【技术实现步骤摘要】
一种掩模板、显示面板以及电子设备
本申请涉及显示
,尤其涉及一种掩模板、显示面板以及电子设备。
技术介绍
随着显示技术的发展,显示屏、电视、手机等电子设备的分辨率越来越高,与分辨率提高对应的是像素数量的增多,像素数量的增多会带来各种各样需要攻克的技术难题。例如,8K分辨率电子设备的单个子像素的面积,是4K分辨率电子设备的单个子像素的面积的四分之一,伴随的是对应掩模板的制备难度以及成本增加。在实际产品制备过程中,针对相同分辨率不同尺寸的显示面板,由于单个子像素的面积不同,需要开发制备不同尺寸的掩模板,例如现有技术在制备65寸8K分辨率的显示面板和85寸8K分辨率的显示面板时,就需要使用不同尺寸的掩模板,开发成本高,此时掩模板的尺寸是指掩模板上遮光区的尺寸。因此,现有8K电子设备至少存在需要针对不同尺寸显示面板制备不同尺寸掩模板的技术问题,需要改进。
技术实现思路
本申请提供一种掩模板、显示面板以及电子设备,以解决现有8K电子设备至少存在需要针对不同尺寸显示面板制备不同尺寸掩模板的技术问 ...
【技术保护点】
1.一种掩模板,用于制备彩膜基板,其特征在于,包括:/n掩模板基板;/n开口图形图案,形成于所述掩模板基板上;/n其中,所述掩模板包括多个重复区域,所述重复区域包括所述开口图形图案对应的第一区域、以及围绕所述第一区域的第二区域;所述第二区域包括行方向排列且平行的第一侧边区域和第二侧边区域、以及列方向排列且平行的第三侧边区域和第四侧边区域;所述第一侧边区域远离所述开口图形图案的侧边到所述开口图形图案的第一距离,小于所述第二侧边区域远离所述开口图形图案的侧边到所述开口图形图案的第二距离。/n
【技术特征摘要】
1.一种掩模板,用于制备彩膜基板,其特征在于,包括:
掩模板基板;
开口图形图案,形成于所述掩模板基板上;
其中,所述掩模板包括多个重复区域,所述重复区域包括所述开口图形图案对应的第一区域、以及围绕所述第一区域的第二区域;所述第二区域包括行方向排列且平行的第一侧边区域和第二侧边区域、以及列方向排列且平行的第三侧边区域和第四侧边区域;所述第一侧边区域远离所述开口图形图案的侧边到所述开口图形图案的第一距离,小于所述第二侧边区域远离所述开口图形图案的侧边到所述开口图形图案的第二距离。
2.如权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述第三侧边区域远离所述开口图形图案的侧边到所述开口图形图案的第三距离,等于所述第四侧边区域远离所述开口图形图案的侧边到所述开口图形图案的第四距离。
3.如权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述第一距离的值小于12微米,所述第二距离的值大于32微米。
4.如权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述第一距离的值小于10微米,所述第二距离的值大于34微米。
5.如权利要求1至4任一项所述的掩模板,其特征在于,在所述行方向上,所述开口图形图案的宽度值为28微米。
6...
【专利技术属性】
技术研发人员:唐延宗,肖军城,赵斌,张鑫,赵军,
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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