当前位置: 首页 > 专利查询>ESSENLIX公司专利>正文

扩增测定制造技术

技术编号:23774424 阅读:57 留言:0更新日期:2020-04-12 03:14
提供了一种使用装置的均相测定方法。在一些实施方案中,该装置包含一对可以开放和闭合的板。将样品置于两块板之间。在一些实施方案中,将闭合构造中的样品的厚度、标记的浓度和扩增表面的扩增系数配置成使结合在扩增表面上的标记可见,而无需洗掉未结合的标记。

Amplification assay

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】扩增测定交叉引用本申请要求于2017年2月9日提交的美国临时申请序列号62/457,084(ESX-017PRV)、于2017年2月15日提交的美国临时申请序列号62/459,267(ESX-017PRV2)、于2017年2月9日提交的美国临时申请序列号62/456,904(ESX-027PRV)、于2017年2月15日提交的美国临时申请序列号62/459,303(ESX-027PRV2)、于2017年2月9日提交的美国临时申请序列号62/457,075(ESX-035PRV)、于2017年2月16日提交的美国临时申请序列号62/460,052(ESX-035PRV2)和于2017年2月16日提交的美国临时申请序列号62/460,083(ESX-035PRV3)的权益,这些申请全部并入本文。
其中,本专利技术涉及进行生物和化学测定的装置和方法。
技术介绍
在生物和化学测定(例如,诊断测试)中,通常需要快速和简单地测量样品或部分样品的体积、改变形状和/或检测分析物。在典型的测定(例如,免疫测定、核酸测定和比色测定等)方法中不可避免地需要孵育和清洗循环的多个步骤。因此,整个测定通常花费数小时到数天来获取测定结果,并且难以适应高通量和自动化。
技术实现思路
以下简要概述并不旨在包含本专利技术的所有特征和方面。一方面,本专利技术涉及可改进样品中分析物检测的方法和系统。分析物尤其包含蛋白质、肽、DNA、RNA、核酸、寡核苷酸、小分子、细胞、具有不同大小和形状的纳米颗粒。检测包含检测目标分析物的存在、量化浓度和确定状态。另一方面,本专利技术涉及QMAX装置与QMAX表面上的表面扩增层的组合,其中表面扩增层依赖于标记距离扩增表面的距离来扩增标记的光信号:当标记在扩增表面上时为高扩增,但当标记离扩增表面几微米远时为弱扩增或无扩增。QMAX与扩增表面的组合提供了若干优点,单独或一起地,包括但不限于:(1)允许信号分子检测获得像素化读数(例如,数字读数),(2)用一次性集总读数或数字读数的高检测灵敏度,和(3)不需要任何清洗或打开QMAX卡的同质测定(例如,单滴样品,然后读取结果)。此外,QMAX卡使得样品厚度非常薄而均匀,使得总测定时间(小于60秒)快速并且测试变化小。例如,本专利技术已经在小于60秒内实验证明了一次接触同质测定。在另一方面,本专利技术涉及该方法与QMAX装置的组合,其可以提高QMAX的性能(检测极限)。在另一方面,本专利技术涉及不需要任何分离步骤或清洗步骤的无清洗同质测定方法,除了加速过程和量化参数(例如,分析物浓度、样品体积等)的性能之外,简化了样品收集和测量过程、处理小体积的样品、在短时间内(例如,小于一分钟)进行整个测定、允许自动分析结果(例如,通过移动电话),并且允许非专业人员自己进行测定。例如,液体生物样品,例如,血液、唾液或尿液,其在许多情况下可以具有在0.5μl至100μl范围内的未知体积,在同质测定中可以使用本专利技术的装置和方法进行分析,其中术语“同质测定”是指在不存在将样品的一些组分与其他组分分离的任何清洗步骤或纯化步骤的情况下对“纯”样品进行的测定。可以极快地进行该测定,在一些实施方案中,可以在将板置于闭合构造的少至30秒(例如,1分钟)内读取读数。这样,从将样品放置在装置的一个板上,将板闭合在一起,读取板和测定样品中分析物的量的整个方法可以在几分钟内完成。此外,如下文将更详细描述的,该测定也是非常灵敏的并且具有500fM(使用毛估信号方法)和50fM(使用像素化计数方法)的灵敏度。附图说明本领域技术人员将理解,下面描述的附图仅用于说明的目的。附图不旨在以任何方式限制本专利技术的范围。附图不是完全按比例绘制的。在给出实验数据点的图中,连接数据点的线仅用于引导观察数据,而没有其他目的。图1示出了QMAX(Q:量化;M:扩增;A:加入试剂;X:加速;也称为压缩调节开放流(CROF))装置的实施方案,其包含第一板和第二板。图(A)示出了当这些板分开时处于开放构造的这些板的透视图;图(B)示出了在开放构造下将样品沉积在第一板上的透视图和截面图;图(C)是处于闭合构造的QMAX装置的透视图和截面图。