【技术实现步骤摘要】
投影光学系统及图像投影装置
本专利技术涉及一种投影光学系统及图像投影装置。
技术介绍
“图像投影装置”作为投影仪装置已广为人知,并且已对此提出了各种方案。已经提出了各种类型的投影光学系统作为用于图像投影装置来将显示于图像显示元件的图像作为放大图像投影在被投影面上,作为其中的一种类型,已知有包括折射光学系统和具有折射力的反射光学系统、将通过反射光学系统来反射从配置于图像显示元件侧的折射光学系统出射的成像光束并使其在被投影面上成像的类型(专利文献1等)。专利文献1:日本特愿2014-80509
技术实现思路
本专利技术的课题在于实现具有折射光学系统和反射光学系统的新型投影光学系统。本专利技术的投影光学系统是一种将显示于图像显示元件的图像作为放大图像投影在被投影面上的投影光学系统,所述投影光学系统是从缩小侧朝向放大侧依次配置第一折射光学系统、反射光学系统及第二折射光学系统而成的,所述反射光学系统具有一个凹面镜,所述第一折射光学系统具有将显示于所述图像显示元件的图像的中间图像成像于所述凹面镜的所述缩小侧的功能,所述第二折射光学系统是透镜系统,且具有一个以上非球面,将所述第一折射光学系统的光轴作为基准光轴,并将在所述图像显示元件的有效图像显示区域中以距离所述基准光轴最远的位置为物点的主光线作为最外角主光线,从所述最外角主光线入射到所述凹面镜的位置到所述基准光轴之间的光路长度DM、在所述第二折射光学系统中从配置于最靠近放大侧的透镜的入射面到所述基准光轴之间的光路长度DR满足第一条件:0 ...
【技术保护点】
1.一种投影光学系统,将显示于图像显示元件的图像作为放大图像投影在被投影面上,其特征在于,/n所述投影光学系统是从缩小侧朝向放大侧依次配置第一折射光学系统、反射光学系统及第二折射光学系统而成的,/n所述反射光学系统具有一个凹面镜,/n所述第一折射光学系统具有将显示于所述图像显示元件的图像的中间图像成像于所述凹面镜的所述缩小侧的功能,/n所述第二折射光学系统是透镜系统,且具有一个以上非球面,/n将所述第一折射光学系统的光轴作为基准光轴,并将在所述图像显示元件的有效图像显示区域中以距离所述基准光轴最远的位置为物点的主光线作为最外角主光线,/n从所述最外角主光线入射至所述凹面镜的位置到所述基准光轴之间的光路长度DM、在所述第二折射光学系统中从所述最外角主光线朝向配置于最靠近放大侧的透镜的入射面的入射位置到所述基准光轴之间的光路长度DR满足第一条件:0.2<DR/DM<3.0。/n
【技术特征摘要】
20180829 JP 2018-1605961.一种投影光学系统,将显示于图像显示元件的图像作为放大图像投影在被投影面上,其特征在于,
所述投影光学系统是从缩小侧朝向放大侧依次配置第一折射光学系统、反射光学系统及第二折射光学系统而成的,
所述反射光学系统具有一个凹面镜,
所述第一折射光学系统具有将显示于所述图像显示元件的图像的中间图像成像于所述凹面镜的所述缩小侧的功能,
所述第二折射光学系统是透镜系统,且具有一个以上非球面,
将所述第一折射光学系统的光轴作为基准光轴,并将在所述图像显示元件的有效图像显示区域中以距离所述基准光轴最远的位置为物点的主光线作为最外角主光线,
从所述最外角主光线入射至所述凹面镜的位置到所述基准光轴之间的光路长度DM、在所述第二折射光学系统中从所述最外角主光线朝向配置于最靠近放大侧的透镜的入射面的入射位置到所述基准光轴之间的光路长度DR满足第一条件:0.2<DR/DM<3.0。
2.一种投影光学系统,将显示于图像显示元件的图像作为放大图像投影在被投影面上,其特征在于,
所述投影光学系统是从缩小侧朝向放大侧依次配置第一折射光学系统、反射光学系统及第二折射光学系统而成的,
所述反射光学系统具有一个凹面镜,
所述第一折射光学系统具有将显示于所述图像显示元件的图像的中间图像成像于所述凹面镜的所述缩小侧的功能,
所述第二折射光学系统是透镜系统,且具有一个以上非球面,
将所述第一折射光学系统的光轴作为基准光轴,并将在所述图像显示元件的有效图像显示区域中以距离所述基准光轴最远的位置为物点的主光线作为最外角主光线,
最外角主光线朝向最靠近放大侧的透镜的入射面的入射位置距离所述基准光轴的高度YLB、从所述反射光学系统的凹面镜的镜面上的所述最外角主光线距离所述基准光轴的高度YMR满足第二条件:0.2<YLB/YMR<3.5。
3.一种投影光学系统,将显示于图像显示元件的图像作为放大图像投影在被投影面上,其特征在于,
所述投影光学系统是从缩小侧朝向放大侧依次配置第一折射光学系统、反射光学系统及第二折射光学系统而成的,
所述反射光学系统具有一个凹面镜,
所述第一折射光学系统具有将显示于所述图像显示元件的图像的中间图像成像于所述凹面镜的所述缩小侧的功能,
所述第二折射光学系统是透镜系统,具有一个以上非球面,
所述基准光轴与有效图像显示区域之间的最大高度Yi、从最靠近所述图像显示面侧的透镜面到所述凹面镜的镜面的所述基准光轴上的距离OAL满足第三条件:5.0<OAL/Yi<30.0。
4.一种投影光学系统,将显示于图像显示元件的图像作为放大图像投影在被投影面上,其特征在于,
所述投影光学系统是所述缩小侧朝向放大侧依次配置第一折射光学系统、反射光学系统及第二折射光学系统而成的,
所述反射光学系统具有一个凹面镜,
所述第一折射光学系统具有将显示于所述图像显示元件的图像的中间图像成像于所述凹面镜的所述缩小侧的功能,
所述第二折射光学系统是透镜系统,且具有一个以上非球面,
所述第一折射光学系统的焦距f1A、整个系统的焦距f满足第四条件:0.04<f/f1A<0.5。
5.一种投影光学系统,将显示于图像显示元件的图像作为放大图像投影在被投影面上,其特征在于,
所述投影光学系统是从缩小侧朝向放大侧依次配置第一折射光学系统、反射光学系统及第二折射光学系统而成的,
所述反射光学系统具有一个凹面镜,
所述第一折射光学系统具有将显示于所述图像显示元件的图像的中间图像成像于所述凹面镜的所述缩小侧的功能,
所述第二折射光学系统是透镜系统,且具有一个以上非球面,
将所述第一折射光学系统的光轴作为基准光轴,并将在所述图像显示元件的有效图像显示区域中以距离所述基准光轴最远的位置为物点的主光线作为最外角主光线,
从所述基准光轴到所述有效图像显示区域的最大高度Yi、所述凹面镜上的所述最外角主光线距离所述基准光轴的高度YMR满足第五条件:1.5<YMR/Yi<5.0。
6.一种投影光学系统,将显示于图像显示元件的图像作为放大图像投影在被投影面上,其特征在于,
所述投影光学系统是从缩小侧到放大侧依次配置有第一折射光学系统、反射...
【专利技术属性】
技术研发人员:宫健二,
申请(专利权)人:理光工业解决方案有限公司,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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