掩模制造技术

本实用新型专利技术涉及掩模，掩模具备：包含开口部的第1掩模、位于第1掩模的开口部的第2掩模、和将第1掩模与第2掩模接合的接合部。第1掩模具有：第1面、位于第1面的相反侧的第2面、以及从第1面扩展至第2面并划出开口部的侧面。第2掩模包含位于第1掩模的第1面侧的第3面和位于第1掩模的第2面侧的第4面。另外，第2掩模具有：包含贯通第2掩模的第1孔的有效区域、和位于有效区域的周边的周边区域。接合部具有：至少包含与第1掩模的侧面接触的侧面部分和与第1掩模的第1面接触的第1面部分的第1部分、以及至少包含与第2掩模的周边区域的第4面接触的第4面部分的第2部分。

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【技术实现步骤摘要】
掩模
本公开的实施方式涉及掩模。
技术介绍
近年来，对智能手机、平板电脑等可携带设备中使用的显示装置要求高精细，例如像素密度为400ppi以上。另外，可携带设备中应对超高清(UHD)的需求也在提高，这种情况下，显示装置的像素密度要求为例如800ppi以上。显示装置中，有机EL显示装置因响应性好、耗电低、对比度高而受到关注。作为有机EL显示装置的像素形成方法，已知的方法是，使用形成有以所期望的图案排列的贯通孔的掩模，以所期望的图案形成像素的方法。具体地说，首先，在有机EL显示装置用的基板上组合掩模。接着，使包含有机材料的蒸镀材料通过掩模的贯通孔附着于基板。通过实施这样的蒸镀工序，能够以与掩模的贯通孔的图案对应的图案在基板上形成包含有机材料的像素。为了精密地制作具有高像素密度的有机EL显示装置，优选掩模的厚度小。另一方面，掩模的厚度变小时，掩模的刚性降低，掩模上容易产生褶皱等起伏。因褶皱等起伏而掩模的平坦性受损时，附着于基板的蒸镀材料的位置会偏离设计位置。作为解决这样的课题的方法，已知有如例如专利文献1所公开的那样将形成有2个以上贯本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模，其特征在于，所述掩模具备：/n第1掩模，其包含开口部，具有第1面、位于所述第1面的相反侧的第2面、以及从所述第1面扩展至所述第2面并划出所述开口部的侧面；/n第2掩模，其位于所述第1掩模的所述开口部，包含位于所述第1掩模的所述第1面侧的第3面和位于所述第1掩模的所述第2面侧的第4面，具有有效区域和位于所述有效区域的周边的周边区域，所述有效区域包含贯通所述第2掩模的第1孔；和/n接合部，其将所述第1掩模与所述第2掩模接合，具有第1部分和第2部分，所述第1部分至少包含与所述第1掩模的所述侧面接触的侧面部分和与所述第1掩模的所述第1面接触的第1面部分，所述第2部分至少包含与所述第2掩模...

【技术特征摘要】
20180703 JP 2018-1270761.一种掩模，其特征在于，所述掩模具备：
第1掩模，其包含开口部，具有第1面、位于所述第1面的相反侧的第2面、以及从所述第1面扩展至所述第2面并划出所述开口部的侧面；
第2掩模，其位于所述第1掩模的所述开口部，包含位于所述第1掩模的所述第1面侧的第3面和位于所述第1掩模的所述第2面侧的第4面，具有有效区域和位于所述有效区域的周边的周边区域，所述有效区域包含贯通所述第2掩模的第1孔；和
接合部，其将所述第1掩模与所述第2掩模接合，具有第1部分和第2部分，所述第1部分至少包含与所述第1掩模的所述侧面接触的侧面部分和与所述第1掩模的所述第1面接触的第1面部分，所述第2部分至少包含与所述第2掩模的所述周边区域的所述第4面接触的第4面部分。


2.如权利要求1所述的掩模，其特征在于，所述第2掩模的所述第3面与所述接合部的所述第1部分的所述第1面部分的表面位于同一平面上。


3.如权利要求1或2所述的掩模，其特征在于，所述接合部的所述第1部分的所述第1面部分的宽度为3μm以上。


4.如权利要求1或2所述的掩模，其特征在于，所述接合部的所述第1部分进一步包含与所述第1掩模的所述第2面接触的第2面部分。


5.如权利要求4所述的掩模，其特征在于，所述接合部的所述第1部分的所述第2面部分的宽度为3μm以上。

【专利技术属性】
技术研发人员：广户荣仁，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：新型
国别省市：日本;JP