涂布装置、涂布方法以及存储介质制造方法及图纸

技术编号:23740906 阅读:47 留言:0更新日期:2020-04-11 09:40
本发明专利技术提供涂布装置、涂布方法以及程序。上述涂布装置(10)具有在对象上涂布液滴的印刷头以及处理器,其中,上述处理器执行以下的处理:取得与上述涂布装置相对于上述对象的接触相关的值;检测上述涂布装置在上述对象上的移动;以及在上述值在设定的范围内的情况下,基于所检测到的上述移动,以在上述对象上涂布液滴的方式对上述印刷头进行控制。

Coating device, coating method and storage medium

【技术实现步骤摘要】
涂布装置、涂布方法以及存储介质相关申请的交叉引用:本申请享受以日本专利申请2018-188093号(申请日:2018年10月03日)为基础申请的优先权。本申请通过参照该基础申请而包含该基础申请的全部内容。
本专利技术涉及涂布装置、涂布方法以及存储介质。
技术介绍
已知有根据装置在涂布介质的涂布面上的移动来向涂布面涂布液滴的装置。例如,专利文献1公开了通过在记录介质上进行手动扫描而在记录介质上进行印刷的手动型的印刷装置。具体地说,在日本特开平10-35034号公报所公开的印刷装置中,当用户通过手动使装置在记录介质上扫描时,根据装置的移动量从印刷头向记录介质喷射墨,由此进行印刷。在上述那样的根据装置在涂布对象的涂布面上的移动来涂布液滴的装置中,当相对于涂布对象的接触强度不适当时,无法对涂布对象适当地涂布液滴,有可能导致涂布失败。
技术实现思路
本专利技术是为了解决以上那样的课题而完成的,其目的在于提供能够对涂布对象适当地涂布液滴的涂布装置、涂布方法以及存储介质。本专利技术提供一种涂布装置,具有:具有:印刷本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂布装置,具有:印刷头,在对象上涂布液滴;以及处理器,其特征在于,/n上述处理器执行以下的处理:/n取得与上述涂布装置相对于上述对象的接触相关的值;/n检测上述涂布装置在上述对象上的移动;以及/n在上述值在设定的范围内的情况下,基于所检测到的上述移动,以在上述对象上涂布液滴的方式对上述印刷头进行控制。/n

【技术特征摘要】
20181003 JP 2018-1880931.一种涂布装置,具有:印刷头,在对象上涂布液滴;以及处理器,其特征在于,
上述处理器执行以下的处理:
取得与上述涂布装置相对于上述对象的接触相关的值;
检测上述涂布装置在上述对象上的移动;以及
在上述值在设定的范围内的情况下,基于所检测到的上述移动,以在上述对象上涂布液滴的方式对上述印刷头进行控制。


2.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,
上述处理器执行以下的处理:
在上述值不在上述设定的范围内的情况下,即便检测到上述移动,也以不在上述对象上涂布液滴的方式对上述印刷头进行控制。


3.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,
上述处理器执行以下的处理:
在上述值不在上述设定的范围内的情况下,通知警告。


4.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,
上述设定的范围是预先确定的上限值以下且预先确定的下限值以上的范围。


5.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,
上述值在上述接触的强度更强的情况下变得更大,
上述设定的范围是预先确定的上限值以下的范围。


6.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,
上述值在上述接触的强度更强的情况下变得更小,
上述设定的范围是预先确定的下限值以上的范围。


7.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,
上述涂布装置还具备压力传感器,该压力传感器测定在上述涂布装置放置在上述对象上的情况下由上述涂布装置对上述对象施加的压力,
上述处理器执行以下的处理:
在上述取得时,作为上述值,取得由上述压力传感器测定出的上述压力的值。


8.如权利要求7所述的涂布装置,其特征在于,
上述压力传感器配置在上述印刷头的液滴的涂布口的周围,上述印刷头设置于上述涂布装置。


9.如权利要求7或8所述的涂布装置,其特征在于,
上述压力传感器包括第一压力传感器与第二压力传感器,该第一压...

【专利技术属性】
技术研发人员:中川到
申请(专利权)人:卡西欧计算机株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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