一种替代激光直接成形技术的装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种替代激光直接成形技术的装置，基体样品通过传输带进入准备室，准备室内有吹干系统保证样品的干净和干燥；基体样品干燥后通过传送带进入预抽室；抽气完成后通过传送带进入缓冲室，缓冲室通过分子泵进行高真空抽气；最后进入处理室，在处理室内进行高能离子注入和低能离子束沉积操作，最后进行样品收集，完成处理流程。本发明专利技术提供了一种替代激光直接成形技术的装置，该方法基于高能离子束技术、低能离子束技术以及相关掩模技术形成具备一定功能的金属天线。通过该方法制备的天线，具有成本低、无需激光粉、耐腐蚀性好、结合强度高、膜层一致性好、表面粗糙度低、环保等特点。

A device to replace laser direct forming technology

【技术实现步骤摘要】
一种替代激光直接成形技术的装置
本专利技术涉及天线制备
，更具体的说是涉及一种替代激光直接成形技术的装置。
技术介绍
随着人们对智能手机外观的关注度越来越高，目前各手机厂家都在手机外观上不断创新。手机越做越薄，金属使用越来越多，这给手机天线的调试带来很大挑战，由于目前智能手机的使用频段都在5个以上，更加大了天线设计的难度。目前常用的天线实现技术为LDS天线。LDS天线是在成型的塑料支架上，利用激光镭射技术直接在支架上化镀形成金属天线pattern。LDS技术实现的关键因素包括三个，首要必须有对镭雕激光敏感的LDS专用料作为基材；二是电路设计及激光雕刻系统；最后是良好有效化镀系统及过程控制。目前的LDS天线技术有三个重大缺点：一是其需要在聚合物表面涂覆或者掺杂激光粉，在激光扫描过程中能够形成金属核，掺杂激光粉技术难度较高；二是其形成的线路表面粗糙度太大，严重影响信号的传输和增加损耗；三是在形成金属核后还需经过化学镀进行图形加厚，环保性差。因此，如何提供一种新的天线制备技术是本领域技术人员亟需解决的问题。<br>
技术实现思路
<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种替代激光直接成形技术的装置，其特征在于，包括：预抽室、缓冲室和处理室；预留样品依次穿过所述预抽室、所述缓冲室和所述处理室；所述预抽室和所述缓冲室维持室内真空度；所述预抽室、所述缓冲室和所述处理室的预留样品通道尺寸与所述预留样本相同；所述处理室顶部安装有高能离子束系统和低能离子束系统；所述高能离子束系统安装在靠近所述缓冲室的一端，所述预留样品依次通过所述处理室进行高能离子注入和低能离子沉积。/n

【技术特征摘要】
1.一种替代激光直接成形技术的装置，其特征在于，包括：预抽室、缓冲室和处理室；预留样品依次穿过所述预抽室、所述缓冲室和所述处理室；所述预抽室和所述缓冲室维持室内真空度；所述预抽室、所述缓冲室和所述处理室的预留样品通道尺寸与所述预留样本相同；所述处理室顶部安装有高能离子束系统和低能离子束系统；所述高能离子束系统安装在靠近所述缓冲室的一端，所述预留样品依次通过所述处理室进行高能离子注入和低能离子沉积。


2.根据权利要求1所述的一种替代激光直接成形技术的装置，其特征在于，还包括：传动装置和准备室；所述准备室与所述预抽室连接；所述传动装置包括传送带、主动辊、从动辊；所述主动辊和所述从动辊的数量至少为一个；所述主动辊和所述从动辊通过所述传送带连接；所述传送带设置在准备室、预抽室、缓冲室、处理室的下方；所述传送带的转动方向从准备室到处理室。


3.根据权利要求1所述的一种替代激光直接...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖斌，欧阳晓平，罗军，张旭，吴先映，庞盼，陈琳，韩然，
申请(专利权)人：北京师范大学，
类型：发明
国别省市：北京;11