【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光学系统的主动对准校正
本专利技术大体上涉及光学系统及过程,且更特定地说,涉及主动地校正光学系统的未对准组件。
技术介绍
三维成像及深度估计技术在许多应用中具有不断增长的重要性。为实施这些三维成像及深度估计技术,许多光学系统合并在经恰当对准及校准时捕获特性化环境的部分的图像数据的多个组件。为产生精确深度值,光学系统常常在所述组件中的每一者之间维持指定位置关系(例如位移、定向等等)。
技术实现思路
用于产生至少一个深度值的所揭示计算机实施方法可包含由一或多个处理器从具有第一光轴的第一光学装置或具有第二光轴的第二光学装置接收所捕获图像数据。所述方法可进一步包含由所述一或多个处理器接收指示衬底的偏斜的传感器数据,所述衬底支撑所述第一光学装置及所述第二光学装置。所述偏斜可导致所述第一光轴相对于所述第二光轴的未对准。所述方法可包含由所述一或多个处理器基于所述所捕获图像数据及所述传感器数据产生深度值。所述所产生深度值可反映对所述第一光轴相对于所述第二光轴的所述未对准的补偿。一种用于产生至少一个深度值的所揭示系统可包含:非暂时性机器可读存储媒体,其存储指令;及至少一个处理器,其经配置以耦合至所述非暂时性机器可读存储媒体。所述至少一个处理器可经配置以执行所述指令以接收由具有第一光轴的第一光学装置或具有第二光轴的第二光学装置捕获的所捕获图像数据。所述至少一个处理器可经进一步配置以执行所述指令以接收指示衬底的偏斜的传感器数据,所述衬底支撑所述第一光学装置及所述第二光学装置。所述偏斜可导致所述第一光轴相对于 ...
【技术保护点】
1.一种产生至少一个深度值的方法,所述方法包括:/n由一或多个处理器从具有第一光轴的第一光学装置或具有第二光轴的第二光学装置接收所捕获图像数据;/n由所述一或多个处理器接收指示衬底的偏斜的传感器数据,所述衬底支撑所述第一光学装置及所述第二光学装置,所述偏斜导致所述第一光轴相对于所述第二光轴的未对准;/n由所述一或多个处理器基于所述所捕获图像数据及所述传感器数据产生深度值,所述深度值反映对所述第一光轴相对于所述第二光轴的所述未对准的补偿。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170727 US 15/661,5991.一种产生至少一个深度值的方法,所述方法包括:
由一或多个处理器从具有第一光轴的第一光学装置或具有第二光轴的第二光学装置接收所捕获图像数据;
由所述一或多个处理器接收指示衬底的偏斜的传感器数据,所述衬底支撑所述第一光学装置及所述第二光学装置,所述偏斜导致所述第一光轴相对于所述第二光轴的未对准;
由所述一或多个处理器基于所述所捕获图像数据及所述传感器数据产生深度值,所述深度值反映对所述第一光轴相对于所述第二光轴的所述未对准的补偿。
2.根据权利要求1所述的方法,其中产生所述深度值包括:
响应于所述偏斜的量超过阈值的确定,针对所述第一及光轴相对于所述第二光轴的所述未对准校正所述所捕获图像数据;及
基于所述经校正图像数据产生所述深度值。
3.根据权利要求1所述的方法,其中:
所述方法进一步包括获得特性化所述成像系统的内在未对准的校准数据;
产生所述深度值包括基于所述所捕获图像数据、所述传感器数据及所述校准数据产生所述深度值;且
所述深度值反映对所述成像系统的所述内在未对准及所述第一光轴相对于所述第二光轴的所述未对准的补偿。
4.根据权利要求3所述的方法,其中产生所述深度值进一步包括:
针对所述成像系统的所述内在未对准及所述第一光轴相对于所述第二光轴的未对准校正所述所捕获图像数据;及
基于所述经校正图像数据产生所述深度值。
5.根据权利要求3所述的方法,其中产生所述深度值进一步包括:
针对所述成像系统的所述内在未对准校正所述所捕获图像数据;
基于所述经校正图像数据产生所述深度值;及
针对所述第一光轴相对于所述第二光轴的所述未对准校正所述深度值。
6.根据权利要求3所述的方法,其中产生所述深度值进一步包括:
基于所述所捕获图像数据产生所述深度值;及
针对所述成像系统的所述内在未对准及所述第一光轴相对于所述第二光轴的所述未对准校正所述深度值。
7.根据权利要求1所述的方法,其中:
所述第一光轴相对于所述第二光轴的所述未对准包括在所述第一光轴或所述第二光轴中的至少一者的方向上的偏航角误差,所述偏航角误差由所述衬底的所述偏斜产生;且
所述深度值反映对所述偏航角误差的补偿。
8.根据权利要求1所述的方法,其中:
接收所述传感器数据包括从屈曲传感器接收所述传感器数据,所述屈曲传感器经配置以测量沿所述衬底的至少一个弯曲轴的所述偏斜;且
所述方法进一步包括基于所述传感器数据确定偏斜量。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述屈曲传感器包括导电的基于墨水的传感器、光纤传感器、由导电织物、线或聚合物形成的传感器、应变计,或压电限制性传感器。
10.根据权利要求1所述的方法,其中:
所述成像系统包括壳体,所述衬底安置于所述壳体内;且
所述衬底的所述偏斜由所述壳体的部分施加外力或弯曲力矩而产生。
11.根据权利要求10所述的方法,其中所述衬底包括印刷电路板。
12.根据权利要求1所述的方法,其中:
所述第一光学装置为辐射发射器;且
所述第二光学装置为图像传感器。
13.一种用于产生至少一个深度值的系统,所述系统包括:
非暂时性机器可读存储媒体,其存储指令;及
至少一个处理器,其经配置以耦合至所述非暂时性机器可读存储媒体,所述至少一个处理器经配置以执行所述指令以进行以下操作:
接收从具有第一光轴的第一光学装置或具有第二光轴的第二光学装置捕获的所捕获图像数据;
接收指示衬底的偏斜的传感器数据,所述衬底支撑所述第一光学装置及所述第二光学装置,所述偏斜导致所述第一光轴相对于所述第二光轴的未对准;及
基于所述所捕获图像数据及所述传感器数据产生深度值,所述深度值反映对所述第一光轴相对于所述第二光轴...
【专利技术属性】
技术研发人员:H·宁,K·M·阿塔纳索夫,A·J·林德纳,
申请(专利权)人:高通股份有限公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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