图2示出了用于样品分析的系统的实施方案,其包含QMAX装置和读取装置。图3示出了读取图像之后像素化分析(计数)过程的实施方案的流程图。图4是示出了通过像素化读数方法读取的使用QMAX装置进行测定的示例性过程中的基本步骤的流程图。图5示出了QMAX装置的示例性实施方案的第一板和第二板上的结构的SEM,该QMAX装置采用免洗同质测定。图6示出了用于像素化读数的QMAX的示例性实施方案的结合位点板(第一板-M-板)和储存板(第二板-X-板)的制备的示意图。图7示出了在M-板底物上具有IR-800标记的QMAX人IgG夹层体免疫测定的实施例,(a)其通过一次性集总读数法(传统读数法)测量;(b)用高灵敏度电子倍增电荷耦合装置(EMCCD)测量,这是一种像素化读数方法。图8示出了金底物上40nm荧光珠粒的实施例照片,(a)通过高灵敏度电子倍增电荷耦合装置(EMCCD)测量,(b)通过数字单透镜反射(DSLR)照相机测量,两者都是像素化读数。图9示出了玻璃底物上40nm荧光珠粒的实施例照片,(a)通过高灵敏度电子倍增电荷耦合装置(EMCCD)测量,(b)通过数字单透镜反射(DSLR)照相机测量,两者都是像素化读数。图10示出了金底物上1μm荧光珠粒的实施例照片,(a)通过高灵敏度电子倍增电荷耦合装置(EMCCD)测量,和(b)通过数字单透镜反射(DSLR)照相机测量,两者都是像素化读数。图11示出了玻璃底物上1μm荧光珠粒的实施例照片,(a)用高灵敏度电子倍增电荷耦合装置(EMCCD)测量,和(b)用数字单透镜反射(DSLR)照相机测量,两者都是像素化读数。图12示出了在金底物上用40nm珠粒标记的QMAX人IgG直接免疫测定的实施例,(a)通过一次性集总读数法(传统读数法)测量;和(b)用高灵敏度电子倍增电荷耦合装置(EMCCD)测量,这是一种像素化读数方法。图13是QMAX(Q:量化;M:扩增;A:加入试剂;X:加速;也称为压缩调节开放流(CROF))装置的示范性实施方案的示意图,其采用无清洗同质测定。图14示出了QMAX装置的示例性实施方案的第一板和第二板上的结构的SEM,该QMAX装置采用免洗同质测定。图15示出了来自商业的有限差分时域(FDTD)模拟软件的第二板结构附近的电场平方|E|2的二维图的模拟。图16是示出了使用免洗同质QMAX装置进行免疫测定的示例性方法中的基本步骤的流程图。图17示出了用于同质QMAX的示范性实施方案的结合位点板(第一板)和储存板(第二板)的制备的示意图。图18示出了处于闭合构造的QMAX装置的示例性实施方案的示意图。图19示出了与正常QMAX人IgG夹层体免疫测定相比,同质QMAX人IgG夹层体免疫测定的标准曲线的实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于分析样品的装置,包含:/n第一板、第二板、表面扩增层和捕获剂,其中/n(a)所述第一板和所述第二板可相对于彼此移动成为不同的构造,并且在其各自的表面上具有用于接触包含目标分析物的样品的样品接触区域,/n(b)所述表面扩增层位于其中一个所述样品接触区上,/n(c)所述捕获剂固定在所述表面扩增层上,其中所述捕获剂特异性结合所述目标分析物,/n其中所述表面扩增层扩增来自所述目标分析物或附着到目标分析物的标记的光信号,当所述光信号接近所述表面扩增层时比它们相距微米或更大时强得多,/n其中所述构造之一是开放构造,其中两个板的内表面之间的平均间距为至少200μm;并且/n其中所述构造中的另一个是闭合构造,其中所述样品的至少一部分在所述两个板之间并且所述板的内表面之间的平均间距小于200μm。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170209 US 62/456,904;20170209 US 62/457,075;20171.一种用于分析样品的装置,包含:
第一板、第二板、表面扩增层和捕获剂,其中
(a)所述第一板和所述第二板可相对于彼此移动成为不同的构造,并且在其各自的表面上具有用于接触包含目标分析物的样品的样品接触区域,
(b)所述表面扩增层位于其中一个所述样品接触区上,
(c)所述捕获剂固定在所述表面扩增层上,其中所述捕获剂特异性结合所述目标分析物,
其中所述表面扩增层扩增来自所述目标分析物或附着到目标分析物的标记的光信号,当所述光信号接近所述表面扩增层时比它们相距微米或更大时强得多,
其中所述构造之一是开放构造,其中两个板的内表面之间的平均间距为至少200μm;并且
其中所述构造中的另一个是闭合构造,其中所述样品的至少一部分在所述两个板之间并且所述板的内表面之间的平均间距小于200μm。


2.一种用于分析样品的装置,包含:
第一板、第二板、表面扩增层和捕获剂,其中
(a)所述第一板和所述第二板可相对于彼此移动成为不同的构造,并且在其各自的表面上具有用于接触包含目标分析物的样品的样品接触区域,
(b)所述表面扩增层位于其中一个所述样品接触区上,
(c)所述捕获剂固定在所述表面扩增层上,其中所述捕获剂特异性结合所述目标分析物,
其中所述表面扩增层扩增来自附着于所述目标分析物的标记的光信号,当所述光信号接近所述表面扩增层时比其在微米之外或更远时强得多,
其中所述构造之一是开放构造,其中所述两个板的内表面之间的平均间距为至少200μm;
其中所述构造中的另一个是闭合构造,其中所述样品的至少一部分在所述两个板之间并且所述板的内表面之间的平均间距小于200μm;
其中所述闭合构造中的所述样品的厚度、所述闭合构造中的所述样品中溶解的所述标记的浓度和所述表面扩增层的扩增系数被配置成使得直接或间接结合到所述捕获剂的任何标记在所述闭合构造中在不洗掉未结合的标记的情况下是可见的。


3.一种设备,包含前述任一权利要求所述的装置和用于读取所述装置的读取器。


4.一种使用前述任一权利要求所述的装置的均相测定方法,其中将闭合构造中的样品的厚度,标记的浓度和扩增表面的扩增系数配置成使得结合在扩增表面上的标记在不洗掉未结合的标记的情况下可见。


5.如权利要求4所述的方法,其中所述方法通过以下步骤进行:
获得权利要求1-3任一所述的装置,
当板处于开放构造时,将样品沉积在一个或两个板上;
将板闭合至闭合构造;以及
用读取装置读取样品接触区域以产生信号图像。


6.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中结合到所述扩增表面的所述标记在小于60秒内可见。


7.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述方法是均相测定,其中在不使用清洗步骤来移除未结合到所述扩增表面的任何生物材料或标记的情况下读取所述信号。


8.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中通过像素化读取方法读取结合到所述扩增表面的所述标记。


9.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中通过一次性集总读取方法读取结合到所述扩增表面的所述标记。


10.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述测定具有0.1nM或更小的检测灵敏度。


11.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述方法在读取之前通过海绵移除未结合到所述扩增表面的生物材料或标记。


