离子水下冲洗；
(3)将芯片置于酸、去离子水、氟化物组成的混合溶液中清洗，然后取出置于去离子水下冲洗；所述的酸为乙酸、甲酸、氢硫酸、草酸、偏铝酸、次氯酸、氢氟酸中的一种或一种以上，所述的氟化物为氟化铵、氟化钠、氟化氢钠、氟化铝中的一种或一种以上；
(4)将芯片置于1000-5000转/分的清洗机中进行高压去离子水清洗、氮气吹干；
(5)将芯片取出置于加热台上烘烤；
(6)在显微镜下检验芯片表面污染的改善效果，若处理完全结束处理，若仍需改善返回步骤(1)。


2.根据权利要求1所述的改善LED芯片表面污染的处理方法，其特征在于，步骤(1)中，芯片置于无水乙醇溶液中清洗10-30s；使用刷子对整个芯片表面刷洗1-6次；然后将芯片置于去离子水下冲洗10-30s。


3.根据权利要求2所述的改善LED芯片表面污染的处理方法，其特征在于，步骤(1)中，所述无水乙醇为分析纯，纯度≥99.7％；所述去离子水电导率≤0.2μs/cm。


4.根据权利要求1所述的改善...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡夕伦，闫宝华，肖成峰，
申请(专利权)人：山东浪潮华光光电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37