投射光刻中用于成像光的光束引导的光学元件制造技术

一种用于投射光刻中的成像光的光束引导的光学元件(M)。光学元件(M)包含一主体(18)和由主体(18)所承载的至少一个光学表面(19)。附接于主体(18)的至少一个补偿重量元件(20、23)用于由重力所引起的光学表面(19)的图形变形的重量补偿。这产生了在使用位置处具有小的图形变形的光学元件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】投射光刻中用于成像光的光束引导的光学元件德国专利申请案DE102017212869.0和DE102018200152.9的内容以引用的方式并入本文。本专利技术关于在投射光刻中用于成像光的光束引导的光学元件。此外，本专利技术关于用于产生此调整后的光学元件的方法、包含至少一个这样的光学元件的成像光学单元、包含此成像光学单元的光学系统、包含此光学系统的投射曝光装置、用于通过此投射曝光装置产生微结构或纳米结构部件的方法、以及由该方法所产生的微结构或纳米结构部件。此光学元件已揭露于DE102013214989A1。开头所述类型的成像光学单元已揭露于WO2016/188934A1和WO2016/166080A1。本专利技术的一目的为提供在使用位置具有理想的小图形变形的光学元件。根据本专利技术，此目的由包含权利要求1所述特征的光学元件来实现。根据本专利技术，已认识到在投射光刻中对图形准确度的要求、即对光学元件的光学表面的形状与成像光的光束引导的对应关系的要求如此高，使得重力(其直接或间接地作用在光学表面上)、特别是在投射曝光装置(其构成部分为所考虑的光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于投射光刻中的成像光(3)的光束引导的光学元件(M；M1至M10)，/n包括主体(18)和由该主体(18)承载的至少一个光学表面(19)，/n其特征在于至少一个补偿重量元件(20；23；26；27；31；36；43)，所述至少一个补偿重量元件附接于该主体(18)，用于由重力引起的光学表面(19)的图形变形的重量补偿。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170726 DE 102017212869.0;20180108 DE 102018200151.一种用于投射光刻中的成像光(3)的光束引导的光学元件(M；M1至M10)，
包括主体(18)和由该主体(18)承载的至少一个光学表面(19)，
其特征在于至少一个补偿重量元件(20；23；26；27；31；36；43)，所述至少一个补偿重量元件附接于该主体(18)，用于由重力引起的光学表面(19)的图形变形的重量补偿。


2.如权利要求1所述的光学元件，其特征在于，该光学元件(M；M1至M10)实施为反射镜，其中该至少一个补偿重量元件(20；23；26；27；31；36；43)在背离该光学表面(19)的反射镜后侧(21)处和/或在该光学元件的边缘处附接至该主体(18)。


3.如权利要求1或2所述的光学元件，其特征在于，至少一个补偿重量元件(20)在该光学元件(M；M1至M10)的质心轴(SP)的区域中附接至该主体(18)。


4.如权利要求1至3中任一项所述的光学元件，其特征在于，该主体(18)在圆周侧上通过多个轴承部位(22)承载于该光学元件(M；M1至M10)的保持框的轴承座中，其中至少一个补偿重量元件(23)布置于在圆周方向上彼此相邻的两个轴承部位(22)之间。


5.如权利要求4所述的光学元件，其特征在于，在所述圆周方向上彼此相邻的所有轴承部位(22)之间分别设置一个补偿重量元件(23)。


6.如权利要求1至5中任一项所述的光学元件，其特征在于，至少一个补偿重量元件(20；20，23；23)以互锁和/或整体接合的方式连接至该主体(18)。


7.如权利要求1至6中任一项所述的光学元件，其特征在于，该补偿重量元件(27；31)的补偿重量(28)通过连接杆(29；32)连接至该主体(18)，使得该补偿重量(28)从其...

【专利技术属性】
技术研发人员：J普罗赫诺，D沙弗，R奥利克，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE