保持装置、光刻装置以及物品的制造方法制造方法及图纸

提供一种保持装置、光刻装置以及物品的制造方法，所述保持装置保持板件，其特征在于，具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。

Holding device, photolithography device and manufacturing method of articles

【技术实现步骤摘要】
保持装置、光刻装置以及物品的制造方法
本专利技术涉及保持装置、光刻装置以及物品的制造方法。
技术介绍
在作为半导体元件、液晶显示元件、摄像元件、薄膜磁头以及其他器件的制造工序之一的光刻工序中，使用曝光装置。曝光装置将形成于掩模的图案的像投影到涂敷有光致抗蚀剂(光敏剂)的晶圆、玻璃板等基板，并将该基板曝光。在曝光装置中，通过使设置于掩模的基准标记与设置于掩模载台的基准标记对准，从而使掩模(的图案)相对于掩模载台高精度地定位。由于在这样的掩模相对于掩模载台的高精度的定位中一般使用对准观察仪(对准光学系统)，因此对基准标记的视野范围受限。在向掩模载台搬运掩模的掩模搬运单元中，由于其搬运精度(放置位置精度)不足，因此有时无法将掩模(的基准标记)搬运到对准观察仪的视野范围。于是，在曝光装置中，在掩模搬运单元将掩模搬运到掩模载台之后，进行用于将掩模的基准标记配置在对准观察仪的视野范围的定位处理。在该定位处理中，首先从设置于掩模载台的掩模保持面的孔喷出空气而对掩模的下表面侧赋予正压，从而使掩模从掩模载台上浮。然后，在掩模上浮的状态下，使用气缸等机械性按压部件将掩模(的侧面)按压到作为定位的基准的基准销，从而将掩模的基准标记配置在对准观察仪的视野范围。在日本特开平9-325309号公报、日本特开2000-183136号公报以及日本特开平9-8106号公报中，提出了与这样的定位处理相关的技术。在日本特开平9-325309号公报中，提出了在对基板(掩模)的下部赋予正压而使基板上浮的状态下使载置基板的载台倾斜，从而使基板抵接于作为基准的位置的技术。在日本特开2000-183136号公报中，公开了在使用设置于载台的提起机构提起基板(掩模)并倾斜的状态下，使基板的侧面抵接于定位销的技术。在日本特开平9-8106号公报中，公开了通过使供给到设置于载台的衬垫的空气的压力、流量变化而使基板倾斜并抵接于基准销的技术。然而，关于日本特开平9-325309号公报以及日本特开2000-183136号公报中所公开的技术，当应用到不断大型化的FPD曝光装置时，载置基板的载台、使基板自身倾斜的机构也大型化，从而成本增加。此外，如在日本特开平9-8106号公报中所公开的技术那样，如果只是使向基板的下表面侧供给的空气的压力、流量变化，则难以应对当前使用的那样的大型的基板。特别是在为掩模的情况下，由于无法支承形成了图案的中心部，而仅能够在周边部支承掩模，因此更加难以应用日本特开平9-8106号公报中所公开的技术。
技术实现思路
本专利技术提供一种有利于对板件进行定位并保持的保持装置。作为本专利技术的一个方面的保持装置是保持板件的保持装置，其特征在于，具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。作为本专利技术的另一方面的光刻装置是对基板形成图案的光刻装置，其特征在于，具有保持所述基板的基板载台，所述基板载台包含将所述基板作为板件进行保持的保持装置，所述保持装置具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。作为本专利技术的再一方面的光刻装置是对基板形成图案的光刻装置，其特征在于，具有掩模载台，所述掩模载台对具有要转印到所述基板的图案的掩模进行保持，所述掩模载台包含将所述掩模作为板件进行保持的保持装置，所述保持装置具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。作为本专利技术的再一方面的物品的制造方法，其特征在于，具有：使用光刻装置对基板形成图案的工序；处理在所述工序中形成了所述图案的所述基板的工序；以及从所处理过的所述基板制造物品的工序，所述光刻装置具有保持所述基板的基板载台，所述基板载台包含将所述基板作为板件进行保持的保持装置，所述保持装置具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。作为本专利技术的再一方面的物品的制造方法，其特征在于，具有：使用光刻装置对基板形成图案的工序；处理在所述工序中形成了所述图案的所述基板的工序；以及从所处理过的所述基板制造物品的工序，所述光刻装置具有掩模载台，所述掩模载台对具有要转印到所述基板的图案的掩模进行保持，所述掩模载台包含将所述掩模作为板件进行保持的保持装置，所述保持装置具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。以下，通过参照附图所说明的优选实施方式而使本专利技术的进一步的目的或其他方面变得清楚。附图说明图1是示出本专利技术的第一实施方式中的保持装置的结构的概略图。图2是示出设置于图1所示的保持装置的载置台的槽以及孔的截面的概略图。图3是示出本专利技术的第二实施方式中的保持装置的结构的概略图。图4是用于说明图1所示的保持装置的动作的流程图。图5是示出作为本专利技术的一个方面的曝光装置的结构的概略图。具体实施方式以下，参照附图对本专利技术的优选的实施方式进行说明。另外，在各图中，对同一部件标注同一参照标号，并省略重复的说明。...