12.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述信号扩增层包括D2PA。


13.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述信号扩增层包括金属材料层。


14.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述信号扩增层包含连续金属膜,所述连续金属膜由选自由金、银、铜、铝、其合金及其组合组成的群组的材料制成。


15.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述不同金属层局部增强或充当反射器,或两者兼而有之,以增强光信号。


16.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述信号扩增层包括金属材料层和位于所述金属材料层顶部的介电材料层,其中所述捕获剂位于所述介电材料上。


17.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述金属材料层是均匀金属层、纳米结构化金属层、或组合。


18.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中通过等离子体增强来扩增信号。


19.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中测定包括通过拉曼散射检测标记。


20.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述捕获剂是抗体。


21.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述捕获剂是多核苷酸。


22.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述装置进一步包含固定在其中一块板上的间隔件,其中所述间隔件在所述闭合构造中调节所述第一板与所述第二板之间的间距。


23.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中调节所述表面扩增层的扩增系数以使得来自直接或间接结合到所述捕获剂的单个标记的光信号可见。


24.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中调节所述表面扩增层的扩增系数以使来自直接或间接结合到所述捕获剂的单个标记的光信号可见,其中分别地计数结合到所述捕获剂的可见的单个标记。


25.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中在所述闭合构造中所述第一板与所述第二板之间的间距被配置成使得所述目标分析物与所述捕获剂的饱和结合时间为300秒或更短。


26.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中在所述闭合构造中所述第一板与所述第二板之间的间距被配置成使得所述目标分析物与所述捕获剂的饱和结合时间为60秒或更短。


27.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中调节所述表面扩增层的扩增系数以使来自单个标记的光信号可见。


28.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述捕获剂是核酸。


29.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述捕获剂是蛋白质。


30.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述捕获剂是抗体。


31.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述第二板的样品接触区域具有试剂储存位点,且所述储存位点在所述闭合构造中大致位于所述第一板上的所述结合位点上方。


32.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述试剂储存位点包含结合到所述目标分析物的检测剂。


33.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述检测剂包含所述标记。


34.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述捕获剂和所述检测剂均结合到所述目标分析物以形成包含所述标记的夹层体。


35.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述信号扩增层包含金属材料层。


36.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述信号扩增层包括金属材料层和位于所述金属材料层顶部的介电材料层,其中所述捕获剂位于所述介电材料上。


37.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述金属材料层是均匀金属层、纳米结构化金属层、或组合。


38.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述扩增层包括金属材料层和位于所述金属材料层顶部上的介电材料层,其中所述捕获剂在所述介电材料上,且所述介电材料层具有的厚度为0.5nm、1nm、5nm、10nm、20nm、50nm、00nm、200nm、500nm、1000nm、2μm、3μm、5μm、10μm、20μm、30μm、50μm、100μm、200μm、500μm或在任何两个值的范围内。


39.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述方法进一步包含量化所述图像的区域中的信号以提供对所述样品中的一种或一种以上分析物的数量估计。


40.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中所述方法包含识别并计数所述图像的区域中分析物与所述捕获剂之间的单个结合事件,从而提供对所述样品中一种或一种以上分析物的数量估计。


41.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中识别和计数步骤包含:(1)确定背景信号的局部强度,(2)确定一个标记、两个标记、三个标记和四个或更多个标记的局部信号强度;以及(3)确定成像区域中的标记总数。


42.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中识别和计数步骤包含:(1)确定背景信号的局部光谱,(2)确定一个标记、两个标记、三个标记和四个或更多个标记的局部信号光谱;以及(3)确定成像区域中的标记总数。


43.如前述任一权利要求所述的装置或方法,其中识别和计数步骤包含:(1)确定背景信号的局部拉曼特征,(2)确定一个标记、两个标记、三个标记和四个...

【专利技术属性】
技术研发人员:斯蒂芬·Y·周丁惟李骥戚骥张玙璠
申请(专利权)人:ESSENLIX公司
类型:发明
国别省市:美国;US

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1