抛光盘及抛光系统技术方案

本申请提供了抛光盘及抛光系统，涉及光学元件精密加工技术领域。一种抛光盘，抛光盘的内部具有用于储存抛光液的储存腔，抛光盘的抛光面开设有出液口，出液口通过设置于抛光盘内部的通道与储存腔连通。该抛光盘的储存腔内储存有抛光液，在抛光时，抛光盘的抛光层与元件紧密接触，同时抛光液通过出液口流出，实现抛光液在抛光时均匀分布在元件表面，避免多次停止抛光再喷洒抛光液，提高抛光效率。由于抛光液由储存腔经由出液口流出，使得不同出液口流出的抛光液量和压力大致相等，有助于元件表面的抛光液分布均匀。

Polishing disc and polishing system

【技术实现步骤摘要】
抛光盘及抛光系统
本申请涉及光学元件精密加工
，具体而言，涉及抛光盘及抛光系统。
技术介绍
共形抛光主要通过抛光盘带动抛光液中的磨粒实现元件表面材料的去除。含有抛光磨粒的抛光液的质量对于光学元件加工的效率和质量起到至关重要的作用。由于共形抛光工作原理的限制，抛光盘在较大压力的作用下与元件紧密贴合，无法在抛光过程中添加抛光液。为了防止抛光过程中由于抛光液缺少造成元件表面温度过高，人为地在元件表面添加抛光液，且单次抛光时间较短。加工效率低，而且会造成元件表面质量下降。
技术实现思路
本申请的目的在于提供一种抛光盘及抛光系统，以改善现有的抛光液分布不均匀的技术问题。第一方面，本申请实施例提供了一种抛光盘，适用于与回转盘配合以对待抛光元件进行抛光，抛光盘的内部具有用于储存抛光液的储存腔，抛光盘的抛光面开设有出液口，出液口通过设置于抛光盘内部的通道与储存腔连通。该抛光盘的储存腔内储存有抛光液，在抛光时，抛光盘的抛光面与待抛光元件紧密接触，抛光的同时抛光液由储存腔通过出液口流出，实现抛光液在抛光时流至抛光元件的抛光位置，避免多次停止抛光以向抛光位置喷洒抛光液，提高抛光效率。在一种可能的实现方式中，抛光盘的抛光面为圆形面，抛光面开设有多个出液口，多个出液口沿抛光面的径向分布。由于抛光液经由出液口流出，使得多个出液口流出的抛光液量和压力大致相等，有助于待抛光元件表面的抛光液的均匀分布。出液口沿抛光面的径向分布，使得待抛光元件与抛光盘相对运动时，抛光液可以均匀的分布在待抛光元件的表面。在一种可能的实现方式中，多个出液口中的至少两个位于抛光面的不同圆周上。该结构进一步提高抛光液在待抛光元件的均匀分布。在一种可能的实现方式中，抛光盘包括依次固定连接的本体、柔性层和抛光层，柔性层固定于本体靠近回转盘一侧的表面，抛光层背离柔性层的表面为抛光面。由于本体为刚性材质，因此本体可以在外力作用下使得抛光层与待抛光元件紧密贴合。当待抛光元件表面较为不规则时，柔性层可以保证抛光层与待抛光元件紧密贴合，保证对抛光元件进行全面的抛光。在一种可能的实现方式中，本体包括可拆卸连接的第一壳体和第二壳体，第一壳体盖设于第二壳体且位于第二壳体的上方，第一壳体的底面设有第一凹槽，第二壳体的顶面设有与第一凹槽相匹配的第二凹槽，第一凹槽和第二凹槽形成储存腔。抛光盘还包括密封件，第一壳体的底面和/或第二壳体的顶面设有密封槽，密封件设置于密封槽内。由于储存腔用于储存抛光液，为了避免抛光液从第一壳体和第二壳体的连接处流出，本申请采用密封件对第一壳体和第二壳体的连接处进行密封。在一种可能的实现方式中，储存腔的内部设有过滤网，过滤网设置于第一凹槽和第二凹槽之间。由于抛光液一般以一定的压力和流速输送至储存腔及流出出液口，因此在流动过程中难免会带有微小的颗粒及杂质。而抛光盘的出液口及出液通道的口径较细，容易出现堵塞出液口、出液通道的情况，导致抛光液分布的不均匀。为了避免该情况，储存腔的内部设有过滤网。在一种可能的实现方式中，过滤网的孔径为0.5-1.5微米。该结构的过滤网可以有效的对流入抛光盘的抛光液进行二次过滤。第二方面，提供了一种抛光系统，包括驱动装置、输液组件、回转盘和上述抛光盘，输液组件与抛光盘连接且与储存腔连通，用于向储存腔输送液体，回转盘的元件安装面与抛光盘的抛光盘正对设置，驱动装置与抛光盘连接，使抛光盘与回转盘保持预设距离。该抛光系统替代了现有的抛光液人工添加的方式，降低了工人的劳动强度，节省了人工成本，可以令抛光液分布更加均匀，在提高了加工效率的同时可以改善元件表面质量。该抛光系统具有实现容易、操作简便的优点。在一种可能的实现方式中，输液组件包括泵，用于按预设输送量向储存腔内输送抛光液。由于抛光盘与待抛光元件在较大压力的作用下紧密贴合，因此输液组件在输送抛光液时采用泵对抛光液提供一定的作用力，保证抛光液可以从出液口中流出。在一种可能的实现方式中，抛光盘设有压力表，用于监测储存腔内的液压。为了保证抛光液从出液口顺利流出，需要对抛光液压力进行监测。设置压力表可以监控抛光液的输出压力，同时可以随时调控抛光液的输出压力以满足不同的抛光需求。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为本申请实施例提供的抛光系统的第一视角的结构示意图；图2为本申请实施例提供的抛光盘的剖视图；图3为本申请实施例提供的抛光盘的抛光面结构示意图；图4为本申请实施例提供的抛光系统的第二视角结构示意图；图5为本申请实施例提供的抛光系统的第三视角结构示意图；图6为本申请实施例提供的抛光系统的第四视角结构示意图。图标：100-抛光盘；101-抛光面；102-出液口；103-进液口；104-进液通道；105-出液通道；110-本体；111-储存腔；112-第一壳体；113-第二壳体；114-第一凹槽；115-第二凹槽；116-内六角螺栓组；117-密封槽；118-密封件；120-柔性层；130-抛光层；140-压力表；150-过滤网；200-抛光系统；201-待抛光元件；210-输液组件；211-输送管组；212-管接头组；213-三通管接头；220-回转盘；230-抛光液槽；240-回收组件；241-回收管；242-回收管接头；250-抛光液贮存器；251-输送腔；252-回收腔。具体实施方式为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。在本申请的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。下面结合附图，对本申请的一些实施方式作详细说明。请参照图1、图2，图1为本实施例提供的抛光系统200的第一视角的结构示意图，图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光盘，适用于与回转盘配合以对待抛光元件进行抛光，其特征在于，所述抛光盘的内部具有用于储存抛光液的储存腔，所述抛光盘的抛光面开设有出液口，所述出液口通过设置于所述抛光盘内部的通道与所述储存腔连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种抛光盘，适用于与回转盘配合以对待抛光元件进行抛光，其特征在于，所述抛光盘的内部具有用于储存抛光液的储存腔，所述抛光盘的抛光面开设有出液口，所述出液口通过设置于所述抛光盘内部的通道与所述储存腔连通。


2.根据权利要求1所述的抛光盘，其特征在于，所述抛光盘的抛光面为圆形面，所受抛光面开设有多个出液口，所述多个出液口沿所述抛光面的径向分布。


3.根据权利要求2所述的抛光盘，其特征在于，所述多个出液口中的至少两个位于所述抛光面的不同圆周上。


4.根据权利要求1所述的抛光盘，其特征在于，所述抛光盘包括依次固定连接的本体、柔性层和抛光层，所述柔性层固定于所述本体靠近所述回转盘一侧的表面，所述抛光层背离所述柔性层的表面为所述抛光面。


5.根据权利要求4所述的抛光盘，其特征在于，所述本体包括可拆卸连接的第一壳体和第二壳体，所述第一壳体盖设于所述第二壳体且位于所述第二壳体的上方，所述第一壳体的底面设有第一凹槽，所述第二壳体的顶面设有与所述第一凹槽相匹配的第二凹槽，所述第一凹槽和...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯晶，许乔，刘世伟，陈贤华，王健，李洁，钟波，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：四川;51