光学膜制造技术

技术编号:23352040 阅读:31 留言:0更新日期:2020-02-15 06:59
本发明专利技术提供一种光学膜,其通过对波长405nm附近的短波长的可见光显示出高吸收选择性,而对相位差膜、有机EL发光元件的由紫外线造成的劣化具有良好的抑制功能。本发明专利技术的光学膜包含至少1层的光选择吸收层和至少1层的阻氧层,并且满足下述式(1)及式(2)。A(405)≥0.5(1)透氧率≤500(2)[式(1)中,A(405)表示波长405nm处的吸光度]。

Optical film

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学膜
本专利技术涉及一种光学膜。
技术介绍
在有机EL显示装置、液晶显示装置等显示装置(FPD:平板显示器)中,使用了有机EL元件、液晶单元等显示元件、偏振板等光学膜等各种各样的构件。由于这些构件中所用的有机EL化合物及液晶化合物等为有机物,因此由紫外线(UV)造成的劣化易于成为问题。为了解决此种问题,例如,在专利文献1中记载有将370nm以下的波长区域的紫外线吸收能力优异的紫外线吸收剂添加到偏振板的保护膜中的偏振板。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2006-308936号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题另外,近年的显示装置的薄型化正在推进中,使聚合性液晶化合物取向、光固化而成的液晶系相位差膜的开发得到推进。已经清楚地认识到,这些液晶系相位差膜、有机EL发光元件不仅有由紫外线造成的劣化的趋势,而且在短波长的可见光中也有劣化的趋势。然而,专利文献1中记载的偏振板即使370nm以下的波长区域的紫外线吸收能力优异,然而400nm附近的可见光的吸收性能也低,有液晶系相位差膜、有机EL发光元件的劣化抑制不够充分的情况。此外,在近年的显示装置中,要求更加良好的显示特性。本专利技术提供一种光学膜,其通过对波长405nm附近的短波长的可见光显示出高吸收选择性,而对相位差膜、有机EL发光元件的由紫外线、短波长的可见光造成的劣化具有良好的抑制功能。用于解决问题的方法本专利技术包括以下的专利技术。[1]一种光学膜,其为包含至少1层的光选择吸收层和至少1层的阻氧层的光学膜,并且满足下述式(1)及式(2)。A(405)≥0.5(1)透氧度≤500(2)[式(1)中,A(405)表示波长405nm处的吸光度。][2]根据[1]中记载的光学膜,其满足下述式(3)。A(440)≤0.1(3)[式(1)中,A(440)表示波长440nm处的吸光度。][3]根据[1]或[2]中记载的光学膜,其还满足式(3)。A(405)/A(440)≥5(3)[式(3)中,A(405)表示波长405nm处的吸光度,A(440)表示波长440nm处的吸光度。][4]根据[1]~[3]中任一项记载的光学膜,其中,光选择吸收层为具有光选择吸收功能的粘合剂层。[5]根据[4]中记载的光学膜,其中,光选择吸收层为由包含(甲基)丙烯酸系树脂(A)、交联剂(B)及光选择吸收化合物(C)的粘合剂组合物形成的粘合剂层。[6]根据[5]中记载的光学膜,其中,交联剂(B)的含量相对于(甲基)丙烯酸系树脂(A)100质量份为0.01~15质量份。[7]根据[5]或[6]中记载的光学膜,其中,光选择吸收化合物(C)的含量相对于(甲基)丙烯酸系树脂(A)100质量份为0.01~20质量份。[8]根据[5]~[7]中任一项记载的光学膜,其中,光选择吸收化合物(C)为满足下述式(5)的化合物。ε(405)≥20(5)〔式(5)中,ε(405)表示波长405nm处的化合物的克吸光系数。〕[9]根据[8]中记载的光学膜,其中,光选择吸收化合物(C)为满足下述式(6)的化合物。ε(405)/ε(440)≥20(6)[式(6)中,ε(405)表示波长405nm处的化合物的克吸光系数,ε(440)表示波长440nm处的克吸光度系数。][10]根据[5]~[9]中任一项记载的光学膜,其中,光选择吸收化合物(C)为在分子内具有部花青结构的化合物。[11]根据[1]~[10]中任一项记载的光学膜,其中,阻氧层为由选自聚酯系树脂(E)、聚乙烯醇系树脂(F)、聚酰胺系树脂(G)、聚酰亚胺系树脂(H)及纤维素系树脂(I)中的至少1种树脂形成的树脂层。[12]根据[1]~[11]中任一项记载的光学膜,其中,阻氧层为由聚乙烯醇系树脂形成的偏振膜。[13]一种显示装置,其包含[1]~[12]的光学膜。专利技术效果本专利技术的光学膜通过对405nm附近的短波长的可见光显示出高吸收选择性,由此对于相位差膜、有机EL发光元件的由短波长的可见光造成的劣化具有良好的抑制功能。另外,本专利技术的光学膜即使在耐候性试验后也对波长405nm附近的短波长的可见光显示出高吸收选择性,可以保持对由短波长的可见光造成的劣化的抑制。在将本专利技术的光学膜用于显示装置的情况下,可以赋予良好的显示特性和耐久性。附图说明图1是表示本专利技术的光学膜的一例的示意剖视图。图2是表示包含本专利技术的光学膜的光学层叠体的一例的示意剖视图。图3是表示包含本专利技术的光学膜的光学层叠体的一例的示意剖视图。图4是表示包含本专利技术的光学膜的光学层叠体的一例的示意剖视图。具体实施方式本专利技术的光学膜是包含至少1层的光选择吸收层和至少1层的阻氧层、并且满足下述式(1)及式(2)的光学膜。A(405)≥0.5(1)透氧度≤500(2)[式(1)中,A(405)表示波长405nm处的吸光度。]A(405)的值越大,则表示波长405nm处的吸收越高,若A(405)的值小于0.5,则波长405nm处的吸收低,抑制紫外线、短波长的可见光下的相位差膜、有机EL元件等显示装置的劣化的效果小。从抑制耐候劣化的观点出发,A(405)的值优选为0.6以上,更优选为0.8以上,特别优选为1.0以上。上限没有特别限定,通常为10以下。透氧度的值越小,则表示光学膜的透氧越少,若透氧度的值为500以下,则难以使氧透过,可以抑制光选择吸收层自身的由紫外线、短波长的可见光造成的劣化。透氧度的值优选为100以下,更优选为50以下。透氧度的单位为“cm3/(m2·24h·atm)”。需要说明的是,透氧度可以依照JISK7126-1中记载的方法测定。本专利技术的光学膜优选还满足下述式(3)。A(440)≤0.1(3)[式(1)中,A(440)表示波长440nm处的吸光度。]A(440)的值越小,则表示波长440nm处的吸收越低,若A(440)的值大于0.1,则有损害显示装置的良好的色彩表现的趋势。另外,由于有阻碍显示装置的发光的趋势,因此显示装置的亮度也有可能降低。从抑制显示装置的发光阻碍的观点出发,A(440)的值优选为0.05以下,更优选为0.04以下,特别优选为0.03。下限没有特别限制,通常为0.00001以上。本专利技术的光学膜优选还满足下述式(4)。A(405)/A(440)≥5(4)[式(4)中,A(405)表示波长405nm处的吸光度,A(440)表示波长440nm处的吸光度。]A(405)/A(440)的值表示相对于波长440nm处的吸收的大小而言的波长405nm的吸收的大小,该值越大,则表示在405nm附近的波长区域越具有特异性吸收。A(405)/A(440)的值优选为10以上,更优选为30以上,特别优选为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学膜,其包含至少1层的光选择吸收层和至少1层的阻氧层,并且满足下述式(1)及式(2):/nA(405)≥0.5 (1)/n透氧度≤500 (2)/n式(1)中,A(405)表示波长405nm处的吸光度;透氧度的单位为cm

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170627 JP 2017-1254401.一种光学膜,其包含至少1层的光选择吸收层和至少1层的阻氧层,并且满足下述式(1)及式(2):
A(405)≥0.5(1)
透氧度≤500(2)
式(1)中,A(405)表示波长405nm处的吸光度;透氧度的单位为cm3/(m2·24h·atm)。


2.根据权利要求1所述的光学膜,其满足下述式(3):
A(440)≤0.1(3)
式(1)中,A(440)表示波长440nm处的吸光度。


3.根据权利要求1或2所述的光学膜,其还满足式(4):
A(405)/A(440)≥5(4)
式(4)中,A(405)表示波长405nm处的吸光度,A(440)表示波长440nm处的吸光度。


4.根据权利要求1~3中任一项所述的光学膜,其中,
光选择吸收层为具有光选择吸收功能的粘合剂层。


5.根据权利要求4所述的光学膜,其中,
光选择吸收层为由包含(甲基)丙烯酸系树脂(A)、交联剂(B)及光选择吸收化合物(C)的粘合剂组合物形成的粘合剂层。


6.根据权利要求5所述的光学膜,其中,
交联剂(B)的含量相对于(甲基)丙烯酸系树脂(A)100质量份为0.01质量份~15质量份。


7...

【专利技术属性】
技术研发人员:小桥亚依铃木宏昌小泽昭一
申请(专利权)人:住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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