一种深度测量装置和深度测量方法制造方法及图纸

一种深度测量装置和方法，该装置包括：发射模组，其包含由多个子光源组成的光源阵列，以具有多个斑点的投影图案提供输出光来照射目标物体；采集模组，其检测包括所述输出光经所述目标物体反射回的至少一部分反射光；控制与处理电路，被配置为根据所述输出光和所述反射光的相位差获取所述目标物体的距离；其中，所述光源阵列包含多个分立的子光源阵列，各子光源阵列被配置为可控制独立开启或者同步开启以使得所述发射模组提供不同视场角和/或不同斑点密度的投影图案。本发明专利技术可以灵活适应各种深度测量应用下对目标物体的测量需求，并降低测量装置的功耗。

A depth measuring device and method

【技术实现步骤摘要】
一种深度测量装置和深度测量方法
本专利技术涉及一种深度测量的
，尤其涉及一种深度测量装置和深度测量方法。
技术介绍
基于时间飞行(ToF)原理的深度测量装置为基于从目标反射的光来标识和映射目标物体，核心部件包括光源和感光器，光源被配置为朝向目标物体发射光，感光器用于接收由目标物体反射回来的反射光。ToF测量精度及测量距离会受到光源强度的影响，而在现有的ToF深度测量装置中，光源采用单一形式的泛光照明，将光源发出的能量进行均匀分布，这样会导致所需的功耗较大，测量距离较小，并且功能上也单一受限，不利于广泛使用。
技术实现思路
为了克服现有技术存在上述缺陷中的至少一种，本专利技术提供一种深度测量装置和深度测量方法。本专利技术的第一方面提供一种深度测量装置，包括：发射模组，其包含由多个子光源组成的光源阵列，所述发射模组被配置为以具有多个斑点的投影图案提供输出光来照射目标物体；采集模组，其包含由至少一个像素组成的图像传感器，所述图像传感器被配置为检测包括所述输出光经所述目标物体反射回的至少一部分反本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种深度测量装置，其特征在于，包括：/n发射模组，其包含由多个子光源组成的光源阵列，所述发射模组被配置为以具有多个斑点的投影图案提供输出光来照射目标物体；/n采集模组，其包含由至少一个像素组成的图像传感器，所述图像传感器被配置为检测包括所述输出光经所述目标物体反射回的至少一部分反射光；/n控制与处理电路，与所述发射模组以及所述采集模组连接，所述控制与处理电路被配置为根据所述输出光和所述反射光的相位差以获取所述目标物体的距离；/n其中，所述光源阵列包含多个分立的子光源阵列，各子光源阵列被配置为可控制独立开启或者同步开启以使得所述发射模组提供不同视场角和/或不同斑点密度的投影图案。/n

【技术特征摘要】
1.一种深度测量装置，其特征在于，包括：
发射模组，其包含由多个子光源组成的光源阵列，所述发射模组被配置为以具有多个斑点的投影图案提供输出光来照射目标物体；
采集模组，其包含由至少一个像素组成的图像传感器，所述图像传感器被配置为检测包括所述输出光经所述目标物体反射回的至少一部分反射光；
控制与处理电路，与所述发射模组以及所述采集模组连接，所述控制与处理电路被配置为根据所述输出光和所述反射光的相位差以获取所述目标物体的距离；
其中，所述光源阵列包含多个分立的子光源阵列，各子光源阵列被配置为可控制独立开启或者同步开启以使得所述发射模组提供不同视场角和/或不同斑点密度的投影图案。


2.如权利要求1所述的深度测量装置，其特征在于，所述光源阵列的子光源规则排列或不规则排列。


3.如权利要求1所述的深度测量装置，其特征在于，所述光源阵列的多个子光源阵列分开排列。


4.如权利要求1所述的深度测量装置，其特征在于，所述光源阵列的多个子光源阵列交叉排列。


5.如权利要求1所述的深度测量装置，其特征在于，所述光源阵列的多个子光源阵列具有不同的排列密度。


6.一种深度测量方法，其特征在于，包括：
发射模...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾海，王兆民，
申请(专利权)人：深圳奥比中光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44