基板处理装置制造方法及图纸

技术编号:23626200 阅读:30 留言:0更新日期:2020-03-31 23:23
本发明专利技术是一种基板处理装置,对基板进行处理,所述装置包含以下要素,即为:分度区块,针对每个载具载置部具备分度机器人,所述分度机器人具有用以从所述载具载置部的载具取出基板且将基板收纳于所述载具载置部的载具的臂,且水平方向的位置固定;桥接区块,与所述分度区块邻接配置;及处理区块,具有多个阶层,所述多个阶层积层有具备至少1个以上的处理单元的阶层;且所述桥接区块具备:缓冲部;通路部,从多个阶层的最下层跨及最上层而具备;及两台桥接机械人,具有在与所述通路部之间交接基板的臂。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本专利技术涉及一种对半导体晶片、液晶显示器用基板、等离子体显示器用基板、有机EL(Electro-Luminescence,电致发光)用基板、FED(FieldEmissionDisplay,场致发射显示器)用基板、光显示器用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板、光掩膜用基板、太阳电池用基板等各种基板(以下简称为基板)进行特定处理的基板处理装置,尤其涉及一种搬送基板的技术。
技术介绍
以往,作为这种装置,有如下装置,具备载具区块、处理区块、接口区块及曝光装置(例如参照日本专利特开2013-69917号公报)。载具区块具备4个载具载置部,所述4个载具载置部供载置收纳有处理前的基板的载具,或供载置收纳处理后的基板的空载具。另外,载具区块在与载具载置部对向的位置配置有具备交接臂的两台分度机器人,所述交接臂从载置在载具载置部的载具取出基板,或将基板收容到载置在载具载置部的空载具中。在两台分度机器人之间,配置有用以在与处理区块之间交接基板的塔部。该分度机器人可配合于4台载具载置部的位置在水平方向上移动,并且可配合于塔部的高度而跨及相当于处本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置,对基板进行处理,所述装置包含以下要素,即为:分度区块,具备至少两台用以在与高架行驶式无人搬送车之间交接收纳基板的载具的载具载置部,为了从载具载置部的载具取出基板且将基板收纳到载具载置部的载具中,而针对所述每个载具载置部具备分度机器人,所述分度机器人具有可向水平方向进退、在水平面内回转、向垂直方向升降的臂,且水平方向的位置相对于所述各载具载置部固定;/n桥接区块,与所述分度区块邻接配置;及/n处理区块,与所述桥接区块邻接配置,具有多个阶层,所述多个阶层积层有具备至少1个以上的处理单元的阶层;且/n所述分度区块的高度未达所述处理区块的最上层,/n所述桥接区块具备:缓冲部,配置...

【技术特征摘要】
20180921 JP 2018-1780131.一种基板处理装置,对基板进行处理,所述装置包含以下要素,即为:分度区块,具备至少两台用以在与高架行驶式无人搬送车之间交接收纳基板的载具的载具载置部,为了从载具载置部的载具取出基板且将基板收纳到载具载置部的载具中,而针对所述每个载具载置部具备分度机器人,所述分度机器人具有可向水平方向进退、在水平面内回转、向垂直方向升降的臂,且水平方向的位置相对于所述各载具载置部固定;
桥接区块,与所述分度区块邻接配置;及
处理区块,与所述桥接区块邻接配置,具有多个阶层,所述多个阶层积层有具备至少1个以上的处理单元的阶层;且
所述分度区块的高度未达所述处理区块的最上层,
所述桥接区块具备:缓冲部,配置在所述分度区块侧且可利用所述分度机器人交接基板的位置,在高度方向上具备用以载置基板的多级台;通路部,配置在所述处理区块侧且可在与所述处理区块之间交接基板的位置,在所述处理区块的阶层方向上,从所述处理区块中的多个阶层的最下层跨及至最上层而具备用以载置基板的多级台;及两台桥接机械人,具有在与所述通路部之间交接基板的臂。


2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中
所述处理区块针对所述多个阶层中的每特定阶层数具备在所述处理单元及所述通路部交接基板的1台搬送机械人,
所述通路部由针对所述多个阶层中的每特定阶层数而分离配置的多个分离通路部构成。


3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其中
所述各分离通路部中配置在上方的分离通路部相对于所述多个阶层配置在靠向下方,配置在中央的分离通路部相对于所述多个阶层配置在中央,配置在下方的分离通路部相对于所述多个阶层配置在靠向上方。


4.根据权利要求2所述的基板处理装置,其中
所述处理区块省略将针对每所述特定阶层数而配置的所述搬送机械人彼此隔开的隔间。


5.根据权利要求3所述的基板处理装置,其中
所述处理区块省略将针对每所述特定阶层数而配置的所述搬送机械人彼此隔开的隔间。


6.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中
所述处理单元具备对基板供给处理液的功能,从配置在下部且贮存所述处理液的处理液箱对所述各阶层的处理单元供给处理液的泵及过滤器,配置在较所述多个阶层的最上层更靠下方。


7.根据权利要求2所述的基板处理装置,其中
所述处理单元具备对基板供给处理液的功能,从配置在下部且贮存所述处理液的处理液箱对所述各阶层的处理单元供给处理液的泵...

【专利技术属性】
技术研发人员:桑原丈二稻垣幸彦村井征尔
申请(专利权)人:株式会社斯库林集团
类型:发明
国别省市:日本;JP

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