本发明专利技术提供一种炉体冷却装置及半导体加工设备，炉体冷却装置设置于炉体外部，且与炉体相连通；冷却装置包括抽气机构、冷却机构、风机以及气体回送机构；抽气机构，用于将炉体中的待处理气体抽出并输送至冷却机构；冷却机构，用于接收来自抽气机构的待处理气体并对其进行冷却处理，形成处理后的气体；气体回送机构，用于将处理后的气体传输回送至炉体中；风机，用于向抽气机构及气体回送机构提供动力。本发明专利技术提供的炉体冷却装置及半导体加工设备，能够提高半导体加工设备的稳定性，提高产品的工艺质量，而且还能够避免清洁空气的浪费，节约成本，并且还能够避免净化间的污染。
Furnace cooling device and semiconductor processing equipment
【技术实现步骤摘要】
炉体冷却装置及半导体加工设备
本专利技术涉及半导体设备
，具体地，涉及一种炉体冷却装置及半导体加工设备。
技术介绍
在制造半导体集成电路时，通常使用立式热处理装置对批量的晶圆进行化学气相沉积(CVD)、扩散、氧化和退火等热处理工艺，而立式热处理装置在热处理工艺结束后的冷却速度，是影响立式热处理装置生产效率的重要因素之一。如图1所示，现有的立式热处理装置通过进气口11与净化间连接，当热处理工艺结束后，净化间内的清洁空气经过进气口11进入进气通道12中，再经由在竖直方向上分布的多个喷嘴13吹入至工艺容器14外部的空间15中，此时温度较低的清洁空气将会带走空间15中的热量，并经由排气口16和排气通道17排放到立式热处理装置外，实现立式热处理装置的快速降温。但是，现有的立式热处理装置在快速降温的过程中，需要从净化间内吸入大量的清洁空气，使得净化间短时间内损失大量清洁空气，这就会造成净化间内的压力降低，导致其它设备的压力失衡，从而影响产品的工艺质量。而且，对净化间内大量的清洁空气的使用，还会造成浪费，增加净化间动力的系统的负担。并且，由于净化间与立式热处理内部连通，使得立式热处理内部产生的颗粒可能会飞散到净化间，对净化间造成污染。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种炉体冷却装置及半导体加工设备，其能够提高半导体加工设备的稳定性，提高产品的工艺质量，而且还能够避免清洁空气的浪费，节约成本，并且还能够避免净化间的污染。为实现本专利技术的目的而提供一种炉体冷却装置，所述冷却装置设置于所述炉体外部，且与所述炉体相连通；所述冷却装置包括抽气机构、冷却机构、风机以及气体回送机构；所述抽气机构，用于将所述炉体中的待处理气体抽出并输送至所述冷却机构；所述冷却机构，用于接收来自所述抽气机构的待处理气体并对其进行冷却处理，形成处理后的气体；所述气体回送机构，用于将所述处理后的气体传输回送至所述炉体中；所述风机，用于向所述抽气机构及所述气体回送机构提供动力。优选的，所述抽气机构一端连接所述炉体的排气口；另一端连接所述冷却机构的进气口，用于将所述炉体中的热气抽至所述冷却机构中；所述风机设置于所述冷却机构与所述气体回送机构之间；所述气体回送机构一端连接所述风机的出风口，另一端连接开设在所述炉体侧壁上的一个或者多个炉体进气口。优选的，所述气体回送机构包括多个送气支路；当所述炉体侧壁上开设有多个炉体进气口时，每个所述送气支路均连接一所述炉体进气口；所述炉体进气口与所述送气支路一一对应设置；位于所述炉体侧壁上的多个所述炉体进气口沿所述炉体的轴向设置。优选的，所述气体回送机构还包括设置在所述送气支路上的调节阀，所述调节阀用于调节所述送气支路流入至所述炉体的气流量。优选的，所述气体回送机构还包括泄压管路以及设置在所述泄压管路上的泄压阀；所述泄压管路一端连接所述气体回送机构的排气口，另一端连接所述气体回送机构的进气口；所述泄压阀用于调节所述气体回送机构传输回送至所述炉体中的所述冷气的流量。优选的，所述气体回送机构还包括旁通组件，所述旁通组件包括排气旁通部件和进气旁通部件，所述排气旁通部件用于排出所述抽气机构抽出的所述待处理气体，所述进气旁通部件用于向所述炉体中输送冷却气体。优选的，所述排气旁通部件包括排气旁路和设置在所述排气旁路上的排气通断阀；所述排气通断阀用于控制所述排气旁路的通断；所述进气旁通部件包括进气旁路和设置在所述进气旁路上的进气通断阀，所述进气通断阀用于控制所述进气旁路的通断；所述排气旁路一端与所述抽气机构连接，用于将所述抽气机构抽出的所述待处理气体排出至所述炉体冷却装置外部；所述进气旁路一端与所述炉体的进气口连接，另一端与位于所述炉体冷却装置外部的冷却气体源连接；所述进气旁路用于向所述炉体中输送所述冷却气体。优选的，所述进气旁路通过所述气体回送机构与所述炉体的进气口连接，所述排气旁路通过所述气体回送机构与所述抽气机构连接；所述气体回送机构中设置有回送通断阀，所述回送通断阀用于控制所述抽气机构与所述炉体的进气口的通断。优选的，所述气体回送机构包括多个送气支路；当所述炉体侧壁上仅开设有一个炉体进气口时，每个所述送气支路均连接所述炉体进气口。本专利技术还提供一种半导体加工设备，包括炉体以及如本专利技术提供的所述炉体冷却装置；所述炉体冷却装置与所述炉体相连通，用于对所述炉体内的待处理气体进行冷却处理。本专利技术具有以下有益效果：本专利技术提供的炉体冷却装置，设置于炉体外部，且与炉体相连通，借助风机向抽气机构及气体回送机构提供动力，将炉体中的待处理气体抽出并输送至冷却机构，并将冷却机构对待处理气体进行冷却处理后，形成的处理后的气体传输回送至炉体中，以对炉体内部进行降温，即，本专利技术提供的炉体冷却装置在对炉体进行冷却时，向炉体中传输回送的处理后的气体，是通过对从炉体中抽出的待处理气体进行冷却处理而形成的，因此，不需要使用净化间以及净化间中的清洁空气，从而能够避免由于净化间内的清洁空气被大量吸入，使得净化间内的压力降低，导致其它设备的压力失衡的情况发生，进而提高半导体加工设备的稳定性，提高产品的工艺质量。而且还能够避免清洁空气的浪费，从而节约成本。并且还能够避免净化间与炉体内部的连通，从而避免净化间的污染。本专利技术提供的半导体加工设备，借助本专利技术提供的炉体冷却装置对炉体的内部进行降温时，不需要使用净化间以及净化间中的清洁空气，从而能够避免由于净化间内的清洁空气被大量吸入，使得净化间内的压力降低，导致其它设备的压力失衡的情况发生，进而提高半导体加工设备的稳定性，提高产品的工艺质量。而且还能够避免清洁空气的浪费，从而节约成本。并且还能够避免净化间与炉体内部的连通，从而避免净化间的污染。附图说明图1为现有的立式热处理装置的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的炉体冷却装置的结构示意图。附图标记说明：11-进气口；12-进气通道；13-喷嘴；14-工艺容器；15-空间；16-排气口；17-排气通道；21-立式炉；211-炉体；212-炉腔；213-间隙；221-排气管路；222-进气管路；23-冷却机构；24-风机；251-送气支路；252-调节阀；261-泄压管路；262-泄压阀；271-回送通断阀；272-排气旁路；273-进气旁路；274-排气通断阀；275-进气通断阀；28-连接管路；29-风门。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图来对本专利技术提供的炉体冷却装置及半导体加工设备进行详细描述。如图2所示，本实施例提供一种炉体211冷却装置，冷却装置设置于炉体211外部，且与炉体211相连通；冷却装置包括抽气机构、冷却机构23、风机24以及气体回送机构；抽气机构，用于将炉体211中的待处理气体抽出并输送至冷却机构23；冷却机构23，用于接收来本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种炉体冷却装置，其特征在于，所述冷却装置设置于所述炉体外部，且与所述炉体相连通；/n所述冷却装置包括抽气机构、冷却机构、风机以及气体回送机构；/n所述抽气机构，用于将所述炉体中的待处理气体抽出并输送至所述冷却机构；/n所述冷却机构，用于接收来自所述抽气机构的待处理气体并对其进行冷却处理，形成处理后的气体；/n所述气体回送机构，用于将所述处理后的气体传输回送至所述炉体中；/n所述风机，用于向所述抽气机构及所述气体回送机构提供动力。/n
【技术特征摘要】
1.一种炉体冷却装置，其特征在于，所述冷却装置设置于所述炉体外部，且与所述炉体相连通；
所述冷却装置包括抽气机构、冷却机构、风机以及气体回送机构；
所述抽气机构，用于将所述炉体中的待处理气体抽出并输送至所述冷却机构；
所述冷却机构，用于接收来自所述抽气机构的待处理气体并对其进行冷却处理，形成处理后的气体；
所述气体回送机构，用于将所述处理后的气体传输回送至所述炉体中；
所述风机，用于向所述抽气机构及所述气体回送机构提供动力。
2.根据权利要求1所述的炉体冷却装置，其特征在于，所述抽气机构一端连接所述炉体的排气口；另一端连接所述冷却机构的进气口，用于将所述炉体中的热气抽至所述冷却机构中；
所述风机设置于所述冷却机构与所述气体回送机构之间；
所述气体回送机构一端连接所述风机的出风口，另一端连接开设在所述炉体侧壁上的一个或者多个炉体进气口。
3.根据权利要求2所述的炉体冷却装置，其特征在于，所述气体回送机构包括多个送气支路；当所述炉体侧壁上开设有多个炉体进气口时，每个所述送气支路均连接一所述炉体进气口；所述炉体进气口与所述送气支路一一对应设置；
位于所述炉体侧壁上的多个所述炉体进气口沿所述炉体的轴向设置。
4.根据权利要求3所述的炉体冷却装置，其特征在于，所述气体回送机构还包括设置在所述送气支路上的调节阀，所述调节阀用于调节所述送气支路流入至所述炉体的气流量。
5.根据权利要求2所述的炉体冷却装置，其特征在于，所述气体回送机构还包括泄压管路以及设置在所述泄压管路上的泄压阀；所述泄压管路一端连接所述气体回送机构的排气口，另一端连接所述气体回送机构的进气口；所述泄压阀用于调节...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵宏图，杨帅，杨慧萍，王立卡，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。