表面保护薄膜用基材、该基材的制造方法、使用该基材的表面保护薄膜技术

本发明专利技术提供表面保护薄膜用基材、该基材的制造方法、使用该基材的表面保护薄膜。提供具有优异的挠性或耐弯折性、并且可良好地抑制光学检查时的漏光、着色及彩虹状不均匀的表面保护薄膜用基材。本发明专利技术的表面保护薄膜用基材由含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜构成，面内相位差Re(550)为30nm以下，MIT试验中的直至断裂为止的弯折次数为500次以上。本发明专利技术的表面保护薄膜用基材的制造方法包括：将含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜形成材料成形为薄膜状；及对成形得到的薄膜进行逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸。

Substrate for surface protective film, manufacturing method of the substrate, surface protective film using the substrate

【技术实现步骤摘要】
表面保护薄膜用基材、该基材的制造方法、使用该基材的表面保护薄膜
本专利技术涉及表面保护薄膜用基材、该基材的制造方法、使用该基材的表面保护薄膜、及带表面保护薄膜的光学薄膜。
技术介绍
对于光学薄膜(例如，偏光板、包含偏光板的层叠体)，为了在直至应用该光学薄膜的图像显示装置实际使用之前的期间保护该光学薄膜(最终为图像显示装置)，以可剥离的方式贴合有表面保护薄膜。实用中，将光学薄膜/表面保护薄膜的层叠体贴合于显示单元来制作图像显示装置，在贴合有该层叠体的状态下将图像显示装置供于光学试验(例如，点亮试验)，在之后的适当的时间将表面保护薄膜剥离去除。表面保护薄膜代表性地具有作为基材的树脂薄膜和粘合剂层。利用以往的表面保护薄膜，有时在光学检查时发生漏光、着色、彩虹状不均匀等，成为光学检查的精度降低的原因。其结果，有时尽管图像显示装置自身没有问题，在出厂前的光学检查中也会被判断为不良，由此，存在从图像显示装置的制造到出厂为止的效率降低的问题。进而，对于表面保护薄膜(实质上为基材)，考虑贴合时及剥离时的操作性，要求优异的挠性。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2017-190406号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术是为了解决上述现有的问题而作出的，其主要目的在于，提供具有优异的挠性或耐弯折性、并且可良好地抑制光学检查时的漏光、着色及彩虹状不均匀的表面保护薄膜用基材。用于解决问题的方案本专利技术的实施方式的表面保护薄膜用基材由含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜构成，面内相位差Re(550)为30nm以下，MIT试验中的直至断裂为止的弯折次数为500次以上。1个实施方式中，上述含芴环聚酯包含二羧酸成分(A)和二醇成分(B)作为共聚成分，该二羧酸成分(A)包含芴二羧酸成分(A1)，所述芴二羧酸成分(A1)为选自下述式(1a)及(1b)所示的二羧酸中的至少1者，式(1a)及式(1b)中，R1及R2各自为取代基，k、m及n各自为0～4的整数，X1及X2各自为取代或非取代的2价烃基。1个实施方式中，上述含芴环聚酯相对于源自上述二羧酸成分(A)的结构单元总量包含50摩尔％以上源自上述芴二羧酸成分(A1)的结构单元。1个实施方式中，上述二醇成分(B)包含下述式(2)所示的芴二醇成分(B1)，式(2)中，Z为芳香族烃环，R3及R4各自为取代基，p各自为0～4的整数，q及r各自为0或1以上的整数，R5各自为亚烷基。1个实施方式中，上述表面保护薄膜用基材的总透光率为80％以上，雾度为1.0％以下。根据本专利技术的另一方面，提供上述表面保护薄膜用基材的制造方法。该制造方法包括：将含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜形成材料成形为薄膜状；及对该成形得到的薄膜进行逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸。1个实施方式中，上述制造方法中，上述逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸中的拉伸速度为10％/秒以下。根据本专利技术的又一方面，提供表面保护薄膜。该表面保护薄膜包含上述表面保护薄膜用基材和粘合剂层。根据本专利技术的又一方面，提供带表面保护薄膜的光学薄膜。该带表面保护薄膜的光学薄膜包含：光学薄膜、和以可剥离的方式贴合于该光学薄膜的上述表面保护薄膜。专利技术的效果根据本专利技术的实施方式，通过对含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜在规定的拉伸条件(代表性的为拉伸速度)下进行拉伸，能够实现兼顾非常小的面内相位差和优异的挠性或耐弯折性的表面保护薄膜用基材。具体实施方式以下，对本专利技术的优选实施方式进行说明，但本专利技术不限定于这些实施方式。A.表面保护薄膜用基材本专利技术的实施方式的表面保护薄膜用基材由含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜构成。聚合物合金可以为共混聚合物(polymerblend)、也可以为共聚物。优选为共混聚合物。含芴环聚酯及芳香族聚碳酸酯尽管为不同种类的高分子，但混合时会呈完全相容状态或稳定的微相分离状态，即使不使用增容剂也能够容易地形成共混聚合物。作为含芴环聚酯及芳香族聚碳酸酯的混合方法，可以采用任意适当的方法。作为混合方法的具体例，可列举出使含芴环聚酯及芳香族聚碳酸酯溶解于溶剂的方法、利用混炼机或挤出机将含芴环聚酯及芳香族聚碳酸酯熔融混合的方法。优选熔融混合。这是因为，能够防止制作表面保护薄膜用基材后由残存溶剂导致的光学特性(例如，相位差、波长色散特性等)的降低。含芴环聚酯包含二羧酸成分(A)和二醇成分(B)作为共聚成分。二羧酸成分(A)包含芴二羧酸成分(A1)。作为芴二羧酸成分，例如，可列举出下述式(1a)及(1b)所示的二羧酸。这些二羧酸可以单独使用也可以组合使用。式(1a)及式(1b)中，R1及R2各自为取代基，k、m及n各自为0～4的整数，X1及X2各自为取代或非取代的2价烃基。式(1a)中，作为取代基R1，例如，可列举出氰基、卤素原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子)、烃基[例如，烷基、芳基(例如，苯基等C6-10芳基)]等非反应性取代基。作为烷基，例如，可列举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、叔丁基等C1-12烷基。优选为C1-8烷基、更优选为C1-4烷基(例如，甲基)。各个取代基R1可以相同也可以不同。进而，取代基R1的取代数k为2以上的情况下，芴环中的同一苯环内的2个以上基团R1可以相同也可以不同。需要说明的是，构成芴环的2个苯环中的取代基R1的键合位置(取代位置)例如可列举出芴环的2-位、7-位、2-及7-位。取代基R1的取代数k例如为0～2的整数，优选为0或1、更优选为0。需要说明的是，构成芴环的2个苯环中，各个取代数k可以相同也可以不同。式(1b)中，取代基R2及取代数m各自与式(1a)中的取代基R1及取代数k同样。式(1b)中，亚甲基的重复数n例如为0～3的整数，优选为0～2的整数，更优选为0或1。式(1a)及(1b)中，作为X1及X2所示的烃基，例如，可列举出直链状或支链状亚烷基。作为具体例，可列举出亚甲基、亚乙基、三亚甲基、亚丙基、1,2-丁烷二基、2-甲基丙烷-1,3-二基等直链状或支链状C1-8亚烷基。优选的亚烷基为直链状或支链状C1-6亚烷基(例如，亚甲基、亚乙基、三亚甲基、亚丙基、2-甲基丙烷-1,3-二基等直链状或支链状C1-4亚烷基)。作为烃基的取代基，例如，可列举出芳基(苯基等)、环烷基(环己基等)。各个X1可以相同也可以不同。X1及X2可以相同也可以不同。X1优选为直链状或支链状C2-4亚烷基(例如，亚乙基、亚丙基等直链状或支链状C2-3亚烷基)，X2优选为直链状或支链状C1-3亚烷基(例如，亚甲基、亚乙基)。作为式(1a)所示的二羧酸成分，例如，可列举出9,9-双(羧基C2-6烷基)芴及它们的酯形成性衍生物。作为具体例，可列举出9,9-双(2-羧基乙基)芴、9,9-双(2-羧基丙基)芴。作为式(1b)所示的二羧酸成本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种表面保护薄膜用基材，其由含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜构成，面内相位差Re(550)为30nm以下，MIT试验中的直至断裂为止的弯折次数为500次以上。/n

【技术特征摘要】
20180828 JP 2018-1595321.一种表面保护薄膜用基材，其由含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜构成，面内相位差Re(550)为30nm以下，MIT试验中的直至断裂为止的弯折次数为500次以上。


2.根据权利要求1所述的表面保护薄膜用基材，其中，所述含芴环聚酯包含二羧酸成分A和二醇成分B作为共聚成分，该二羧酸成分A包含芴二羧酸成分A1，所述芴二羧酸成分A1为选自下述式(1a)及(1b)所示的二羧酸中的至少1者，



式(1a)及式(1b)中，R1及R2各自为取代基，k、m及n各自为0～4的整数，X1及X2各自为取代或未取代的2价烃基。


3.根据权利要求2所述的表面保护薄膜用基材，其中，所述含芴环聚酯相对于源自所述二羧酸成分A的结构单元总量包含50摩尔％以上源自所述芴二羧酸成分A1的结构单元。


4.根据权利要求2或3所述的表面保护薄膜用基材，其中，所述二醇成分...

【专利技术属性】
技术研发人员：中原步梦，清水享，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP