烹饪排放罩通风系统技术方案

一种商业烹饪设备排放系统包括在过滤器单元下游的静电除尘器单元。该静电除尘器包括在收集区段上游的电离区段。该电离区段包括多个电离流动路径，该多个电离流动路径具有在至少一个宽区段与至少一个窄区段之间的宽度有所不同的侧轮廓图案。该收集区段包括多个收集流动路径，该多个收集流动路径具有基本上均匀宽度的侧轮廓图案和重复的波状侧轮廓图案。UV光源也可以设置有控制器，该控制器被操作性地连接以经由调光器控制该UV光源，使得能够选择产生各种UV水平。

Cooking exhaust hood ventilation system

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】烹饪排放罩通风系统
本申请总体上涉及一种在商业烹饪环境(比如在餐馆、学校、医院以及其他机构的烹饪区域)中使用的排放系统，并且更具体地涉及一种包含静电除尘器(ESP)和/或紫外(UV)光处理的厨房排放罩通风系统。
技术介绍
长期以来，出于将商业厨房环境中产生的蒸汽、烟雾以及比如油脂等微粒排出的目的而提供抽油烟机罩。ESP单元之前已经在厨房排放罩中使用。UV处理系统之前也已经在厨房排放罩中使用。希望借助于改进的ESP构型和/或ESP操作方法和/或借助于更有效地处理气味的改进的UV光处理系统来提供一种具有改善性能的排放罩系统。
技术实现思路
在一方面，商业烹饪设备排放系统，至少一个过滤器单元沿排放流动路径定位。至少一个静电除尘器单元沿该排放流动路径定位在该过滤器单元下游，并且排出气体在排放操作期间移动经过该至少一个静电除尘器单元。该静电除尘器包括在收集区段上游的电离区段。该电离区段包括在多个接地板与多个电离导线之间延伸的多个电离流动路径，其中，每个电离流动路径的侧轮廓图案的在至少一个宽区段与至少一个窄区段之间的宽度有所不同，其中，这些电离导线位于宽区段中而不在窄区段中。该收集区段包括在多个收集板之间延伸的多个收集流动路径，其中，每个收集流动路径的侧轮廓图案具有基本上均匀的宽度以及重复的波状侧轮廓图案。在另一方面，商业烹饪设备排放系统包括位于过滤器单元下游的UV光源。控制器被操作性地连接以经由调光器控制该UV光源，并且该控制器被配置用于基于至少一个被监测的排放条件控制该调光器。在附图和下文的描述中阐述了一个或多个实施例的细节。其他特征、目的以及优点通过本描述、附图以及权利要求将会变得明显。附图说明图1是示例性烹饪排放罩系统的透视图；图2是一端切掉以暴露罩内部的罩系统的透视图；图3是罩系统的截面视图；图4是示出了罩系统的前区段的内部的透视图；图5是罩系统中使用的ESP的示意性顶部平面图；图6是罩系统的示意性控制布置；图7是罩系统的另一个实施例；并且图8是罩系统的另一个实施例。具体实施方式参考图1至图4，烹饪排放系统10被示出并且包括罩结构12，该罩结构具有下边缘14，该下边缘限定朝下的入口开口16。罩结构12位于具有一个或多个烹饪装置(未示出)的烹饪区域(未示出)上方。举例来说，烹饪装置可以是蒸汽灶、扒炉、炸锅、炉灶等中的任一种以及不同烹饪装置的任何组合。经过该罩的排放流动路径穿过挡板20后方的狭缝开口18、然后穿过过滤器区段22和24，其中，过滤器区段22包括一个或多个主要过滤器单元26，并且过滤器区段24包括一个或多个次要过滤器单元28。过滤器单元26和/或28可以是可移除的以用于清洁。在(多个)过滤器单元28上方，集气室30包括一个或多个UV光源32(例如，在此具有沿罩结构定向地并排延伸的多个UV灯泡34)。一个或多个处理流体注射器36最靠近UV光源定位并且是可控制的以用于注入处理流体。处理流体可以是溶液的雾化喷雾，在一个实例中溶液的雾化喷雾包括表面活性剂和/或氧化剂和/或添味剂。在一个实施例中，处理溶液包括己二醇、一种或多种烷基酚支链醇烷氧基化物以及一种或多种芳香剂，并且可以包括或者也可以不包括过氧化氢。在另一个实施例中，过氧化氢可以是主要成分。在操作中，UV灯发射185纳米(nm)的UV光以产生臭氧，臭氧与流相互作用以分解油脂微粒以及排放流中导致微粒的其他气味，由此减少罩的内部表面上的油脂沉淀物并且减少气味。处理溶液提高臭氧的有效性并且包括添味剂，以进一步减少向下游放射的排放罩流的任何不期望的气味。在展示的实施例中，集气室30位于罩结构12的后区段38中。另一个流动区域40位于罩结构12的前区段42中，管道44从后区段38延伸到前区段以便将排出气体从集气室30运送并运送到流动区域42中。在此，管道44朝向罩结构12的一侧定位。静电除尘器(ESP)50沿流动区域40定位。(多个)上游挡板结构52将流引导至ESP50的入口端54中并且(多个)下游挡板结构56将流从ESP50的出口端58向上引导并进入排放出口管道60中。因而，穿过ESP的流动方向62通常侧向地沿着罩结构12的前区段42。风扇200可以位于出口管道60的下游以便拉动空气穿过罩结构12的流动路径，并且可控阻尼器202可以位于出口管道60中。参考图5示出的ESP的前侧轮廓示意图，ESP50包括收集区段66上游的电离区段64。两个区段部分地由相应组的板68和70形成，这些板弯曲、被冲压或以其他方式形成为具有波状侧轮廓图案。在此，波状侧轮廓图案是循环曲线(例如，自然界中的正弦曲线)，但其他波状图案是可能的。在电离区段64中，板68是接地板(例如，被连接到电接地)，并且穿过电离区段的微粒通过在电离导线72与接地板68之间建立的电压场而带电或被电离。举例来说，电离导线可以具有至少10,000伏特(例如，12,000伏特或更高，比如15,000伏特)的施加的正电压。接地板68限定穿过电离区段62的多个电离流动路径，并且每个电离导线72沿流动路径之一定位。接地板68包括共同波状侧轮廓图案，接地板68A和接地板68B以交替并排图案进行布置，使得每个电离流动路径形成为一个接地板68A与一个接地板68B之间的电离间隙。接地板68B的波状侧轮廓图案在流动方向62上与接地板68B的侧轮廓图案偏移，使得每个电离间隙的侧轮廓图案的在至少一个宽区段80与至少一个窄区段82之间的宽度有所不同。在此，每个电离间隙包括一个宽区段和一个窄区段，但变化是可能的。如图所示，电离导线72位于宽区段80中，导线72不位于窄区段82中。电离导线72包括多个电离导线72A和多个电离导线72B，电离导线72A位于与流动方向62垂直的一个公共平面75上并且电离导线72B位于与流动方向垂直的另一个公共平面77上。在此，两个公共平面彼此平行并且在流动方向62上彼此偏移。如所见的，电离导线72在与流动方向62垂直的方向上的侧轮廓顺序是导线72A、导线72B、导线72A、导线72A等等的交替顺序。所描述的构型使得能够在较小的占地面积内建立具有适当电荷能力的相对高密度的电离导线。在一个实例中，电离区段64在流动方向62上的流动长度尺寸FL64小于4英寸(例如，小于3.5英寸)，并且每个电离导线72与其相邻的接地板68A和68B之间的间隔被保持为至少0.90英寸(例如，大约1.0英寸)，在侧轮廓中，电离导线之间在与流动方向62垂直的方向上的间隔小于1.60英寸(大约1.50英寸)，并且每个电离导线的电荷是至少8,000V(例如，大约10,000V)。然而，变化是可能的。在收集区段66中，板70被布置为交替带电的(例如，-7,500伏特)并且接地板限定穿过收集区段的多个收集流动路径。收集板70包括共同且重复的波状侧轮廓图案，其中，图案在流动方向62上彼此对齐。在此，板70的波状图案包括通过弯曲节段85和87连接的基本上平面的节段81以及较短的平面节段83，但本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种商业烹饪设备排放系统，包括：/n沿排放流动路径定位的至少一个过滤器单元；/n沿该排放流动路径定位在该过滤器单元下游的至少一个静电除尘器单元，并且排出气体在排放操作期间移动穿过该至少一个静电除尘器单元，该静电除尘器包括在收集区段上游的电离区段，/n其中，该电离区段包括在多个接地板与多个电离导线之间延伸的多个电离流动路径，其中，每个电离流动路径的侧轮廓图案的在至少一个宽区段与至少一个窄区段之间的宽度有所不同，其中，这些电离导线位于宽区段中而不在窄区段中，/n其中，该收集区段包括在多个收集板之间延伸的多个收集流动路径，其中，每个收集流动路径的侧轮廓图案具有基本上均匀的宽度以及重复的波状侧轮廓图案。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170601 US 15/611,1921.一种商业烹饪设备排放系统，包括：
沿排放流动路径定位的至少一个过滤器单元；
沿该排放流动路径定位在该过滤器单元下游的至少一个静电除尘器单元，并且排出气体在排放操作期间移动穿过该至少一个静电除尘器单元，该静电除尘器包括在收集区段上游的电离区段，
其中，该电离区段包括在多个接地板与多个电离导线之间延伸的多个电离流动路径，其中，每个电离流动路径的侧轮廓图案的在至少一个宽区段与至少一个窄区段之间的宽度有所不同，其中，这些电离导线位于宽区段中而不在窄区段中，
其中，该收集区段包括在多个收集板之间延伸的多个收集流动路径，其中，每个收集流动路径的侧轮廓图案具有基本上均匀的宽度以及重复的波状侧轮廓图案。


2.如权利要求1所述的排放系统，其中，该多个电离导线包括多个第一电离导线以及多个第二电离导线，这些第一电离导线位于与穿过该静电除尘器的流动方向垂直的第一公共平面上，并且这些第二电离导线位于与该流动方向垂直的第二公共平面上，该第一公共平面与该第二公共平面平行，该第一公共平面和该第二公共平面在该流动方向上彼此偏移。


3.如权利要求2所述的排放系统，其中，在侧轮廓中，这些第一电离导线和这些第二电离导线在与该流动方向垂直的方向上呈现交替图案。


4.如权利要求1所述的排放系统，其中，该电离区段在流动方向上的尺寸小于4英寸，每个电离导线与其相邻的接地板之间的间隔被保持为至少0.90英寸，并且在侧轮廓中，电离导线之间在与该流动方向垂直的方向上的间隔小于1.60英寸，并且每个电离导线的电荷是至少12,000伏特。


5.如权利要求4所述的排放系统，其中，每个收集流动路径的宽度不超过大约0.40英寸，并且该收集区段在该流动方向上的尺寸在大约8英寸与大约16英寸之间。


6.如权利要求1所述的排放系统，进一步包括：
该至少一个过滤器单元下游的集气室；
该集气室内的UV光源；
注射器，该注射器用于在该UV光源附近将处理流体注入该集气室中。


7.如权利要求6所述的排放系统，其中，该处理流体是由以下项构成的溶液：(i)一种或多种表面活性剂和/或(ii)一种或多种添味剂和/或(iii)一种或多种氧化剂。


8.如权利要求6所述的排放系统，其中：
控制器被操作性地连接以控制该UV光源和该注射器，该控制器被配置用于基于至少一个被监测的排放条件来调制该UV光源的功率并且调制被注入的处理流体的数量。


9.如权利要求8所述的排放系统，进一步包括：
至少一个温度传感器和/或至少一个不透明度传感器；
其中，该至少一个被监测的排放条件包括温度和/或不透明度水平，并且该控制器被配置用于响应于较高温度和/或较高不透明度水平而增大该UV光源的功率并且增大被注入的处理的数量。


10.如权利要求6所述的排放，其中：
该集气室位于罩结构的后区段中；
该静电除尘器位于该罩结构的前区段中，并且管道从该后区段延伸到该前区段以便将排出气体从该集气室运送并穿过该静电除尘器，其中，该管道朝向该罩结构的一侧定位并且穿过该静电除尘器的流侧向地沿着该罩结构的前区段。


11.如权利要求1所述的排放系统，进一步包括：
用于检测该静电除尘器内短路的短路传感器；
控制器，该控制器被配置用于在识别出短路条件时使该静电除尘器的操作电压从第一电压减小到第二电压，其中，该第二电压小于该第一电压，其中，该控制器进一步被配置用于如果在一段时间后没有检测到该短路条件，那么使该操作电压增大回到该第一电压。


12.一种商业烹饪设备排放系统，包括：
沿排放流动路径定位的至少一个静电除尘器单元，并且排出气体在排放操作期间移动穿过该至少一个静电除尘器单元，该静电除尘器包括在收集区段上游的电离区段，
其中，该电离区段包括多个接地板，这些接地板限定穿过该电离区段的多个电离流动路径；以及多个电离导线，每个电离导线沿着这些流动路径之一，其中，这些接地板包括共同波状侧轮廓图案并且这些接地板包括被布置成交替并排式图案的第一接地板和第二接地板，使得每个电离流动路径形成为一个第一接地板与一个第二接地板之间的电离间隙，其中，这些第一接地板的侧轮廓图案在穿过该电离区段的流动方向上与这些第二接地板的侧轮廓图案偏移，使得每个电离间隙的侧轮廓图案的在至少一个宽区段与至少一...

【专利技术属性】
技术研发人员：拉塞尔·罗比森，郭钜钊，
申请(专利权)人：伊利诺斯工具制品有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US