【技术实现步骤摘要】
一种自动矫正激光标刻位置的方法
本专利技术涉及激光标刻
,更具体地,本专利技术涉及一种自动矫正激光标刻位置的方法。
技术介绍
微电子行业,激光标刻的应用越来越广泛,标刻精度要求越来越高。激光标刻设备使用的光学镜头存在球差失真,这是透镜的固有特性,无法消除,激光入射到透镜聚焦后,落在工作平面上会产生畸变差。通常,需要对标刻内容(模板)进行矫正,以便减小或消除畸变差,满足标刻精度要求。普遍采用的标刻矫正方法有两种。一种是确定某一标刻高度和标刻范围,制作相应的矫正文件,利用矫正文件矫正畸变。该方法的缺点是只适用于固定标刻高度和范围的情况,实际应用中各型号产品的高度和尺寸不可能保持一致,因此矫正文件的通用性差。而且矫正文件的制作需要专业人员使用高精度测量仪器和专用工具,矫正文件制作成本高,实际生产也无法承受这样的高成本。另一种方法是所有产品采用同一个矫正文件,在标刻软件中将标刻内容按照实际标刻的位置进行调整,但这种操作需要逐个进行调整,而且需要反复多次观察后再调整,效率极低。因此,有必要对现有激光标刻的矫正方法 ...
【技术保护点】
1.一种自动矫正激光标刻位置的方法,其特征在于,包括:/n提供标刻模板;/n控制激光标刻系统按照标刻模板进行标刻试验,获得标刻试样;/n图像采集系统对标刻试样进行采集,获得试验结果;/n将试验结果与标刻模板进行比较,获得偏离值;/n控制激光标刻系统依据偏离值进行标刻;/n其中,所述的标刻模板包括n个标刻内容的坐标x1、y1,x2、y2,……,xn、yn,其中n为大于或等于1的自然数;/n所述试验结果为n个标刻内容的实际标刻坐标x1'、y1',x2'、y2',……,xn'、yn';/n所述偏离值为△x1、△y1,△x2、△y2,……,△xn、△yn,所述的△x1=x1-x1' ...
【技术特征摘要】
1.一种自动矫正激光标刻位置的方法,其特征在于,包括:
提供标刻模板;
控制激光标刻系统按照标刻模板进行标刻试验,获得标刻试样;
图像采集系统对标刻试样进行采集,获得试验结果;
将试验结果与标刻模板进行比较,获得偏离值;
控制激光标刻系统依据偏离值进行标刻;
其中,所述的标刻模板包括n个标刻内容的坐标x1、y1,x2、y2,……,xn、yn,其中n为大于或等于1的自然数;
所述试验结果为n个标刻内容的实际标刻坐标x1'、y1',x2'、y2',……,xn'、yn';
所述偏离值为△x1、△y1,△x2、△y2,……,△xn、△yn,所述的△x1=x1-x1',△y1=y1-y1',△x2=x2-x2',△y2=y2-y2',……,△xn=xn-xn',△yn=yn-yn'。
2.根据权利要求1所述的自动矫正激光标刻位置的方法,其特征在于,控制所述激光标刻系统按照矫正模板进行标刻,所述矫正模板为n个标刻内容的标刻坐标x1+k*△x1,y1+k*△y1,x2+k*△x2,y2+k*△y2,……,xn+k*△xn,yn+k*△yn,其中k为误差系数。
3.根据权利要求2所述的自动矫正激光标刻位置的方法,其特征在于,所述误差系数k为1-...
【专利技术属性】
技术研发人员:李国华,林敬刚,冯春光,
申请(专利权)人:歌尔股份有限公司,
类型:发明
国别省市:山东;37
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