粒子束治疗系统及其扩充方法技术方案

本发明专利技术提供提高了扩充性的粒子束治疗系统。粒子束治疗系统(1)具备：具有第一楼层(51)和第二楼层(53S、53V)的建筑物；设于第一楼层并产生粒子束的粒子束产生装置(2)；用于从粒子束产生装置向第一治疗室内的第一照射装置输送粒子束的第一输送系统(3(1))；以及从第一输送系统分支并用于经由第二楼层向第二治疗室的第二照射装置输送粒子束的第二输送系统(3(2))，第二输送系统具有使粒子束向与粒子束产生装置的设置面不同的第二楼层的方向偏转的第一偏转电磁铁(32(2))，建筑物(5)具有屏蔽第一楼层与第二楼层的屏蔽壁(55)，在相对于粒子束的前进方向比第一偏转电磁铁靠后方的位置贯通屏蔽壁地设置第二输送系统。

【技术实现步骤摘要】
粒子束治疗系统及其扩充方法
本专利技术涉及粒子束治疗系统及其扩充方法。
技术介绍
公知一种通过向患部照射质子、碳等的粒子束来进行治疗的粒子束治疗系统(专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2018-38628号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题专利文献1中，能够利用夜间、休息日等不进行治疗的时间完成系统的追加等的更新。但是，专利文献1中并未公开如下方法，即在向与产生粒子束的加速器的设置面不同的楼层供给粒子束的情况下在短时间内高效地扩充粒子束治疗系统的方法。本专利技术的目的在于提供提高了扩充性的粒子束治疗系统及其扩充方法。用于解决课题的方案为了解决上述课题，基于本专利技术的粒子束治疗系统具备：建筑物，具有第一楼层和第二楼层；粒子束产生装置，设置于第一楼层，并产生粒子束；第一输送系统，用于从粒子束产生装置向第一治疗室内的第一照射装置输送粒子束；以及第二输送系统，从第一输送系统分支，并用于经由第二楼层向第二治疗室的第二照射装置输送粒子束，上述粒子束治疗系统的特征在于，第二输送系统具有第一偏转电磁铁，该第一偏转电磁铁使粒子束向与粒子束产生装置的设置面不同的第二楼层的方向偏转，建筑物具有屏蔽第一楼层与第二楼层的屏蔽壁，在相对于粒子束的前进方向比第一偏转电磁铁靠后方的位置以贯通屏蔽壁的方式设置第二输送系统。专利技术的效果如下。根据本专利技术，能够在第一偏转电磁铁的后方以贯通屏蔽壁的方式设置第二输送系统，该第二输送系统向第二治疗室的第二照射装置输送粒子束，该第一偏转电磁铁使粒子束向与粒子束产生装置的设置面不同的第二楼层的方向偏转。由此能够不受粒子束产生装置的影响地向第二治疗室侧扩充系统。附图说明图1是粒子束治疗系统的俯视图。图2是图1中的箭头II-II方向的剖视图。图3是示出在第二治疗室内从水平方向(H)、垂直方向(V)以及倾斜方向(S)照射粒子束的状况的说明图。图4是将屏蔽壁的一部分除去后的状态下的粒子束治疗系统的俯视图。图5是图4中的箭头V-V方向的剖视图。图6是第二实施例的粒子束治疗系统的剖视图。图7是将屏蔽壁的一部分除去后的状态下的粒子束治疗系统的剖视图。图8是第三实施例的粒子束治疗系统的俯视图。图9是图8中的箭头IX-IX方向的剖视图。图10是将屏蔽壁的一部分除去后的状态下的粒子束治疗系统的俯视图。图11是图10中的箭头X-X方向的剖视图。符号的说明1、1A、1B—粒子束治疗系统，2—射束产生装置，3—射束输送系统，4—照射装置，5—建筑物，6—控制装置，21—前加速器，22—圆形加速器，31—射束的输送路径，32—偏转电磁铁，33—闸阀，51—加速器室，52—治疗室，53—射束输送室，55—屏蔽壁。具体实施方式以下，基于附图对本专利技术的实施方式进行说明。如在下文中说明那样，本实施方式的粒子束治疗系统具备预先考虑到扩充性的结构。以下，有时将粒子束称作“射束”。在本实施方式中，在构成粒子束治疗系统1的建筑物5中，与由粒子束治疗系统1的导入当初就开始运转的治疗室52(1)一起预先准备考虑到将来的治疗室数量的增加的扩充用的治疗室52(2)～52(4)。图1中示出治疗室52(2)、52(3)，图8中示出治疗室52(4)。在本实施方式中，在射束输送室53中，在向由导入当初就开始运转的治疗室52(1)输送射束的第一射束输送线3(1)与向扩充用的治疗室52(2)～52(4)输送射束的第二射束输送线3(2)之间设有屏蔽壁55。第一射束输送线3(1)是“第一输送系统”的例子。第二射束输送线3(2)是“第二射束输送系统”的例子。在本实施方式中，在向由导入当初就开始运转的治疗室52(1)输送射束的第一射束输送线3(1)与向将来的治疗室52(2)～52(4)输送射束的第二射束输送线3(2)之间的分支点设有第一偏转电磁铁32(2)。另外，向将来的治疗室52(2)～52(4)输送射束的第二射束输送线3(2)预先安装到越过射束输送室51的屏蔽壁55后的端部，并且直至对将来的治疗室52(2)～52(4)进行施工的期间，由闸阀等屏蔽机构33预先关闭第二射束输送线3(2)的末端。在本实施方式的粒子束治疗系统中，对于向将来的治疗室52(2)～52(4)输送射束的第二射束输送线3(2)而言，先行设置朝向具有与设有加速器22的水平面不同的水平面的第二楼层53V、53S偏转的区间。在本实施方式中，如上所述，在第二射束输送线3(2)设有闸阀等屏蔽机构33。详细而言，通过预先设置闸阀等屏蔽机构33，来以气密的方式关闭第二射束输送线3(2)中的在扩充治疗室前设置的部分的末端。由此通过保持比闸阀等屏蔽机构33靠上游侧(粒子束的移动方向上的上游侧)的位置的真空度，并且抑制泄漏剂量，能够在短时间内在闸阀等屏蔽机构33的下游侧追加系统。在本实施方式中，设于针对第一治疗室52(1)的射束输送与针对第二治疗室52(2)～52(4)的射束输送之间的分支点的偏转电磁铁32(2)也能够设置联锁，以便直至将来的治疗室52(2)～52(4)的追加施工无法向将来的治疗室52(2)～52(4)输送射束。根据像这样构成的本实施方式，能够抑制粒子束治疗系统1的初期导入费用，并且能够根据治疗患者数量的增加等在短时间内追加治疗室。另外，根据本实施方式，不停止已经运转的治疗室52(1)的治疗便能够追加治疗室52(2)～52(4)。由此，在本实施方式中，不长时间地停止粒子束治疗系统1，便能够实现治疗的继续和治疗收入的确保。实施例1使用图1～图5对第一实施例进行说明。图1是粒子束治疗系统1的俯视图。图2是图1中的箭头II-II方向的剖视图。粒子束治疗系统1例如设置于医院的专业治疗楼等建筑物5。建筑物5由坚固的墙壁50建设为例如具备加速器室51、治疗室52(1)～52(3)、射束输送室53。在各室51～53设有适当的出入口54(未示出射束输送室53的出入口)。加速器室51是“第一楼层”的例子。三层构造的射束输送室53中的第二层及第三层是“第二楼层”的例子。治疗室52(1)是“第一治疗室”的例子。治疗室52(1)是用于照射作为“第一粒子束”的质子射束的质子束治疗室。治疗室52(2)、52(3)是“第二治疗室”的例子。第二治疗室52(2)、52(3)是用于照射作为“第二粒子束”的碳射束的碳束治疗室。如图2所示，本实施例的射束输送室53是三层构造。第一层53H是使射束从水平方向照射至第二治疗室52(2)、52(3)内的水平方向用楼层。第二层53S是使射束从倾斜方向照射至第二治疗室52(2)、52(3)内的倾斜方向用楼层。第三层53V是使射束从垂直方向照射至第二治疗室52(2)、52(3)内的垂直方向用楼层。在不区分层的情况下，称作射束输送室53。倾斜方向用楼层53S以及垂直方向用楼层53V相当于“第二楼层”。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种粒子束治疗系统，具备：/n建筑物，具有第一楼层和第二楼层；/n粒子束产生装置，设置于上述第一楼层，并产生粒子束；/n第一输送系统，用于从上述粒子束产生装置向第一治疗室内的第一照射装置输送粒子束；以及/n第二输送系统，从上述第一输送系统分支，并用于经由上述第二楼层向第二治疗室的第二照射装置输送粒子束，/n上述粒子束治疗系统的特征在于，/n上述第二输送系统具有第一偏转电磁铁，该第一偏转电磁铁使粒子束向与上述粒子束产生装置的设置面不同的上述第二楼层的方向偏转，/n上述建筑物具有屏蔽上述第一楼层与上述第二楼层的屏蔽壁，/n在相对于粒子束的前进方向比上述第一偏转电磁铁靠后方的位置以贯通上述屏蔽壁的方式设置上述第二输送系统。/n

【技术特征摘要】
20180921 JP 2018-1780201.一种粒子束治疗系统，具备：
建筑物，具有第一楼层和第二楼层；
粒子束产生装置，设置于上述第一楼层，并产生粒子束；
第一输送系统，用于从上述粒子束产生装置向第一治疗室内的第一照射装置输送粒子束；以及
第二输送系统，从上述第一输送系统分支，并用于经由上述第二楼层向第二治疗室的第二照射装置输送粒子束，
上述粒子束治疗系统的特征在于，
上述第二输送系统具有第一偏转电磁铁，该第一偏转电磁铁使粒子束向与上述粒子束产生装置的设置面不同的上述第二楼层的方向偏转，
上述建筑物具有屏蔽上述第一楼层与上述第二楼层的屏蔽壁，
在相对于粒子束的前进方向比上述第一偏转电磁铁靠后方的位置以贯通上述屏蔽壁的方式设置上述第二输送系统。


2.根据权利要求1所述的粒子束治疗系统，其特征在于，
上述屏蔽壁以遮断上述第一楼层与上述第二楼层的方式立设于上述第二楼层。


3.根据权利要求1所述的粒子束治疗系统，其特征在于，
上述屏蔽壁以遮断上述第一楼层与上述第二楼层的方式与上述第二楼层平行地设置。


4.根据权利要求1所述的粒子束治疗系统，其特征在于，
在上述第二输送系统的中途且在粒子束的前进方向上的上述屏蔽壁的后侧设有闸阀。


5.根据权利要求4所述的粒子束治疗系统，其特征在于，
上述第一输送系统与上述第一照射装置连接，上述第二输送系统由上述闸阀遮断。


6.根据权利要求5所述的粒子束治疗系统，其特征在于，
在扩充治疗室的预定时期，上述第二输送系统与上述第二照射装置连接，并且上述闸阀开阀。


7.根据权利要求6所述的粒子束治疗系统，其特征在于，
在上述预定时期，除去上述屏蔽壁的至少一部分。


8.根据权利要求1所述的粒子束治疗系统，其特征在于，
上述第二楼层至少包括垂直方向用楼层和倾斜方向用楼层中的任一个，上述垂直方向用楼层用于使粒子束从垂直方向照射至上述第二治疗室，上述倾斜方向用楼层使粒子束从相对于上述垂直方向倾斜预定角度的倾斜方向照射至上述第二治疗室。


9.根据权利要求8所述的粒子束治疗系统，其特征在于，
上述第二楼层包括上述垂直方向用楼层和上述倾斜方向用楼层，
上述屏蔽壁以分别遮断...

【专利技术属性】
技术研发人员：西内秀晶，佐竹宏之，筱泽柚衣，藤崎雄滋郎，
申请(专利权)人：株式会社日立制作所，
类型：发明
国别省市：日本;JP