掩模衬底检查系统技术方案

公开了掩模衬底检查系统。掩模衬底检查系统包括测量目标模块、相机模块和控制模块。测量目标模块包括掩模衬底和向掩模衬底供给光的表面光源。相机模块使用来自表面光源的光来生成掩模衬底的图像信息。控制模块在不损坏掩模衬底的情况下使用图像信息来确定掩模衬底中是否存在有缺陷。

Mask substrate inspection system

【技术实现步骤摘要】
掩模衬底检查系统相关申请的相交引用本专利申请要求于2018年9月20日提交的第10-2018-0113192号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的内容通过引用以其整体地并入本文。
本公开涉及检查掩模衬底是否有缺陷的系统。
技术介绍
通常，通过用于制造显示面板的掩模衬底来限定多个开口。通过掩模衬底限定的开口需要具有恒定的尺寸和形状，并且需要均匀地排列以提供具有高品质的显示面板。在传统的显示面板中，通过扫描电子显微镜(SEM)检查掩模衬底的一部分，以核查通过掩模衬底限定的开口的尺寸、形状和布置。在使用扫描电子显微镜(SEM)时，可高精度地检查掩模衬底，但是不可能检查掩模衬底的整个区域。另外，在使用扫描电子显微镜(SEM)时，由于只能进行破坏性检查，因此掩模衬底的一些部分被损坏。
技术实现思路
本公开提供能够在不损坏掩模衬底的情况下完整地检查掩模衬底的掩模衬底检查系统。本专利技术构思的实施方式提供包括测量目标模块、相机模块和控制模块的掩模衬底检查系统。测量目标模块包括表面光源、固定本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.掩模衬底检查系统，包括：/n测量目标模块，所述测量目标模块包括：/n表面光源；/n固定构件，所述固定构件包括第一玻璃衬底和第二玻璃衬底并且布置在所述表面光源上；以及/n掩模衬底，所述掩模衬底布置在所述第一玻璃衬底与所述第二玻璃衬底之间并且具有由所述掩模衬底中的多个开口限定的第一分辨率；/n相机模块，所述相机模块布置在所述表面光源和所述固定构件上方，接收从所述表面光源发射的光，并且包括具有比所述第一分辨率更高的第二分辨率的图像传感器；以及/n控制模块，所述控制模块接收由所述相机模块拍摄的图像信息，/n其中，所述控制模块将与接收到的所述图像信息对应的图像划分为分别与所述多个开口对应的多个区域，...

【技术特征摘要】
20180920 KR 10-2018-01131921.掩模衬底检查系统，包括：
测量目标模块，所述测量目标模块包括：
表面光源；
固定构件，所述固定构件包括第一玻璃衬底和第二玻璃衬底并且布置在所述表面光源上；以及
掩模衬底，所述掩模衬底布置在所述第一玻璃衬底与所述第二玻璃衬底之间并且具有由所述掩模衬底中的多个开口限定的第一分辨率；
相机模块，所述相机模块布置在所述表面光源和所述固定构件上方，接收从所述表面光源发射的光，并且包括具有比所述第一分辨率更高的第二分辨率的图像传感器；以及
控制模块，所述控制模块接收由所述相机模块拍摄的图像信息，
其中，所述控制模块将与接收到的所述图像信息对应的图像划分为分别与所述多个开口对应的多个区域，计算具有分别与所述多个区域对应的最高亮度值的多个点，
其中，所述控制模块通过将所述掩模衬底的中心部处的图像信息的平均亮度值调节为与所述掩模衬底的边缘部处的图像信息的平均亮度值相同来生成经校正的图像信息。


2.如权利要求1所述的掩模衬底检查系统，其中，从所述表面光源发射的所述光的每单位面积的亮度与从所述表面光源的不同部分发射的所述光的每单位面积的亮度相同。


3.如权利要求1所述的掩模衬底检查系统，其中，所述控制模块从所述图像信息计算与多个边界区域对应的信息，所述边界区域中的每个围绕所述多个点中的对应的点。


4.如权利要求3所述的掩模衬底检查系统，其中，所述多个边界区域中的每个包括多个子区域，所述控制模块使用与所述多个子区域对...

【专利技术属性】
技术研发人员：文胜铉，梁铜彧，李铉大，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR