衬底处理装置及衬底处理装置的控制方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种衬底处理装置及衬底处理装置的控制方法。通常，第2衬底搬送机构被设定为从衬底缓冲部向载置在开启器的前开式晶圆盒搬送衬底。然而，在满足规定条件的情况下，第2衬底搬送机构从前开式晶圆盒向衬底缓冲部搬送衬底。也就是说，第2衬底搬送机构进行与通常的衬底搬送动作不同的动作。由此，第2衬底搬送机构能够在从特定前开式晶圆盒取出所有衬底后至将所有已处理过的衬底收纳到特定前开式晶圆盒为止的期间，使特定前开式晶圆盒停留在特定前开式晶圆盒的载置位置(开启器)。由此，前开式晶圆盒搬送机构能够搬送除特定前开式晶圆盒以外的前开式晶圆盒，所以能够提高前开式晶圆盒的搬送效率。

Substrate treatment device and control method of substrate treatment device

【技术实现步骤摘要】
衬底处理装置及衬底处理装置的控制方法
本专利技术涉及一种对衬底进行处理的衬底处理装置及衬底处理装置的控制方法。此外，关于衬底，例如可列举半导体衬底、FPD(FlatPanelDisplay，平板显示器)用衬底、光掩模用玻璃衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、陶瓷衬底、太阳电池用衬底。关于FPD，例如可列举液晶显示装置、有机EL(electroluminescence，电致发光)显示装置等。
技术介绍
以往的衬底处理装置具备装载区块(装载装置)、处理区块、及前开式晶圆盒缓冲装置(堆积器装置)。在装载区块的后表面连接着处理区块。在装载区块的前表面连接着前开式晶圆盒缓冲装置(例如参照日本专利特开2012-209288号公报、日本专利特开2013-157650号公报、日本专利特开2010-171314号公报)。在装载区块的前表面的外壁沿水平方向并列地设置着2个开启器(opener)。另外，在装载区块与处理区块之间设置着衬底缓冲部，该衬底缓冲部能够在上下方向(垂直方向)上载置多个衬底(参照日本专利特开2012-209288号公报)。在装载区块的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种衬底处理装置，对衬底进行处理，且包含以下要素：/n处理区块，对从能够收纳多个衬底的载体搬送的衬底进行规定的处理；/n2个以上的第1载体载置部，分别供载置所述载体；/n2个以上的第2载体载置部，分别供载置所述载体；/n衬底缓冲部，用来向所述处理区块送出衬底、及从所述处理区块移回衬底，且能够载置多个衬底；/n衬底搬送机构，搬送衬底；/n空载体架，供载置所有衬底被取出后变空的所述载体；以及/n载体搬送机构，搬送所述载体；且/n所述衬底搬送机构被设定为从所述2个以上的第1载体载置部各自所载置的所述载体向所述衬底缓冲部搬送衬底，并且被设定为从所述衬底缓冲部向所述2个以上的第2载体载置部各自所载置...

【技术特征摘要】
20180921 JP 2018-1780161.一种衬底处理装置，对衬底进行处理，且包含以下要素：
处理区块，对从能够收纳多个衬底的载体搬送的衬底进行规定的处理；
2个以上的第1载体载置部，分别供载置所述载体；
2个以上的第2载体载置部，分别供载置所述载体；
衬底缓冲部，用来向所述处理区块送出衬底、及从所述处理区块移回衬底，且能够载置多个衬底；
衬底搬送机构，搬送衬底；
空载体架，供载置所有衬底被取出后变空的所述载体；以及
载体搬送机构，搬送所述载体；且
所述衬底搬送机构被设定为从所述2个以上的第1载体载置部各自所载置的所述载体向所述衬底缓冲部搬送衬底，并且被设定为从所述衬底缓冲部向所述2个以上的第2载体载置部各自所载置的所述载体搬送衬底；
在所述2个以上的第1载体载置部均未载置所述载体的情况下、在所述2个以上的第2载体载置部中的至少任一个未载置所述载体的情况下、及在所述空载体架未载置所述载体的情况下，所述载体搬送机构向所述2个以上的第2载体载置部中的任一个搬送特定载体；
所述衬底搬送机构从所述特定载体向所述衬底缓冲部搬送衬底，之后，从所述衬底缓冲部向所述特定载体搬送由所述处理区块处理后的已处理过的衬底；
所述载体搬送机构在由所述衬底搬送机构从所述特定载体取出所有衬底后至将所有已处理过的衬底收纳到所述特定载体为止的期间，使所述特定载体停留在所述特定载体的载置位置。


2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中
在所述2个以上的第1载体载置部均未载置所述载体的情况下、在所述2个以上的第2载体载置部中的任一个未载置所述载体的情况下、及在所述空载体架未载置所述载体的情况下，所述载体搬送机构向所述2个以上的第2载体载置部中的任一个搬送所述特定载体。


3.根据权利要求1或2所述的衬底处理装置，其
还具备上游侧保管架，所述上游侧保管架设置在所述第1载体载置部的上游，
所述衬底搬送机构从所述2个以上的第1载体载置部中的任一个所载置的所述载体取出所有衬底后产生第1空载体，
所述载体搬送机构具备固持所述载体的2个固持部，
所述载体搬送机构通过使用所述2个固持部来进行替换动作，也就是将所述2个以上的第1载体载置部中的任一个所载置的所述第1空载体替换为所述上游侧保管架上所载置的载体，
所述载体搬送机构在相比预测为产生所述第1空载体的时间点的时间点为预先设定的时间前，开始载置在所述上游侧保管架的载体的搬送动作，以进行所述替换动作，
所述预先设定的时间是从载置在所述上游侧保管架的载体的搬送动作开始至所述载体搬送机构成为能够搬送所述第1空载体的状态的时间点为止的时间。


4.根据权利要求1或2所述的衬底处理装置，其中
所述衬底搬送机构将所有衬底收纳到所述2个以上的第2载体载置部中的任一个所载置的第2空载体后产生已处理衬底载体，
所述载体搬送机构具备固持所述载体的2个固持部，
所述载体搬送机构通过使用所述2个固持部，
进行替换动作，也就是将所述2个以上的第2载体载置部中的任一个所载置的所述已处理衬底载体替换为载置在所述空载体架的第3空载体，
所述载体搬送机构在相比预测为产生所述已处理衬底载体的时间点的时间点为预先设定的时间前，开始载置在所述空载体架的所述第3空载体的搬送动作，以进行所述替换动作，
所述预先设定的时间是从载置在所述空载体架的所述第3空载体的搬送动作开始至所述载体搬送机构成为能够搬送所述已处理衬底载体的状态的时间点为止的时间。

【专利技术属性】
技术研发人员：桑原丈二，村井征尔，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP