基板处理装置和基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供基板处理装置和基板处理方法。在以将基板保持于旋转台的状态进行基板的处理的基板处理中提高基板温度的控制精度。具备：旋转驱动机构，其使保持着基板的旋转台旋转；电加热器，其与旋转台一起旋转地设于旋转台，并加热基板；受电电极，其与旋转台一起旋转地设于旋转台，与电加热器电连接；供电电极，其与受电电极接触而经由它向电加热器供给驱动电力；电极移动机构，其使供电电极和受电电极相对接触、分离；供电部，其向供电电极供给驱动电力；处理杯，其包围旋转台的周围；至少1个处理液喷嘴，其向基板供给处理液；处理液供给机构，其向处理液喷嘴供给处理液；控制部，其控制电极移动机构、供电部、旋转驱动机构以及处理液供给机构。

Substrate treatment device and substrate treatment method

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置和基板处理方法
本公开涉及一种基板处理装置和基板处理方法。
技术介绍
在半导体装置的制造中，对半导体晶圆等基板实施化学溶液清洗处理、镀覆处理、显影处理等各种液处理。作为进行这样的液处理的装置，存在单片式的液处理装置，其一个例子记载于专利文献1。专利文献1的基板处理装置具有能够将基板以水平姿势保持并使该基板绕铅垂轴线旋转的旋转卡盘。沿着圆周方向隔开间隔地设置于旋转卡盘的周缘部的多个保持构件用于保持基板。在保持于旋转卡盘的基板的上方和下方分别设置有内置有加热器的圆板状的上表面移动构件和下表面移动构件。在专利文献1的基板处理装置中，用以下的步骤进行处理。首先，利用旋转卡盘保持基板，使下表面移动构件上升而在基板的下表面(背面)与下表面移动构件的上表面之间形成较小的第1间隙。接着，从在下表面移动构件的上表面的中心部开口的下表面供给路径向第1间隙供给调温后的化学溶液，第1间隙被表面处理用的化学溶液充满。化学溶液被下表面移动构件的加热器调温成预定的温度。另一方面，使上表面供给喷嘴位于基板的上表面(表面)的上方而供给表面处理用的化学本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其中，/n该基板处理装置具备：/n旋转台，其将基板以水平姿势保持；/n旋转驱动机构，其使所述旋转台绕铅垂轴线旋转；/n电加热器，其以与所述旋转台一起旋转的方式设置于所述旋转台，对载置于所述旋转台上的所述基板进行加热；/n受电电极，其以与所述旋转台一起旋转的方式设置于所述旋转台，并与所述电加热器电连接起来；/n供电电极，其与所述受电电极接触，并经由所述受电电极向所述电加热器供给驱动电力；/n电极移动机构，其使所述供电电极和所述受电电极相对地接触、分离；/n供电部，其向所述供电电极供给所述驱动电力；/n处理杯，其包围所述旋转台的周围，与排气配管以及排液配管连接起来；/n至少1...

【技术特征摘要】
20180927 JP 2018-182834;20190328 JP 2019-0633751.一种基板处理装置，其中，
该基板处理装置具备：
旋转台，其将基板以水平姿势保持；
旋转驱动机构，其使所述旋转台绕铅垂轴线旋转；
电加热器，其以与所述旋转台一起旋转的方式设置于所述旋转台，对载置于所述旋转台上的所述基板进行加热；
受电电极，其以与所述旋转台一起旋转的方式设置于所述旋转台，并与所述电加热器电连接起来；
供电电极，其与所述受电电极接触，并经由所述受电电极向所述电加热器供给驱动电力；
电极移动机构，其使所述供电电极和所述受电电极相对地接触、分离；
供电部，其向所述供电电极供给所述驱动电力；
处理杯，其包围所述旋转台的周围，与排气配管以及排液配管连接起来；
至少1个处理液喷嘴，其向所述基板供给处理液；
处理液供给机构，其向所述处理液喷嘴供给所述处理液；以及
控制部，其控制所述电极移动机构、所述供电部、所述旋转驱动机构以及所述处理液供给机构。


2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
所述旋转台具有吸附板，所述基板被吸附于所述吸附板的上表面，从而被所述旋转台保持，所述电加热器从所述吸附板的下表面侧隔着所述吸附板对吸附于所述吸附板的上表面的所述基板进行加热。


3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
从所述铅垂轴线方向观察到的所述旋转台的面积与所述基板的面积相等或比所述基板的面积大。


4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
该基板处理装置还具备在所述旋转台的旋转轴内穿过并延伸的抽吸配管，所述旋转台具有底座，在所述底座的上表面设置有与所述抽吸配管连通的抽吸口，在将所述吸附板载置到所述底座的上表面的状态下，通过经由所述抽吸口使抽吸力起作用，所述吸附板被吸附于所述底座，并且，所述抽吸力也经由贯通所述吸附板的贯通孔作用于所述基板，使所述基板被吸附于所述吸附板。


5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
所述旋转台具有包围所述基板的周缘部的围堰，在所述基板被保持于所述旋转台上时，通过向所述基板供给所述处理液，所述处理液被所述围堰拦截，而能够在所述旋转台上形成能浸渍所述基板的整个上表面的所述处理液的液团，所述围堰以随着朝向所述旋转台的半径方向内侧去而变低的方式带有倾斜。


6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
能够在保持使所述受电电极与所述供电电极接触的状态下，使所述旋转台在预定的角度范围内旋转。


7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
该基板处理装置还具备处理液调温机构，该处理液调温机构在将所述处理液从所述处理液喷嘴向所述基板供给之前对所述处理液进行调温。


8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
所述电加热器具有分别负责所述基板的不同的区域的加热的多个加热元件，所述控制部能够借助所述供电部单独地控制所述多个加热元件的发热量。


9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
所述处理液供给机构能够向所述至少1个处理液喷嘴供给化学溶液和冲洗液作为所述处理液。


10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
该基板处理装置具备用于向所述电加热器供给电力的第1电力传输机构和第2电力传输机构，
所述第1电力传输机构包括能够利用所述电极移动机构而接触、分离的所述受电电极和所述供电电极，
所述第2电力传输机构具有能够相对旋转的固定部和旋转部，所述第2电力传输机构构成为，在所述旋转部相对于所述固定部连续地旋转时，也能够从所述固定部向所述旋转部进行电力传输，所述旋转部与所述电加热器电连接，并且，固定于所述旋转台或与所述旋转台联动地旋转的构件，
所述供电部以也向所述第2电力传输机构的所述固定部供给电力的方式设置，
所述控制部在至少所述受电电极与所述供电电极分离的分开期间内使电力从所述供电部经由所述第2电力传输机构向所述电加热器供给。


11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中，
所述控制部构成为能够将所述旋转台的温度在接触期间和所述分开期间控制成不同的温度，该接触期间为如下期间：所述受电电极与所述供电电极接触而经由所述第1电力传输机构向所述电加热器供给电力。


12.根据权利要求10或11所述的基板处理装置，其中，
所述电加热器包括第1加热器元件和第2加热器元件，经由所述第1电力传输机构进行向所述第1加热器元件的供电，经由所述第2电力传输机构进行向所述第2加热器元件的供电。


13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其中，
该基板处理装置也能够经由所述第2电力传输机构向所述第1加热器元件供电。


14.一种基板处理装置，其中，
该基板处理装置具备：
旋转台，其将基板以水平姿势保持；
旋转驱动机构，其使所述旋转台绕铅垂轴线旋转；
电加热器，其以与所述旋转台一起旋转的方式设置于所述旋转台，对载置于所述旋转台上的所述基板进行加热；
供电部，其向所述电加热器供给电力；
电力传输机构，其设置于所述电加热器与所述供电部之间的供电路径，所述电力传输机构具有能够相对旋转的固定部和旋转部，所述电力传输机构构成为，在所述旋转部相对于所述固定部连续地旋转时，也能够从所述固定部向所述旋转部进行电力...

【专利技术属性】
技术研发人员：守田聪，饱本正巳，森川胜洋，水永耕市，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP