【技术实现步骤摘要】
一种电子元件无残留清洗装置
本专利技术涉及电子元件加工技术，具体是一种电子元件无残留清洗装置。
技术介绍
在电子元件加工过程中，需对零件进行清洗，而现有的清洗装置，清洗效果不理想，容易形成清洗死角，造成零件清洗不干净，影响了零件的使用，并且一般采用无水酒精对电子元件进行清洗，由于无水酒精易挥发，容易流入空气中，造成环境污染，同时烘干电子元件时，形成大量酒精蒸汽，不进行收集导致资源浪费。中国专利公告号CN207577003U提出了一种电子元件加工清洗系统，采用搅拌方式，使电子元件与清洗液发生搅拌混合效果，提高清洗效率，但这样容易造成电子元件的破碎，得不偿失，目前，市面上主要采用超声波清洗方式，通过超声波在液体中的空化作用和直进流作用对电子元件表面在加工时附着的污物进行分散、乳化、剥离实现清洗，但这种清洗方式，对于加工中残留在电子元件表面的污物只能做到剥离，还需要后期人工手动进行清理，虽然清理效果彻底，但不能免除多余的工序。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种电子元件无残留清洗装置，以解决上述...
【技术保护点】
1.一种电子元件无残留清洗装置，包括箱体(1)，箱体(1)底部设有支撑腿(2)，箱体(1)顶面开口，在箱体(1)内底部设有超声波发生器(3)，其特征在于，在箱体(1)内还设有支撑网(4)；所述箱体(1)侧面设有驱动电机(5)，驱动电机(5)的输出端设有深入箱体(1)内并与箱体(1)侧壁转动连接的连接轴(6)，连接轴(6)插入支撑网(4)内并与支撑网(4)固定连接，在箱体(1)内壁两侧均设有圆柱槽(16)，支撑网(4)两侧均位于圆柱槽(16)内并与圆柱槽(16)滑动连接，所述驱动电机(5)为脉冲电机。/n
【技术特征摘要】
1.一种电子元件无残留清洗装置，包括箱体(1)，箱体(1)底部设有支撑腿(2)，箱体(1)顶面开口，在箱体(1)内底部设有超声波发生器(3)，其特征在于，在箱体(1)内还设有支撑网(4)；所述箱体(1)侧面设有驱动电机(5)，驱动电机(5)的输出端设有深入箱体(1)内并与箱体(1)侧壁转动连接的连接轴(6)，连接轴(6)插入支撑网(4)内并与支撑网(4)固定连接，在箱体(1)内壁两侧均设有圆柱槽(16)，支撑网(4)两侧均位于圆柱槽(16)内并与圆柱槽(16)滑动连接，所述驱动电机(5)为脉冲电机。
2.根据权利要求1所述的一种电子元件无残留清洗装置，其特征在于，所述支撑网(4)为不锈钢网。
3.根据权利要求1所述的一种电子元件无残留清洗装置，其特征在于，所述箱体(1)上方设有与其固定连接的支撑架(8)，支撑架(8)顶部设有液泵(9)和中转箱(10)，液泵(9)的输入端连接有提升管(15)，提升管(15)下端从箱体(1)侧面伸入箱体(1)内壁，且提升管(15)下端位于支撑网(4)下方，在液泵(9)的输出端设有与中转箱(10)相连接的连接管(12)，中转箱(10)下部设有输出管(13)，输出管(13)下端连接有喷淋管(11)，喷淋管(11)位于箱体(1)和支撑架(8)之间，在喷淋...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐尚，
申请(专利权)人：江西诺驰科技咨询有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36
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