用于参数确定的方法及其设备技术

用于根据量测目标的图像测量重叠的方法和设备，所述图像是使用声波获得，例如使用声波显微镜获得的图像。获得两个目标的图像，一个图像使用声波获得，一个图像使用光波获得，确定图像的边缘，根据两个图像的边缘之间的差获得两个目标之间的重叠。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于参数确定的方法及其设备相关申请的交叉引用本申请要求于2017年7月25日提交的美国申请62/536,675的优先权，该美国申请通过引用全文并入本文。
本公开涉及用于例如在通过光刻技术制造器件时可使用的检查(例如，量测)的方法和设备，并且涉及使用光刻技术制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是一种被构造为将所期望的图案施加到衬底上的机器。例如，光刻设备能够用于集成电路(IC)的制造中。光刻设备可例如将在图案形成装置(例如，掩模)处的图案(也经常称为“设计布局”或“设计”)投影到设置在衬底(例如，晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。为了将图案投影到衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长决定能够形成在衬底上的特征的最小尺寸。当前使用的典型的波长是365nm(i线)、248nm、193nm和13.5nm。使用极紫外(EUV)辐射(其波长在4-20nm范围内，例如6.7nm或13.5nm)的光刻设备可用于在衬底上形成比使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备更小的特征。低k1光刻术可以用于尺寸小于光刻设备的经本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种量测设备，包括用于产生声波的源。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170725 US 62/536,6751.一种量测设备，包括用于产生声波的源。


2.一种方法，包括使用声波来测量图案化过程的参数。


3.根据权利要求2所述的方法，其中
使用声波获得...

【专利技术属性】
技术研发人员：N·潘迪，M·皮萨连科，亚历山德罗·波洛，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL