光化学反应槽用温控光源装置及该光化学反应槽制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光化学反应槽用温控光源装置，供设置于一光化学反应槽中，并供导接至一温控装置，前述光化学反应槽在进行任一光化学反应时，各自存在有一适当反应温度，该温控光源装置包括：一根沿着一长度方向延伸并通透一预定波长范围的光且耐反应的空心柱状壳体；上述空心柱状壳体中流有由上述温控装置供应/回收的一温控流体；及复数个分别导热连接上述温控流体的电路基板，每一前述电路基板上分别设置有复数个发光方向穿透上述空心柱状壳体朝向上述光化学反应槽的发光件，前述发光件具有一位于上述预定波长范围的主发光波长以及一操作极限温度。此外，本发明专利技术还公开了具有温控光源装置的光化学反应槽。

Temperature control light source device for photochemical reaction tank and the photochemical reaction tank

【技术实现步骤摘要】
光化学反应槽用温控光源装置及该光化学反应槽
本专利技术涉及一种光化学反应槽用温控光源装置，此外，本专利技术还涉及具有温控光源装置的光化学反应槽。
技术介绍
光化学反应技术现今已广泛应用于制药、卫生处理及化学工程等领域。利用光源对反应物照射，让反应物在光的作用下产生化学反应，产出生成物以达成所需目的。此外，一般也常使用紫外光来分解流体中的有机物，以达成净化流体的效果。目前执行光化学反应的方式大多是将反应物放置在一容器内，并使用光源装置对反应物进行照射，使反应物产生光化学反应。在现有技术下，即使因应各种不同的反应需求，可以选择改变不同的光源，以取得适当的发光波长，但因所发光束不能无限制地穿透反应物，使得光源的照射范围有限，甚至有研究显示，一般的光源平均仅能照射至前方两公分半径的范围，稍远就无法穿透，因此常发生反应物无法均匀地受到光照，导致反应物反应不完全的问题。另一方面，大部分的化学反应都需要在例如摄氏百度以上的高温环境运作，相对地，为使所发光束的波长集中，目前的光源装置多采用LED灯条，在运作时则仅能处于摄氏数十度的室温环境，且温度每提高摄氏一度，发光强度就可能降低例如百分之三，一旦光源装置承受过多热能将大幅影响发光效能，进而造成反应物的光化学反应效率降低。反之，若完全配合光源发光效率的需求，强力将环境冷却至最佳发光的例如摄氏二、三十度，又可能使得反应物产生化学反应所需要的特定温度范围被破坏，不利在此种室温温度下进行光化学反应。尤其当光源仅能平均照射至二公分半径的范围时，替密布的光源进行冷却，无疑恰好抵销化学反应槽内的升温效果。习知的光源装置并非专门为化学反应设计，往往仅考虑光源本身的操作温度需求，提供冷却装置以求抵销光源本身发热，却不曾考虑化学反应所需的温度环境，甚至可能因为特定的化学反应属吸热反应，光源反而需要被加温而非冷却，相较于实际光化学反应槽的运作需要，目前的光源装置皆不具有本专利技术所称的控制温度升高或降低的智能功效，导致反应物的光化学反应不仅产出效率难以达到预期，若光源没有被适当配置，每次光化学反应所产出的反应物浓度，也就是一般所称的产品良率也无法提升。更进一步，由于反应物或生成物有时会沈淀于光源装置的外表面，甚至在有机反应中，还可能造成藻类或苔藓类植物乃至于微生物生长，降低光源装置表面或反应物流体的透光度，一般现有化学反应槽若非受限于上述反应效率低落而必须长时间进行反应而缺乏让反应物流动的机制，就是必须让反应物多次反复流动，以顺应只有靠近光源装置的反应物能够产生光化学反应的反应不均匀的问题。对于光源的上述遮蔽，更大幅降低光化学反应槽处理反应物的效率。因此，如何解决目前光源装置无法智能升温和散热的缺失，以及改良放置反应物的容器结构，提升处理反应物的生产效率以及产出良率，仍为现今亟需研究改善的方向所在。
技术实现思路
针对现有技术的上述不足，根据本专利技术的实施例，希望提供一种用于光化学反应槽的温控光源装置，具有智能控温功能，用户可以根据光化学反应槽内的温度需求设定适当反应温度，使温控光源装置进行合理范围的加热或冷却，让反应物能在最适当的光照环境下产生化学反应；此外，本专利技术还希望提供一种光化学反应槽，旨在：(1)根据光源的照射距离设置温控光源装置的数量以及排列方式，让反应物可以均匀地受到光源照射，使光化学反应所产出的反应物浓度能够有效提升；(2)藉由温度控制，让光源装置的操作环境被调整到操作极限温度范围中，最接近反应温度的温度环境，让光源对化学反应槽的温度干扰降到最低；(3)透过入口和出口的设置，让反应物能够持续流入与流出，或者以循环的方式让反应物从入口和出口反复循环流动，使处理反应物的效率能够大幅提升；(4)能够有效清除温控光源装置及光化学反应槽上堆积的反应物、生成物或藻类等污垢。根据实施例，本专利技术提供的一种温控光源装置及具有该装置的光化学反应槽，该光化学反应槽在进行任一光化学反应时，各自存在有一适当反应温度，该光化学反应槽包括：一反应槽主体，该反应槽主体形成有一反应空间、一入口及一出口；及至少一容置于该反应空间并导接至一温控装置的温控光源装置，包括一根沿着一长度方向延伸并通透一预定波长范围的光且耐反应的空心柱状壳体；上述空心柱状壳体中流有由上述温控装置供应/回收的一温控流体；及复数分别导热连接上述温控流体的电路基板，每一前述电路基板上分别设置有复数个发光方向穿透上述空心柱状壳体朝向上述光化学反应槽的发光件，前述发光件具有一个位于上述预定波长范围的主发光波长，以及一个操作极限温度；其中，前述温控流体是被控制在一个不高于上述操作极限温度且接近上述适当反应温度的控制温度。在本专利技术之一实施态样中，进一步包括设置于上述空心柱状壳体中，并供上述温控流体在其中流动的至少一温控管。在本专利技术之一实施态样中，进一步包括至少一设置于该反应空间的隔板，使该反应空间分隔形成一流通道，其中每一上述隔板形成有至少一供上述空心柱状壳体贯穿的贯穿孔，且该入口由该流通道导通连接至该出口，上述隔板为可动地设置于该反应空间，藉此调整上述隔板之间的距离。在本专利技术之一实施态样中，进一步包括对应每一上述空心柱状壳体并供清洁前述对应空心柱状壳体的外表面的一组清洁装置；上述清洁装置为一组供调控上述隔板间距离的驱动器或是一组供分别清洁上述空心柱状壳体的外表面的清洁刷。在本专利技术之一实施态样中，进一步包括一组回馈感测装置，该回馈感测装置包括：至少一个供感测上述发光件所发并且透出上述空心柱状壳体的光强度而转换为至少一电讯号输出的光传感器；及一个供接收上述光传感器输出电讯号并驱动上述清洁装置的处理器。相较于现有技术，本专利技术揭露的用于光化学反应槽的温控光源装置可透过温控流体控制温度升高或降低，使光化学反应槽内的反应物能接近适当反应温度。而本专利技术揭露的光化学反应槽，藉由温控光源装置与隔板在光化学反应槽的配置，让反应物可以均匀地受到光源照射；同时，透过光化学反应槽的出入口，可持续接收反应物流入及流出，或使反应物循环流动，使得反应物的生产效率能够大幅提升。另再藉由光传感器与清洁装置，可自动清除温控光源装置及光化学反应槽上堆积的反应物或生成物，避免光线受到遮蔽而影响光化学反应。附图说明图1为本专利技术温控光源装置的第一较佳实施例的立体示意图。图2为图1实施例中温控光源装置的连接示意图。图3为本专利技术具有温控光源装置的光化学反应槽的第一较佳实施例的立体示意图。图4为本专利技术具有温控光源装置的光化学反应槽的第二较佳实施例的立体示意图。图5为图4实施例中具有温控光源装置的光化学反应槽的方块图。图6为本专利技术温控光源装置的第二较佳实施例的立体示意图。图7为本专利技术具有温控光源装置的光化学反应槽的第三较佳实施例的立体示意图。图8为图7实施例中具有温控光源装置的光化学反应槽的侧视图。其中：10、46、60、73为温控光源装置；11、61、74为空心柱状壳体；12为温控管；13、62、75为电路基板；14为温控件；15为泵浦；16、63、76为发光件；本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光化学反应槽用温控光源装置，供设置于一光化学反应槽中，并供导接至一温控装置，前述光化学反应槽在进行任一光化学反应时，各自存在有一适当反应温度，其特征是，该温控光源装置包括：/n一根沿着一长度方向延伸并通透一预定波长范围的光且耐反应的空心柱状壳体；/n上述空心柱状壳体中流有由上述温控装置供应/回收的一温控流体；/n复数个分别导热连接上述温控流体的电路基板，每一前述电路基板上分别设置有复数个发光方向穿透上述空心柱状壳体朝向上述光化学反应槽的发光件，前述发光件具有一个位于上述预定波长范围的主发光波长，以及一个操作极限温度；/n前述温控流体是被控制在一个不超过上述操作极限温度且接近上述适当反应温度的控制温度。/n

【技术特征摘要】
1.一种光化学反应槽用温控光源装置，供设置于一光化学反应槽中，并供导接至一温控装置，前述光化学反应槽在进行任一光化学反应时，各自存在有一适当反应温度，其特征是，该温控光源装置包括：
一根沿着一长度方向延伸并通透一预定波长范围的光且耐反应的空心柱状壳体；
上述空心柱状壳体中流有由上述温控装置供应/回收的一温控流体；
复数个分别导热连接上述温控流体的电路基板，每一前述电路基板上分别设置有复数个发光方向穿透上述空心柱状壳体朝向上述光化学反应槽的发光件，前述发光件具有一个位于上述预定波长范围的主发光波长，以及一个操作极限温度；
前述温控流体是被控制在一个不超过上述操作极限温度且接近上述适当反应温度的控制温度。


2.如权利要求1所述的温控光源装置，其特征是，进一步包括设置于上述空心柱状壳体中，并供上述温控流体在其中流动的至少一温控管。


3.一种光化学反应槽，该光化学反应槽在进行任一光化学反应时，各自存在有一适当反应温度，其特征是，该光化学反应槽包括：
一反应槽主体，该反应槽主体形成有一反应空间、一入口及一出口；
至少一容置于该反应空间并导接至一温控装置的温控光源装置，该温控光源装置包括：
一根沿着一长度方向延伸并通透一预定波长范围的光且耐反应的空心柱状壳体；
上述空心柱状壳体中流有由上述温控装置供应/回收的一温控流体；
复数个分别导热连接上述温控流体的电路基板，每一前述电路基板上分别设置有复数个发光方向穿透上述空心柱状壳体朝向上述光化学反应槽的发光件，前...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨之逸，
申请(专利权)人：捷微科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71