【技术实现步骤摘要】
一种消影膜及其贴合保护膜的方法
本专利技术涉及光学膜，具体涉及消影膜及其贴合保护膜的方法。
技术介绍
目前市场上湿法涂布型消影膜的组成主要由四部分组成：光学调整层、透明基材层、普通硬化层、耐高温保护层。这类硬化膜产品能够满足目前电容式触摸屏的基本需求。随着各个生产厂家产能及技术的提高，产品的价格逐步下降，上述产品因为加工步骤多，生产效率较低，价格优势不明显。目前各大厂家的加工步骤如：两面硬化层的分别制备(光学调整层、普通硬化层)→耐高温保护膜的制备→消影膜和耐高温保护膜的贴合。如此需要四部才能制备出消影膜的成品。加工步骤繁多，极易出现贴合翘曲、贴合凹凸点、贴合斜纹等问题，严重影响生产良率，极大地影响了国产替代日韩电子材料的进程。因此为了解决上述问题已经刻不容缓。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种消影膜，通过硬化层与光学调整层之间结构的合理搭配平衡透明基材两面的应力，达到防止翘曲的效果。其另一个目的是提供上述消影膜贴合保护膜的方法，进一步优化翘曲、减少凹凸点和斜纹的技术问题。为...
【技术保护点】
1.一种消影膜，其特征在于，包括光学调整层、透明基材层、普通硬化层、以及耐高温保护层，所述普通硬化层厚度比光学调整层的厚度厚0.1～0.5μm，所述透明基材层包含第一光学面和第二光学面。/n
【技术特征摘要】
1.一种消影膜，其特征在于，包括光学调整层、透明基材层、普通硬化层、以及耐高温保护层，所述普通硬化层厚度比光学调整层的厚度厚0.1～0.5μm，所述透明基材层包含第一光学面和第二光学面。
2.根据权利要求1所述的消影膜，其特征在于，所述透明基材的厚度范围为10μm-500μm。
3.根据权利要求1所述的消影膜，其特征在于，所述透明基材的收缩率范围为TD<0.1％，MD<0.5％。
4.根据权利要求1所述的消影膜，其特征在于，所述光学调整层的厚度范围为0.3μm-10μm。
5.根据权利要求1所述的消影膜，其特征在于，所述普通硬化层的厚度范围为0.3μm-10.5μm。
6.一种包含权利要求1-5任一项所述消影膜贴...
【专利技术属性】
技术研发人员：葛建峰，徐金龙，孔祥永，耿龙飞，
申请(专利权)人：湖南中天碧水膜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43
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