一种适应低冷真空环境的小面源高温黑体源制造技术

本发明专利技术为了解决现有技术中在典型空间环模设备的环境参数下的高温黑体源缺少通用解决方案的缺陷，而提出一种适应低冷真空环境的小面源高温黑体源，包括：热解石墨发热核心元件、供电回路、多层辐射屏隔热系统；其中热解石墨发热核心元件和供电回路设置在多层辐射屏隔热系统的内部；供电回路用于为热解石墨发热核心元件加电，使热解石墨发热核心元件生成热辐射；多层辐射屏隔热系统用于形成黑体辐射源内部封闭热环境。本发明专利技术适用于对半实物仿真系统的目标照明。

A small area source and high temperature blackbody source suitable for low cold and vacuum environment

【技术实现步骤摘要】
一种适应低冷真空环境的小面源高温黑体源
本专利技术涉及空间红外光环境模拟领域，具体涉及一种适应低冷真空环境的小面源高温黑体源。
技术介绍
随着红外技术的发展，红外寻的制导技术已成为当代国防军事领域的核心科技之一，伴随导弹武器研制过程中半实物仿真系统的需求，产生了红外目标与环境仿真技术。近年来许多武器系统需工作在低冷真空的空间环境中，为了使仿真尽量贴近真实环境，模拟目标的半实物仿真系统也需要工作在低冷真空环境中。典型空间环模设备所提供的环境参数为：背景绝对温度不大于100K；环境气压不高于1.3×10-3Pa。在该环境下应用于红外点源半实物仿真系统的高温黑体源要求如下：1)发热面温度需达到2400K以上；2)温度稳定性好(小于5％/30min)；3)电功耗低；4)无污染；5)低电压工作；6)热平衡时间短；7)漏热少；8)体积小；9)可靠性好。目前在此环境下的光机结构技术已较为成熟，目标运动所涉及的运动机构也已形成产业，唯有应用于该环境下的高温黑体源尚无通用的解决方案。因此，需要一种新的高温黑体源方案来解决现有技术的问题。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种适应低冷真空环境的小面源高温黑体源，其特征在于，包括热解石墨发热核心元件、供电回路、多层辐射屏隔热系统；其中热解石墨发热核心元件和供电回路设置在多层辐射屏隔热系统的内部；供电回路用于为热解石墨发热核心元件加电，使热解石墨发热核心元件生成热辐射；多层辐射屏隔热系统用于形成黑体辐射源内部封闭热环境。/n

【技术特征摘要】
1.一种适应低冷真空环境的小面源高温黑体源，其特征在于，包括热解石墨发热核心元件、供电回路、多层辐射屏隔热系统；其中热解石墨发热核心元件和供电回路设置在多层辐射屏隔热系统的内部；供电回路用于为热解石墨发热核心元件加电，使热解石墨发热核心元件生成热辐射；多层辐射屏隔热系统用于形成黑体辐射源内部封闭热环境。


2.根据权利要求1所述的适应低冷真空环境的小面源高温黑体源，其特征在于，热解石墨发热核心元件(2)具有主发热区(2-2)和元件固定区(2-1)，所述主发热区(2-2)的厚度低于所述元件固定区(2-1)。


3.根据权利要求2所述的适应低冷真空环境的小面源高温黑体源，其特征在于，所述元件固定区(2-1)分布在热解石墨发热核心元件(2)的两端，所述主发热区(2-2)分布在热解石墨发热核心元件(2)的中央。


4.根据权利要求1所述的适应低冷真空环境的小面源高温黑体源，其特征在于，所述供电回路包括主电极(3)、穿舱电极(5)和直流电源；所述主电极通过穿舱电极(5)和直流电源连接。


5.根据权利要求4所述的适应低冷真空环境的小面源高温黑体源，其特征在于，还包...

【专利技术属性】
技术研发人员：李杨，董玥然，张兴，
申请(专利权)人：哈尔滨新光光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：黑龙;23