一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法及系统技术方案

本申请实施例提供一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法及系统，涉及光学测量技术领域，该方法包括：获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数；判断所述缺陷像元数是否等于或小于预设的分辨率像元数；当所述缺陷像元数等于或小于预设的分辨率像元数时，获取缺陷散射光光强；以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸。可见，实施这种实施方式，能够测量出传统方法中无法检测到缺陷尺寸，提高缺陷检测效果。

A defect size detection method and system based on optical elements

【技术实现步骤摘要】
一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法及系统
本申请涉及光学测量
，具体而言，涉及一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法及系统。
技术介绍
随着科技的不断发展，光学系统及光学元件也在快速地更新换代。在光学元件不断更迭的过程中，光学元件始终会存在一定的缺陷，为了保证光学系统的正常运行，往往需要测量光学元件中的缺陷以及缺陷尺寸。然而，在实践中发现，对光学元件进行缺陷尺寸的测量通常是使用显微成像装置对缺陷进行检测，然后根据成像结果进行缺陷尺寸的计算。但是，上述的这种缺陷尺寸的检测方法会受到显微成像装置的检测分辨率约束，从而导致了传统方法无法测量出上述检测分辨率约束下的缺陷尺寸。
技术实现思路
本申请实施例的目的在于提供一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法及系统，能够测量出传统方法中无法检测到缺陷尺寸。本申请实施例第一方面提供了一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法，包括：获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数；判断所述缺陷像元数是否等于或小于预设的分辨率像元数；当所述缺陷像元数等于或小于预设的分辨率像元数时，获取缺陷散射光光强；以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸。在上述实现过程中，该方法可以优先获取光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数，从而确定现在能够获取到的缺陷图像的尺寸信息；在获取到上述的缺陷像元数之后，判断缺陷像元数是否小于预设的分辨率像元数，从而起到判断目前的缺陷尺寸是否小于可直接计算获取到的尺寸的效果；在缺陷像元数等于或小于预设的分辨率像元数时，认定缺陷尺寸小于目前可以直接计算得到的尺寸，从而触发获取缺陷散射光光强的操作，其中缺陷散射光光强是探测光源照射到光学元件的缺陷位置处散射得到的；在获取到缺陷散射光光强之后，将缺陷散射光光强代入预设的尺寸检测算法，得到缺陷尺寸，从而实现更精细化的缺陷尺寸的获取。可见，实施这种实施方式，能够通过缺陷像元数的判断来确定传统方法是否能够直接计算，在不能够直接计算的情况下，通过尺寸检测算法和缺陷散射光光强来进行缺陷尺寸的计算，从而实现更细小的缺陷尺寸的检测，进而能够提高检测效果。进一步地，所述以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸的步骤包括：获取尺寸检测算法包括的尺寸计算公式和尺寸计算参数；其中，所述尺寸计算参数包括所述光学元件的折射率、与所述缺陷散射光光强对应的入射光强以及与所述入射光强对应的入射光波长；将所述光学元件的折射率、所述入射光强、所述入射光波长和所述缺陷散射光光强代入所述尺寸计算公式进行计算，得到缺陷尺寸。在上述实现过程中，该方法能够获取到尺寸检测算法包括的种种信息与参数，其中，尺寸检测算法所包括的尺寸计算公式和尺寸计算参数；其中，所述尺寸计算参数包括所述光学元件的折射率、与所述缺陷散射光光强对应的入射光强以及与所述入射光强对应的入射光波长皆可以为预设的参数，在上述尺寸计算公式和尺寸计算参数都确定的基础上，该方法可以自行对缺陷尺寸进行计算，从而到高精度的缺陷尺寸。可见，实施这种实施方式，能够进一步限定计算过程，从而使用一种计算的精度较高的方式代替其他的一些方式，从而提高上述缺陷尺寸的计算精度。进一步地，所述方法还包括：当所述缺陷像元数大于所述分辨率像元数时，根据所述缺陷像元数进行计算，得到缺陷尺寸。在上述实现过程中，该方法还可以在缺陷像元数大于分辨率像元数时，认定当前的缺陷图像能够被直接计算得到，然后通过预设的获取方式对缺陷像元数进行获取，再根据每个像元对应的尺寸信息进行叠加计算，从而得到缺陷尺寸。实施这种实施方式，可以兼容传统的缺陷尺寸的计算方法和新的高精度的缺陷尺寸的计算方法，从而提高缺陷尺寸计算的兼容性。进一步地，所述获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数的步骤包括：获取所述光学元件的拍摄图像；识别所述拍摄图像中包括的缺陷图像；获取所述缺陷图像占用的缺陷像元数。在上述实现过程中，该方法可以优先获取光学元件的拍摄图像，然后在光学元件的拍摄图像中获取缺陷图像，该过程可以由计算元件进行计算或判断；在获取到上述的缺陷图像之后，缺陷尺寸检测系统可以获取缺陷图像占用的缺陷像元数。可见，实施这种实施方式，可以通过光学元件的图像进行进一步的处理，从而逐层获取，最终获取到精度更高的缺陷像元数。本申请实施例第二方面提供了一种基于光学元件的缺陷尺寸检测系统，所述缺陷尺寸检测系统包括：第一获取单元，用于获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数；判断单元，用于判断所述缺陷像元数是否等于或小于预设的分辨率像元数；第二获取单元，用于在所述缺陷像元数等于或小于预设的分辨率像元数时，获取缺陷散射光光强；计算单元，用于以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸。在上述实现过程中，基于光学元件的缺陷尺寸检测系统包括第一获取单元、判断单元、第二获取单元以及计算单元，其中，基于光学元件的缺陷尺寸检测系统能够通过第一获取单元先获取光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数，然后在通过判断单元来判断上述的缺陷像元数是否等于或小于预设的分辨率像元数，若是，判断单元则认定该缺陷像元数不足以被现有的检测方式检测到其缺陷尺寸，从而触发第二获取单元获取探测光源照射到光学元件的缺陷散射光光强，从而使得计算单元可以通过预设的尺寸检测算法和第二获取单元获取到的缺陷散射光光强来计算缺陷尺寸，从而得到更加准确的缺陷尺寸，该缺陷尺寸要比传统结构能够获取到的缺陷尺寸要小。进一步地，所述计算单元包括：提取子单元，用于获取尺寸检测算法包括的尺寸计算公式和尺寸计算参数；其中，所述尺寸计算参数包括所述光学元件的折射率、与所述缺陷散射光光强对应的入射光强以及与所述入射光强对应的入射光波长；计算子单元，用于将所述光学元件的折射率、所述入射光强、所述入射光波长和所述缺陷散射光光强代入所述尺寸计算公式进行计算，得到缺陷尺寸。在上述实现过程中，提取子单元可以在尺寸检测算法中提取公式信息和参数信息进行，其中，尺寸检测算法中包括的参数信息可以实时获取到，另外，计算子单元接收提取子单元获取到的公式信息和参数信息并根据该公式信息和参数信息进行计算，得到最终的缺陷尺寸。使用这种系统能够更准确的计算出缺陷尺寸，从而提高该缺陷尺寸检测系统的检测精度。进一步地，所述计算单元还用于在所述缺陷像元数大于所述分辨率像元数时，根据所述缺陷像元数进行计算，得到缺陷尺寸。在上述实现过程中，该系统还可以通过计算单元来进行传统的缺陷尺寸计算，从而得到缺陷尺寸。可见，使用这种系统，可以兼容传统的缺陷尺寸的计算方法和新的高精度的缺陷尺寸的计算方法，从而提高缺陷尺寸计算的兼容性。进一步地，所述第一获取单元包括：获取子单元，用于获取所述光学元件的拍摄图像；识别子单元，用于识别所述拍摄图像中包括的缺陷图像；所述获取子单元，还用于获取所述缺陷图像占用的缺陷本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法，其特征在于，所述方法包括：/n获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数；/n判断所述缺陷像元数是否等于或小于预设的分辨率像元数；/n当所述缺陷像元数等于或小于预设的分辨率像元数时，获取缺陷散射光光强；/n以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法，其特征在于，所述方法包括：
获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数；
判断所述缺陷像元数是否等于或小于预设的分辨率像元数；
当所述缺陷像元数等于或小于预设的分辨率像元数时，获取缺陷散射光光强；
以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸。


2.根据权利要求1所述的基于光学元件的缺陷尺寸检测方法，其特征在于，所述以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸的步骤包括：
获取尺寸检测算法包括的尺寸计算公式和尺寸计算参数；其中，所述尺寸计算参数包括所述光学元件的折射率、与所述缺陷散射光光强对应的入射光强以及与所述入射光强对应的入射光波长；
将所述光学元件的折射率、所述入射光强、所述入射光波长和所述缺陷散射光光强代入所述尺寸计算公式进行计算，得到缺陷尺寸。


3.根据权利要求1所述的基于光学元件的缺陷尺寸检测方法，其特征在于，所述方法还包括：
当所述缺陷像元数大于所述分辨率像元数时，根据所述缺陷像元数进行计算，得到缺陷尺寸。


4.根据权利要求1所述的基于光学元件的缺陷尺寸检测方法，其特征在于，所述获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数的步骤包括：
获取所述光学元件的拍摄图像；
识别所述拍摄图像中包括的缺陷图像；
获取所述缺陷图像占用的缺陷像元数。


5.一种基于光学元件的缺陷尺寸检测系统，其特征在于，所述缺陷尺寸检测系统包括：
第一获取单元，用于获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数；
判断单元，用于判断所述缺陷像元数是否等于或小于预设的分辨率像元数；
第...

【专利技术属性】
技术研发人员：张健，樊非，李亚国，张清华，王健，许乔，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：四川;51