图案形成方法、层叠体及触摸面板制造方法技术

本发明专利技术提供一种图案形成方法、层叠体或触摸面板制造方法，所述图案形成方法依次具有：准备在两面具有对于曝光波长为透明的被蚀刻层的、对于曝光波长为透明的基材的工序；在上述基材的两面的上述被蚀刻层上分别形成对于曝光波长而言的光密度为0.50以上且2.50以下的感光性树脂层的工序；对上述感光性树脂层进行图案曝光的工序；通过对上述感光性树脂层进行显影而在两面形成抗蚀剂图案的工序；去除未被上述抗蚀剂图案被覆的部分的上述被蚀刻层的工序；及剥离上述抗蚀剂图案的工序。

Pattern forming method, lamination and touch panel manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图案形成方法、层叠体及触摸面板制造方法
本专利技术涉及一种图案形成方法、层叠体及触摸面板制造方法。
技术介绍
以往，已知有通过光刻法对基材上的被蚀刻层进行图案加工的图案形成方法。在此，近年来，有时将形成于基材的两面上的被蚀刻层作为各自独立的图案而进行图案加工。例如，在触摸面板的领域中，为了制造触摸传感器用配线，有时进行如下加工：在基材的其中一面上对X轴方向的位置检测用电极进行图案加工，且在基材的另一面上对Y轴方向的位置检测用电极进行图案加工等。作为在基材的两面形成不同形状的图案的方法，已知有专利文献1～专利文献3中所记载的方法。在专利文献1中记载有：“一种触摸传感器的形成方法，其具备：在具有UV截止性能的基材膜的两面形成遮光性金属层，在上述遮光性金属层上分别形成第1感光性树脂层的工序；对上述遮光性金属层上的上述第1感光性树脂层，在两面隔着不同的图案掩膜，照射UV光的曝光工序；通过对所曝光的上述第1感光性树脂层进行显影而形成抗蚀剂图案的工序；通过去除未被上述抗蚀剂图案被覆的部分的上述遮光性金属层来形成引绕电路图案的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图案形成方法，其依次具有：/n准备在两面具有对于曝光波长为透明的被蚀刻层的、对于曝光波长为透明的基材的工序；/n在所述基材的两面的所述被蚀刻层上分别形成对于曝光波长而言的光密度为0.50以上且2.50以下的感光性树脂层的工序；/n对所述感光性树脂层进行图案曝光的工序；/n通过对所述感光性树脂层进行显影而在两面形成抗蚀剂图案的工序；/n去除未被所述抗蚀剂图案被覆的部分的所述被蚀刻层的工序；及/n剥离所述抗蚀剂图案的工序。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170728 JP 2017-1471521.一种图案形成方法，其依次具有：
准备在两面具有对于曝光波长为透明的被蚀刻层的、对于曝光波长为透明的基材的工序；
在所述基材的两面的所述被蚀刻层上分别形成对于曝光波长而言的光密度为0.50以上且2.50以下的感光性树脂层的工序；
对所述感光性树脂层进行图案曝光的工序；
通过对所述感光性树脂层进行显影而在两面形成抗蚀剂图案的工序；
去除未被所述抗蚀剂图案被覆的部分的所述被蚀刻层的工序；及
剥离所述抗蚀剂图案的工序。


2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中，
所述曝光的工序中的曝光量为10(n-0.5)mJ/cm2以上且10(n+1.5)mJ/cm2以下，
n表示所述感光性树脂层的对于曝光波长而言的光密度。


3.根据权利要求2所述的图案形成方法，其中，
所述曝光的工序中的曝光量为10nmJ/cm2以上且10(n+1.0)mJ/cm2以下。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的图案形成方法，其中，
所述感光性树脂层的膜厚为8.0μm以下。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的图案形成方法，其中，
所述曝光的工序中的曝光光在波长365nm处具有极大波长。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的图案形成方法，其中，
形成所述感光性树脂层的工序为将转印膜层压于所述被蚀刻层的工序，所述转印膜具有临时支承体及在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：汉那慎一，有富隆志，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP