【技术实现步骤摘要】
不可见光波段表面等离激元共振的测谱和成像光学系统
本专利技术设计一种微纳光子测谱成像光学系统，尤其涉及一种不可见光波段表面等离激元共振的测谱和成像光学系统。
技术介绍
表面等离激元共振是光与等离激元纳米结构相互作用过程中形成的电磁振荡，因其能够突破衍射极限以及实现局域电磁场增强，在超分辨成像、拉曼光谱增强、生物传感、有机太阳能电池等领域得到了广泛的应用。对表面等离激元共振的光学表征，如共振峰的波长位置、共振峰的半高全宽等是充分利用共振效应的前提。理论上，对于表面等离激元共振的光学表征既可以利用等离激元纳米结构的吸收光谱和散射光谱，还可以利用其消光光谱。使用吸收光谱仅可表征化学方法合成的、各向同性的等离激元纳米结构，具有很强的局限性。因此，目前大多采用明场或暗场散射光学显微镜，测量等离激元纳米结构的散射光谱。利用明场或暗场散射光学显微镜的优点在于光学分辨率较高，缺点在于成本高、结构复杂且仅可表征可见光波段的表面等离激元共振。
技术实现思路
本专利技术目的在于克服现有技术中存在的不足而提供一种简易、低成本的用...
【技术保护点】
1.一种不可见光波段表面等离激元共振的测谱和成像光学系统，包括有激光器、载物台、被测等离激元纳米结构、测谱主光路、成像光路和照明光路，其特征在于：所述的测谱主光路至少包括有两个共焦的聚光光学元件、两个分光光学元件和一个具有色散功能的光电探测器；所述的成像光路至少包括有两个共轭的聚光光学元件、一个分光光学元件和一个成像元件；所述的照明光路至少包括有一个白光光源、一个分光光学元件和三个聚光光学元件。/n
【技术特征摘要】
1.一种不可见光波段表面等离激元共振的测谱和成像光学系统，包括有激光器、载物台、被测等离激元纳米结构、测谱主光路、成像光路和照明光路，其特征在于：所述的测谱主光路至少包括有两个共焦的聚光光学元件、两个分光光学元件和一个具有色散功能的光电探测器；所述的成像光路至少包括有两个共轭的聚光光学元件、一个分光光学元件和一个成像元件；所述的照明光路至少包括有一个白光光源、一个分光光学元件和三个聚光光学元件。
2.根据权利要求1所述的不可见光波段表面等离激元共振的测谱和成像光学系统，其特征在于：所述的被测等离激元纳米结构放置于两个共焦的聚光光学元件的共同焦点处，两个分光光学元件位于两个共焦的聚光光学元件的两侧，具有色散功能的光电探测器位于测谱主光路中沿光束传播方向的末端。
3.根据权利要求1所述的不可见光波段表面等离激元共振的测谱和成像光学系统，其特征在于：所述的测谱主光路中的共焦的聚光光学元件包括有聚光光学元件一和聚光光学元件二，所述的成像光路中的共轭的聚光光学元件包括有聚光光学元件五和测谱主电路中的聚光光学元件二，所述的照明电路中的三个聚光光学元...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。