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印字西瓜的高效栽培技术制造技术

技术编号:24009 阅读:294 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
印字西瓜的高效栽培技术,是选用优良品种。选用高产抗病、果大质优、适宜本地栽培的推广品种。采用营养钵育苗,3月中旬播种,定植前1周降温炼苗。合理密植,及时移栽。在定植垄上按行距1米挖深15厘米的定植沟2条,株距60-80厘米,亩植330-450株。播种后待瓜苗4叶1心时(35-45天)移栽。栽后用40厘米宽的薄膜以苗株为中心覆盖畦面土堆,护苗保温,促进根系生长。早施追肥,整枝留瓜。植后半个月左右,当主蔓长至50-60厘米时,结合浇水进行追肥,以提高单果重和商品率。选好贴字材料,掌握贴瓜时机。因此,应在西瓜未成熟转色之前的15天进行。贴字经过15-18天,西瓜成熟采摘时揭去,贴瓜表面上会有明显的黄、白色清晰字迹。

【技术实现步骤摘要】
印字西瓜的高效栽培技术的制作方法一、选用优良品种。选用高产抗病、果大质优、适宜本地栽培的推广品种,如丰抗8号、西农8号、华蜜8号、庆红宝等。二、适时播种,培育壮苗。采用营养钵育苗,3月中旬播种,营养土由一半热土和一半捣细过筛的猪粪,每立方米再家0.5千克氦鳞钾复合肥混合而成,晒热后装入9×9厘米的营养钵内,然后把种子插入营养钵内,深度约1厘米,浇足水,搭小拱棚保温。出苗前不通风,不揭膜,要求晴天温度为28-30度,阴天25度。子叶出土后适当降温,遇连续天晴补充水分。定植前1周降温炼苗。三、科学整地,配方施肥。冬前挖东西方向的丰产沟,定植前集中施肥,整平做畦。一般挖宽1.5米、深50厘米的沟,挖出的熟土放在沟一边,生土放在另一边,将生土回沟整平。填沟时每亩施尿素30千克,二铵50千克,硫酸钾20千克,有机肥10000千克,混匀后浇水,最后将熟上填沟,整成高10厘米的垄,以备定植。四、合理密植,及时移栽。在定植垄上按行距1米挖深15厘米的定植沟2条,株距60-80厘米,亩植330-450株。播种后待瓜苗4叶1心时(35-45天)移栽。栽后用40厘米宽的薄膜以苗株为中心覆盖畦面上堆,护苗保温本文档来自技高网...

【技术保护点】
印字西瓜的高效栽培技术、是有适时播种,培育壮苗,采用营养钵育苗,通过科学整地及配方施肥、追肥,整枝留瓜、选好贴字材料等程序。

【技术特征摘要】
印字西瓜的高效栽培技术、是有适时播种,培育壮苗,采用营养钵育苗...

【专利技术属性】
技术研发人员:李希录
申请(专利权)人:李希录
类型:发明
国别省市:37[中国|山东]

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