X射线源和制造X射线源的方法技术

提供了一种用于生成X射线(11)的X射线源(10)。所述X射线源(10)包括：发射器装置(12)，其用于生成电子或者用于生成X射线；至少一个馈通部(38)，其用于向所述发射器装置(12)供应电力；以及绝缘体(20)，其被配置用于将所述至少一个馈通部(38)的电位与地电位隔离。其中，所述至少一个馈通部(38)至少部分地延伸穿过所述绝缘体(20)，并且所述绝缘体(20)的至少部分与所述发射器装置(12)的至少部分热接触。另外，所述绝缘体(20)包括至少一个冷却通道(28)，所述至少一个冷却通道被完全形成在所述绝缘体(20)的内部体积(25)中并被配置为消散来自所述发射器装置(12)的热量，其中，所述绝缘体(20)的外表面(26)与所述冷却通道(28)之间的距离(29)至少等于所述冷却通道(20)的厚度(27)的一半。

X-ray source and method of manufacturing X-ray source

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】X射线源和制造X射线源的方法
本专利技术总体上涉及X射线成像。更具体地，本专利技术涉及用于生成X射线的X射线源、包括这种X射线源的X射线成像系统以及用于制造这种X射线源的方法。
技术介绍
X射线源和/或X射线管通常由高压驱动，该高压经由电源被供应给X射线生成元件和/或X射线源的发射器装置。为了将电源的这些高压与地电位隔离，通常使用高压绝缘体，该高压绝缘体可以在外界压力与X射线源的真空室中的真空之间形成界面，在该真空室中可以布置X射线生成元件和/或发射器装置。被布置在绝缘体的真空侧上的X射线源的部件和/或X射线源通常携带和/或包括发热部件，例如，X射线生成元件、阴极的部件和/或阳极的部件，该发热部件可以在X射线源的工作期间生成热量。此外，在绝缘体的外界侧和/或X射线源上可能存在的X射线源的元件和/或部件，由于在X射线源的工作期间由发热部件生成的热量，X射线源的这些元件和/或部件可能会劣化。US2010/0111265A1涉及一种高压X射线管，该高压X射线管具有：内部真空室，其被彼此相对定向地放置；阴极，其在工作条件下保持在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于生成X射线(11)的X射线源(10)，所述X射线源(10)包括：/n发射器装置(12)，其用于生成电子或者用于生成X射线；/n至少一个馈通部(38)，其用于向所述发射器装置(12)供应电力；以及/n绝缘体(20)，其被配置用于将所述至少一个馈通部(38)的电位与地电位隔离；/n其中，所述至少一个馈通部(38)至少部分地延伸穿过所述绝缘体(20)；/n其中，所述绝缘体(20)的至少部分与所述发射器装置(12)的至少部分热接触；/n其中，所述绝缘体(20)包括至少一个冷却通道(28)，所述至少一个冷却通道被完全形成在所述绝缘体(20)的内部体积(25)中并被配置为消散来自所述发射器装置...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170615 EP 17176243.81.一种用于生成X射线(11)的X射线源(10)，所述X射线源(10)包括：
发射器装置(12)，其用于生成电子或者用于生成X射线；
至少一个馈通部(38)，其用于向所述发射器装置(12)供应电力；以及
绝缘体(20)，其被配置用于将所述至少一个馈通部(38)的电位与地电位隔离；
其中，所述至少一个馈通部(38)至少部分地延伸穿过所述绝缘体(20)；
其中，所述绝缘体(20)的至少部分与所述发射器装置(12)的至少部分热接触；
其中，所述绝缘体(20)包括至少一个冷却通道(28)，所述至少一个冷却通道被完全形成在所述绝缘体(20)的内部体积(25)中并被配置为消散来自所述发射器装置(12)的热量；
其中，所述绝缘体(20)的外表面(26)与所述冷却通道(28)之间的距离(29)至少等于所述冷却通道(20)的厚度(27)的一半；
其中，所述冷却通道(28)沿着所述绝缘体(20)的周缘方向(40)至少部分地包围所述馈通部(38)；并且
其中，所述绝缘体(20)的所述外表面(26)与所述冷却通道(28)之间的所述距离(29)沿着所述周缘方向(40)是恒定的。


2.根据权利要求1所述的X射线源(10)，
其中，所述外表面(26)与所述冷却通道(28)之间的所述距离(29)是所述外表面(26)与所述冷却通道(28)之间的最小距离(29)，所述最小距离是平行于所述外表面(26)的表面法向量(42)而测量的，并且
其中，所述冷却通道(28)的所述厚度(27)是平行于所述外表面(26)的所述表面法向量(42)而测量的。


3.根据权利要求1或2中的任一项所述的X射线源(10)，
其中，所述冷却通道(28)的横截面是圆形的；并且/或者
其中，所述冷却通道(28)的所述厚度(27)是所述冷却通道(28)的直径(27)。


4.根据前述权利要求中的任一项所述的X射线源(10)，
其中，所述冷却通道(28)与所述绝缘体的所述外表面(26)之间的所述距离(29)沿着所述冷却通道的纵向延伸方向是恒定的。


5.根据前述权利要求中的任一项所述的X射线源(10)，
其中，所述冷却通道(28)被配置为引导冷却剂(44)，使得来自所述发射器装置(12)的热量经由所述冷却液(44)基于对流冷却而被消散；并且/或者
其中，所述冷却通道(28)包括流体冷却剂(44)。


6.根据前述权利要求中的任一项所述的X射线源(10)，还包括：
入口(46)，其与所述冷却通道(28)流体耦合并被配置为向所述冷却通道(28)供应冷却剂(44)；以及/或者
出口(48)，其与所述冷却通道(28)流体耦合并被配置用于从所述冷却通道(28)泄除冷却剂(44)。


7.根据前述权利要求中的任一项所述的X射线源(10)，
其中，所述绝缘体(20)的至少部分是通过烧结、胶合和/或三维打印来制造的。


8.根据前述权利要求中的任一项所述的X射线源(10)，
其中，所述绝缘体(20)是各向同性材料...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·K·O·贝林，T·施伦克，T·雷佩宁，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL