【技术实现步骤摘要】
显影方法和显影装置本申请是申请日为2014年8月5日，申请号为201410382270.3，专利技术名称为“显影方法和显影装置”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及曝光后的基板的显影方法、显影装置和该显影装置所使用的存储介质。
技术介绍
在半导体装置制造工艺中的光刻步骤中，形成抗蚀剂膜，对沿着规定的图案曝光了的基板供给显影液，形成抗蚀剂图案。该显影处理有时采用以下方式进行：从上述喷出口喷出显影液，并且使具有长条的喷出口的喷嘴从基板的一端向另一端移动，在整个基板上充满液体，从而形成液团(puddle)。能够使基板在静止的状态下充满液体，所以，为了方便起见，将该显影方式记作静止显影方式。在专利文献1中记载有该静止显影方式的一个例子。另外，作为显影处理具有以下方式：使基板旋转并且使喷嘴移动，使被供给显影液的位置在进行旋转的基板的半径上移动。利用显影液的供给位置的移动与离心力的作用，在基板上形成显影液的液膜，构成该液膜的显影液流动。为了方便起见，将该显影方式记作旋转显影方式。在专利文献2中记载有该旋转显影方式的一个...
【技术保护点】
1.一种显影方法，其特征在于：/n将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；/n分别进行以接近所述基板的表面的中心部的方式配置与该基板相对的圆形的第1相对面的动作，和以接近所述基板的表面的周缘部的方式配置与该基板相对的圆形的第2相对面的动作的步骤；/n分别进行从在所述第1相对面具有开口的第1喷出口向接近的所述基板的中心部喷出显影液的动作，和从在所述第2相对面具有开口的第2喷出口向接近的所述基板的周缘部喷出显影液的动作的步骤；/n覆盖步骤，使喷出所述显影液的第1相对面在接近旋转的所述基板的状态下向该基板的周缘部移动，并且使喷出所述显影液的第2相对面在接近旋转的该基板的状态...
【技术特征摘要】
20130805 JP 2013-162596;20140613 JP 2014-1226831.一种显影方法，其特征在于：
将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；
分别进行以接近所述基板的表面的中心部的方式配置与该基板相对的圆形的第1相对面的动作，和以接近所述基板的表面的周缘部的方式配置与该基板相对的圆形的第2相对面的动作的步骤；
分别进行从在所述第1相对面具有开口的第1喷出口向接近的所述基板的中心部喷出显影液的动作，和从在所述第2相对面具有开口的第2喷出口向接近的所述基板的周缘部喷出显影液的动作的步骤；
覆盖步骤，使喷出所述显影液的第1相对面在接近旋转的所述基板的状态下向该基板的周缘部移动，并且使喷出所述显影液的第2相对面在接近旋转的该基板的状态下向该基板的中心部移动，使由从第1相对面喷出的显影液形成的液膜的界面与由从第2相对面喷出的显影液形成的液膜的界面接合，而使显影液覆盖基板的整个表面；和
在所述基板的整个表面被显影液覆盖后，停止所述基板的旋转和显影液向该基板的喷出的步骤。
2.如权利要求1所述的显影方法，其特征在于：
接近所述基板是指，处于与该基板的表面间隔0.5mm～2mm的状态。
3.如权利要求1或2所述的显影方法，其特征在于：
所述覆盖步骤包括使所述第1相对面和所述第2相对面各自绕纵轴旋转来搅拌被供给到所述基板的表面的显影液的搅拌步骤。
4.如权利要求3所述的显影方法，其特征在于，
所述搅拌步骤包括：
使所述第1相对面的转速随着该第1相对面靠近所述基板的周缘部而上升的步骤；和
使所述第2相对面的转速随着该第2相对面靠近所述基板的中心部而上升的步骤。
5.如权利要求3或4所述的显影方法，其特征在于：
所述覆盖步骤包括使所述第1相对面和所述第2相对面彼此在相反的方向上旋转的步骤。
6.如权利要求1或2所述的显影方法，其特征在于：
所述第1相对面的大小与所述第2相对面的大小相互不同。
7.如权利要求1或2所述的显影方法，其特征在于：
所述覆盖步骤包括在所述第2相对面到达所述基板的中心部之前，停止使该第2相对面向所述基板的中心部移动的步骤。
8.一种显影装置，其特征在于，包括：
用于水平地保持曝光后的基板的基板保持部；
使保持于所述基板保持部的基板旋...
【专利技术属性】
技术研发人员：吉原孝介，京田秀治，牟田行志，山本太郎，泷口靖史，福田昌弘，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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