【技术保护点】
1.一种保持装置，保持板件，其特征在于，具有：/n载置台，载置所述板件；/n基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；/n按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及/n供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。/n

【技术特征摘要】
20180808 JP 2018-1496791.一种保持装置，保持板件，其特征在于，具有：
载置台，载置所述板件；
基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；
按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及
供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。


2.根据权利要求1所述的保持装置，其特征在于，
在所述供给部正在供给所述气体的状态下，所述按压部件分别按压所述板件的所述第三侧面以及所述第四侧面。


3.根据权利要求1所述的保持装置，其特征在于，
所述基准部件包含第一基准部件以及第二基准部件和第三基准部件，所述第一基准部件以及所述第二基准部件抵接有所述第一侧面，所述第三基准部件抵接有所述第二侧面，
在所述板件被定位在所述载置台上的状态下，所述第一基准部件以及所述第二基准部件相对于沿所述第二侧面的所述板件的中心轴对称地设置，
在所述板件被定位在所述载置台上的状态下，所述第三基准部件设置于沿所述第一侧面的所述板件的中心轴上。


4.根据权利要求3所述的保持装置，其特征在于，
所述按压部件包含第一按压部件以及第二按压部件，所述第一按压部件向朝向所述第一基准部件以及所述第二基准部件的方向按压所述板件的所述第三侧面，所述第二按压部件在朝向所述第三基准部件的方向上按压所述板件的所述第四侧面，
在所述板件被定位在所述载置台上的状态下，所述第一按压部件设置于沿所述第二侧面的所述板件的中心轴上，
在所述板件被定位在所述载置台上的状态下，所述第二按压部件设置于沿所述第一侧面的所述板件的中心轴上。


5.根据权利要求4所述的保持装置，其特征在于，
所述按压部件在以使所述板件的所述第一侧面抵接于所述第一基准部件以及所述第二基准部件的方式通过所述第一按压部件按压所述板件的所述第三侧面之后，以使所述板件的所述第二侧面抵接于所述第三基准部件的方式通过所述第二按压部件按压所述板件的所述第四侧面。


6.根据权利要求1所述的保持装置，其特征在于，
所述供给部包含：
多个孔，在所述板件被定位在所述载置台上的状态下，设置于与包含所述第一侧面、所述第二侧面、所述第三侧面以及所述第四侧面的各个侧面的所述板件的各周边区域对置的所述载置台的第一区域、第二区域、第三区域以及第四区域的各个区域，用于朝向所述板件供给所述气体；
第一供给管，用于连接所述气体的供给源和设置于所述第一区域的所述多个孔以及设置于所述第四区域的所述多个孔，并向该孔供给所述气体；以及
第二供给管，用于连接所述供给源和设置于所述第二区域的所述多个孔以及设置于所述第三区域的所述多个孔，并向该孔供给所述气体。


7.根据权利要求1所述的保持装置，其特征在于，
所述供给部包含：
多个孔，在所述板件被定位在所述载置台上的状态下，设置于与包含所述第一侧面、所述第二侧面、所述第三侧面以及所述第四侧面的各个侧面的所述板件的各周边区域对置的所述载置台的第一区域、第二区域、第三区域以及第四区域的各个区域，用于朝向所述板件供给所述气体；
多个供给管，用于连接所述气体的供给源和所述多个孔中的至少一个孔，并向该孔供给所述气体；以及
控制部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式控制从所述供给源向所述多个供给管的各个供给管供给所述气体的定时。


8.根据权利要求1所述的保持装置，其特征在于，
所述供给部包含：
多个孔，在所述板件被定位在所述载置台上的状态下，设置于与包含所述第一侧面、所述第二侧面、所述第三侧面以及所述第四侧面的各个侧面的所述板件的各周边区域对置的所述载置台的第一区域、第二区域、第三区...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐川彻平，加藤和哉，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP