【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有压力传感器的真空阀
本专利技术涉及一种具有至少一个压力传感器的真空阀和这种方法。
技术介绍
通常，在来自现有技术的不同的实施方式中公知用于调节体积流或质量流和/或用于使引导经过在阀壳体内成型出的孔的流道基本上气密关闭的真空阀，而且尤其是在真空室系统的情况下在IC、半导体或衬底制造的领域使用这些真空阀，所述IC、半导体或衬底制造必须尽可能在不存在污染颗粒的情况下在受保护的气氛中进行。这种真空室系统尤其包括：至少一个被设置用于容纳待加工或待制造的半导体元件或衬底的、可抽真空的真空室，该可抽真空的真空室具有至少一个真空室孔，通过该至少一个真空室孔能使这些半导体元件或其它衬底导入到真空室中或者从真空室中出来；以及至少一个真空泵，用于将真空室抽真空。例如，在用于半导体晶圆或液晶衬底的制造设备中，高度敏感的半导体或液晶元件按顺序地经过多个过程真空室，其中处在这些过程真空室之内的部件分别借助于加工设备来加工。不仅在过程真空室之内的加工过程期间，而且在各室之间的运输期间，这些高度敏感的半导体元件或衬底都必须始终处在受保护的气氛中，尤其是...
【技术保护点】
1.一种真空阀(1)，尤其是真空滑阀、钟摆阀或单阀，用于调节体积流或质量流和/或用于使流道气密地中断，所述真空阀具有：/n·阀座，所述阀座具有限定孔轴线(H)的阀孔(2)和环绕着所述阀孔(2)的第一密封面(3)；/n·阀塞(4)、尤其是阀盘，用于调节体积流或质量流和/或用于使流道中断，所述阀塞具有与所述第一密封面(3)相对应的第二密封面(6)，所述第二密封面的可变的方位通过所述阀塞(4)的相应的位置和取向来确定；/n·至少一个与所述阀塞(4)耦合的、尤其是气动或电动气动的驱动单元(7、7’)，所述驱动单元具有至少一个活塞-气缸单元(8、8’)，所述活塞-气缸单元具有至少一个...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170630 EP 17179074.41.一种真空阀(1)，尤其是真空滑阀、钟摆阀或单阀，用于调节体积流或质量流和/或用于使流道气密地中断，所述真空阀具有：
·阀座，所述阀座具有限定孔轴线(H)的阀孔(2)和环绕着所述阀孔(2)的第一密封面(3)；
·阀塞(4)、尤其是阀盘，用于调节体积流或质量流和/或用于使流道中断，所述阀塞具有与所述第一密封面(3)相对应的第二密封面(6)，所述第二密封面的可变的方位通过所述阀塞(4)的相应的位置和取向来确定；
·至少一个与所述阀塞(4)耦合的、尤其是气动或电动气动的驱动单元(7、7’)，所述驱动单元具有至少一个活塞-气缸单元(8、8’)，所述活塞-气缸单元具有至少一个活塞(13、13’)和气缸孔(9、9’)，其中所述驱动单元(7、7’)还具有压力介质，用于加载所述活塞(13、13’)的至少一个压力有效面(F1、F2)，使得借助于所述驱动单元(7、7’)，所述阀塞(4)能从打开位置(O)被调整到关闭位置(G)，其中
ο在所述打开位置(O)，所述阀塞(4)和所述阀座相对于彼此无接触，
ο在所述关闭位置(G)，在所述第一密封面(3)与所述第二密封面(6)之间存在关于所述孔轴线(H)轴向地密封的接触，所述阀孔(2)由此气密地封闭，
以及能从所述关闭位置被调整回到所述打开位置，
其特征在于，
所述真空阀(1)还包括至少一个压力传感器(10、10’)，其中所述压力传感器(10、10’)构造为并且布置为、尤其是在所述驱动单元(7、7’)中布置为使得能执行对所述压力介质的压力测量。
2.根据权利要求1所述的真空阀，
其特征在于，
所述驱动单元(7、7’)具有至少一个用于所述压力介质的软管线路或管道线路(14、14o、14u、14’、14ο’、14u’)，以及所述压力传感器(10、10’)被集成到所述软管线路或管道线路(14、14o、14u、14’、14ο’、14u’)中。
3.根据权利要求1或2所述的真空阀，
其特征在于，
所述压力传感器(10、10’)被构造用于：
·对所述压力介质的连续的压力测量；和/或
·对在0与10bar之间的压力范围的测量；和/或
·绝对压力测量。
4.根据上述权利要求中任一项所述的真空阀，
其特征在于，
为了压力测量，所述压力传感器(10、10’)具有可形变的膜片和/或压电晶体和/或石英谐振器和/或压电谐振器。
5.根据上述权利要求中任一项所述的真空阀，
其特征在于，
·所述压力传感器(10、10’)布置在通过所述真空阀(1)来限定的与外部环境隔开的真空区之外；和/或
·所述阀座通过所述真空阀(1)的在结构上与所述真空阀(1)连接的部分来形成，尤其是其中所述阀座构造在所述真空阀(1)的壳体(24)上，或者由处理室尤其是室壳来提供。
6.根据上述权利要求中任一项所述的真空阀，
其特征在于，
所述压力传感器(10、10’)布置在所述真空阀(1)中，使得
·能测量所述活塞-气缸单元(8、8’)的至少一个输入压力，尤其是能测量两个输入压力；和/或
·能测量在所述气缸孔(9、9’)的至少一个室(11o、11u)、尤其是两个室(11o、11u)中的压力。
7.根据上述权利要求中任一项所述的真空阀，
其特征在于，
所述真空阀(1)具有两个活塞-气缸单元(8、8’)，用于朝着两个不同的、尤其是彼此基本上正交的方向来调整所述阀塞(4)，其中每个活塞-气缸单元(8、8’)都具有至少一个压力传感器(10、10’)，用于相应的压力测量。
8.根据上述权利要求中任一项所述的真空阀，
其特征在于，
所述真空阀(1)还具有位置传感器(25)，所述位置传感器构造用于测量所述阀塞(4)和/或所述活塞(13、13’)的位置，尤其是连续地测量所述阀塞(4)和/或所述活塞(13、13’)的位置，尤其是其中
·所述位置测量和所述压力测量能彼此匹配，使得能确定为从静止位置、尤其是打开位置(O)和/或关闭位置(G)出发调整所述阀塞(4)和/或活塞(13、13’)所需的压力；和/或
·所述压力传感器(10、10’)和所述位置传感器(25)被构造为使得不仅能依据所述压力测量、而且能依据所述位置测量来...
【专利技术属性】
技术研发人员：艾德里安·埃申莫瑟，安德烈亚斯·霍费尔，
申请(专利权)人：VAT控股公司，
类型：发明
国别省市：瑞士;CH
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。