一种真空灭弧室纵磁触头结构制造技术

本发明专利技术公开了一种真空灭弧室纵磁触头结构。包括触头杯（1），触头杯（1）开口端连接有触头片（2）；触头杯（1）杯壁上沿周向分布有斜槽（3），斜槽（3）贯通开口端在开口端端面上形成槽口（4），槽口（4）与触头杯（1）的内杯壁（5）相切，触头杯（1）杯壁上相邻两斜槽（3）间切割得到的部分构成线圈（8）；所述的触头片（2）边缘沿周向分布有纵磁槽（6），纵磁槽（6）能够与所述槽口（4）轴向对齐，纵磁槽（6）一端贯通触头片（2）边缘。本发明专利技术能够在保持短路电流开断能力不变的情况下，实现低电阻目的，同时有利于小型化设计。

A longitudinal magnetic contact structure of vacuum interrupter

【技术实现步骤摘要】
一种真空灭弧室纵磁触头结构
本专利技术涉及真空灭弧室
，特别是一种真空灭弧室纵磁触头结构。
技术介绍
真空灭弧室是真空开关的核心器件，担负着控制电弧电流的任务，电路的切断与关合都靠真空灭弧室中带有磁场的一对触头的分合运动来完成。现有的小型真空灭弧室中，以触头杯开口端为上方，其控弧所用的杯状纵磁触头结构的触头杯线圈构成包括一个触头杯，触头杯杯壁上设置有斜槽，斜槽沿触头杯圆周向着触头杯开口端方向旋转，并贯通开口端。该结构在使用中存在一个缺点：为了增长电流的流通路径，提高纵向磁场强度，增强真空灭弧室短路电流的开断能力，往往需要增大斜槽的旋转角度α(目前的α常在90～103°之间)，但是随着α的增大，斜槽对触头杯杯壁的切割就越深(即斜槽就越长)，相应地线圈电阻会增大，尤其是线圈根部因截面积小电阻值会很大。由于短路电流开断能力和额定工作电流是一对矛盾难以两全，只能相互兼顾。开断能力大的真空灭弧室往往有较大的电阻值，使用时常出现温升过高现象，需要用较大面积的纯铜散热器进行散热，成本过高，否则因开关触头过热而影响开关的运行的可靠性、稳定性。针对温升问题本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空灭弧室纵磁触头结构，其特征在于：包括触头杯（1），触头杯（1）开口端连接有触头片（2）；触头杯（1）杯壁上沿周向分布有斜槽（3），斜槽（3）贯通开口端在开口端端面上形成槽口（4），槽口（4）与触头杯（1）的内杯壁（5）相切，触头杯（1）杯壁上相邻两斜槽（3）间切割得到的部分构成线圈（8）；所述的触头片（2）边缘沿周向分布有纵磁槽（6），纵磁槽（6）能够与所述槽口（4）轴向对齐，纵磁槽（6）一端贯通触头片（2）边缘。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空灭弧室纵磁触头结构，其特征在于：包括触头杯（1），触头杯（1）开口端连接有触头片（2）；触头杯（1）杯壁上沿周向分布有斜槽（3），斜槽（3）贯通开口端在开口端端面上形成槽口（4），槽口（4）与触头杯（1）的内杯壁（5）相切，触头杯（1）杯壁上相邻两斜槽（3）间切割得到的部分构成线圈（8）；所述的触头片（2）边缘沿周向分布有纵磁槽（6），纵磁槽（6）能够与所述槽口（4）轴向对齐，纵磁槽（6）一端贯通触头片（2）边缘。


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【专利技术属性】
技术研发人员：张毅，陈志会，欧阳广龙，顾斌，
申请(专利权)人：中国振华电子集团宇光电工有限公司国营第七七一厂，
类型：发明
国别省市：贵州;52