一种适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂及其清洗方法技术

本发明专利技术提供了一种适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂及其清洗方法，所述清洗剂由以下重量百分比的组分组成：脂肪酰胺与环氧乙烷的缩合物3%~8%，缓蚀剂0.01%~0.25%，消泡剂0.1%~0.3%，光亮剂3%~7%，余量为去离子水。本发明专利技术制备的清洗剂可有效的防止两摩擦表面的直接接触，滑移方式主要为边界滑移，不仅可降低或避免设备表面出现损伤，还也可抑制金属锈蚀，对自动化清洗设备具有一定的保护作用，检修成本低。且该清洗剂组分简单、稳定，不发生分层，不易挥发，不易分解，原料来源广泛，低价易得，成本低；该清洗剂的废液处理成本低，不含硫、氯、苯、重金属等有毒物质，对人体和环境危害性小。有较好的清洗效果，洗后表面无残留，焊点光亮，具有良好的应用前景。

A low cost water-based cleaning agent and its cleaning method for automatic cleaning

【技术实现步骤摘要】
一种适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂及其清洗方法
本专利技术属于电子工业清洗剂
，具体涉及一种适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂及其清洗方法。
技术介绍
科技的不断发展带动了自动化技术的不断进步，至今，自动化设备广泛用于工农业、军事、科学研究、交通运输业、商业、医疗、服务和家电等方面。自动化技术不仅可以把人从繁重的体力劳动、部分脑力劳动以及危险、恶劣的工作环境中解放出来，同时可以扩展人的器官功能，极大地提高劳动生产率，增强人类认知世界和改造世界的能力。自动化设备在使用过程中，部分零件的运转需要油脂润滑，大部分零配件均需暴漏于外界环境中，使得自动化设备在大范围、长时期的使用时外部不可避免的沾染许多污染物，此时大部分的设备均需要进行清理或定期清洗，尤其是精密自动化设备以及对环境清洁度要求较高的自动化加工设备更是需要定期清理，但是自动化设备由于其本身结构的复杂性以及使用环境的不同，较难以实现对其进行手动、彻底的擦洗或水洗清理。然而，现有大多数清洗剂对设备有腐蚀作用，并且两摩擦表面的直接接触，会造成设备表面出现损伤，尤其对于精密自动化设备，可能会导致其检测结果有误，无法继续使用。
技术实现思路
针对现有技术存在的上述不足，本专利技术的目的在于提供了一种适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂及其清洗方法，既能有效对自动化设备进行有效的清洗，又能对设备进行保护。为实现上述目的，本专利技术采用如下方案：一种适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂，由以下重量百分比的组分组成：脂肪酰胺与环氧乙烷的缩合物3%~8%，缓蚀剂0.01%~0.25%，消泡剂0.1%~0.3%，光亮剂3%~7%，余量为去离子水。优选脂肪酰胺与环氧乙烷的缩合物为浓度为1~3%的水溶液，显碱性，具有优异的乳化、净洗、抗静电、耐硬水、脱脂去油污、耐锈蚀等性能，与清洗剂其它成分配伍性好，易溶于水性液体。作为优选的，所述缓蚀剂为钼酸钠和/或苯并三氮唑。这样，同时也可起到钝化作用。作为优选的，所述消泡剂为醚和多种活性助剂精制而成的无硅消泡剂。这样，可有效解决清洁清洗时产生的泡沫，消泡快、抑泡时间长、使用成本低、可消除含水性体系的泡沫。作为优选的，所述光亮剂为乙醇胺、三乙醇胺和失水山梨醇单油酸酯中的一种或任意两种的混合物。若为混合物时，以各自大于1.5%的质量分数混合，无色至淡黄色透明粘稠液体，显碱性，低温时成为无色至淡黄色立方晶系晶体。本专利技术还提供了上述适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂的的清洗方法，包括以下步骤：按照原料组分配制清洗剂，然后将其密封并将所述清洗剂加热至25℃~40℃，再将待洗件置于清洗剂中浸泡20min~35min，将完成浸泡后的待洗件置于超声波中清洗，清洗结束后用常温去离子水漂洗，再将其烘干即可。作为优选的，所述超声清洗时间为10min~25min，超声清洗温度为35℃~60℃，超声波清洗机额定功率大于500W。作为优选的，所述烘干温度为70℃~95℃，时间为0.5~1h。相比现有技术，本专利技术具有如下有益效果：1、本专利技术采用的脂肪酰胺与环氧乙烷的缩合物为一种椰油酰胺聚氧乙烯醚，其水溶液具有减摩和抗磨性能，可以有效的起到润滑作用，且提高了纯水的成膜能力，在摩擦副表面形成了有序排列的多分子膜，其具备一定的承载能力，有效的防止两摩擦表面的直接接触，滑移方式主要为边界滑移。因此可降低或避免设备表面出现损伤，也可抑制金属锈蚀。同时，该缩合物与清洗剂其它成分配伍性好，易溶于水性液体，协同作用具有良好的清洗效果。因此，本专利技术既能有效对自动化设备进行有效的清洗，又能对设备进行保护。2、本专利技术制备的清洗剂可用于电子行业、也可以用于纺织工业，更能用于金属加工业用作除油、脱脂并能抑制金属锈蚀，对自动化清洗设备具有一定的保护作用，检修成本低。且该清洗剂组分简单、稳定，不发生分层，不易挥发，不易分解，原料来源广泛，低价易得，成本低；该清洗剂的废液处理成本低，不含硫、氯、苯、重金属等有毒物质，对人体和环境危害性小。3、采用本专利技术清洗剂有较好的清洗效果，制备简单，清洗工艺易操作，适用范围窗口宽，有较好的清洗效果，洗后表面无残留，焊点光亮。清洗过程中低泡、低挥发性、不会产生有毒气体等，适用于自动化喷淋清洗和超声波清洗。具体实施方式下面结合具体实施例对本专利技术作进一步详细说明。实施例1一种适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂由如下重量百分比组分组成：脂肪酰胺与环氧乙烷的缩合物（浓度为1~3%的水溶液）3%，钼酸钠0.01%，醚和多种活性助剂精制而成的无硅消泡剂0.1%，三乙醇胺3%，余量为去离子水。利用精密天平按照所述的水基清洗剂所含的成分和含量比例分别量取各成分原料放入反应釜，在常温常压下（可根据需要加温到35℃左右）持续搅拌至完全混合后停止搅拌，即得到所述水基清洗剂。其制备方法包括以下步骤：1）将配制好的水基清洗剂密封放置，并将其水浴加热至25℃；2）将待清洗的自动化设备置于清洗剂中浸泡35min，再将其置于超声波中清洗，清洗时间为25min，清洗温度为35℃，超声波额定功率大于500W。3）清洗完成后可用常温去离子水漂洗（可根据需要加热到30℃左右）3~5次，每次漂洗时间不低于1min。4）完成以上步骤后，将漂洗完成的清洗件置于干烘烤箱1h后取出，烘烤温度70℃，清洗完成。实施例2一种适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂由如下重量百分比组分组成：脂肪酰胺与环氧乙烷的缩合物（浓度为1~3%的水溶液）3.5%，苯并三氮唑0.05%，醚和多种活性助剂精制而成的无硅消泡剂0.12%，三乙醇胺3.5%，余量为去离子水。利用精密天平按照所述的水基清洗剂所含的成分和含量比例分别量取各成分原料放入反应釜，在常温常压下（可根据需要加温到35℃左右）持续搅拌至完全混合后停止搅拌，即得到所述水基清洗剂。其制备方法包括以下步骤：1）将配制好的水基清洗剂密封放置，并将其水浴加热至30℃；2）将待清洗的自动化设备置于清洗剂中浸泡25min，再将其置于超声波中清洗，清洗时间为15min，清洗温度为40℃，超声波额定功率大于500W。3）清洗完成后可用常温去离子水漂洗（可根据需要加热到30℃左右）3~5次，每次漂洗时间不低于1min。4）完成以上步骤后，将漂洗完成的清洗件置于干烘烤箱0.5h后取出，烘烤温度75℃，清洗完成。实施例3一种适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂由如下重量百分比组分组成：脂肪酰胺与环氧乙烷的缩合物（浓度为1~3%的水溶液）4%，苯并三氮唑0.08%，醚和多种活性助剂精制而成的无硅消泡剂0.15%，失水山梨醇单油酸酯4%，余量为去离子水。利用精密天平按照所述的水基清洗剂所含的成分和含量比例分别量取各成分原料放入反应釜，在常温常压下（可根据需要加温到35℃左右）持续搅拌至完全混合后停止搅拌，即得到所述水基清洗剂。其制备方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂，其特征在于，由以下重量百分比的组分组成：脂肪酰胺与环氧乙烷的缩合物3%~8%，缓蚀剂0.01%~0.25%，消泡剂0.1%~0.3%，光亮剂3%~7%，余量为去离子水。/n

【技术特征摘要】
1.一种适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂，其特征在于，由以下重量百分比的组分组成：脂肪酰胺与环氧乙烷的缩合物3%~8%，缓蚀剂0.01%~0.25%，消泡剂0.1%~0.3%，光亮剂3%~7%，余量为去离子水。


2.根据权利要求1所述适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂，其特征在于，所述缓蚀剂为钼酸钠和/或苯并三氮唑。


3.根据权利要求1所述适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂，其特征在于，所述消泡剂为醚和多种活性助剂精制而成的无硅消泡剂。


4.根据权利要求1所述适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂，其特征在于，所述缩合物的浓度为1~3%的水溶液。


5.根据权利要求1所述适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂，其特征在于，所述光亮剂为乙醇胺、三乙醇胺和失水...

【专利技术属性】
技术研发人员：甘贵生，曹华东，刘歆，江兆琪，杨明波，甘树德，吴懿平，
申请(专利权)人：重庆理工大学，
类型：发明
国别省市：重庆;50