【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于在衬底上沉积装饰用镍涂层的镍电镀浴
本专利技术涉及一种用于在待处理衬底上沉积装饰用镍涂层的镍电镀浴。本专利技术还涉及在待处理衬底上沉积装饰用镍涂层的方法。此外，本专利技术涉及此一本专利技术镍电镀浴的用途，其通过实施所述方法用于沉积光亮、半光亮、缎光、哑光或含非导电性粒子的镍涂层。
技术介绍
在镍电镀浴中，将pH值保持在界定的范围内通常极为重要。因此，过去已将缓冲液系统施加到镍浴以满足此目标。最常规系统是基于所谓的“瓦特电解浴(Wattselectrolyticbath)”，其具有以下一般组成：240-550g/l硫酸镍(NiSO4·7H2O或NiSO4·6H2O)，30-150g/l氯化镍(NiCl2·6H2O)，和30-55g/l硼酸(H3BO3)。大量硫酸镍提供必需浓度的镍离子，同时氯化镍改良阳极腐蚀并增加导电性。硼酸用作弱缓冲剂以维持pH值。另外，为实现镍电镀涂层的光亮且有光泽外观，通常将有机和无机试剂(增亮剂)添加到电解质。所添加增亮剂的类型和其浓度决定了镍...
【技术保护点】
1.一种用于在待处理衬底上沉积装饰用镍涂层的镍电镀浴，其特征在于所述电镀浴包含至少一种镍离子源、至少一种氨基酸和/或至少一种不为氨基酸的羧酸；其中所述氨基酸的总浓度在1到10g/l的范围内，其中不为氨基酸的羧酸的总浓度在10到40g/l的范围内；其中所述电镀浴不含硼酸；其中所述镍离子的总浓度在55到80g/l的范围内；且其中所述镍电镀浴具有7.5到40g/l范围内的氯含量。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170623 EP 17177732.91.一种用于在待处理衬底上沉积装饰用镍涂层的镍电镀浴，其特征在于所述电镀浴包含至少一种镍离子源、至少一种氨基酸和/或至少一种不为氨基酸的羧酸；其中所述氨基酸的总浓度在1到10g/l的范围内，其中不为氨基酸的羧酸的总浓度在10到40g/l的范围内；其中所述电镀浴不含硼酸；其中所述镍离子的总浓度在55到80g/l的范围内；且其中所述镍电镀浴具有7.5到40g/l范围内的氯含量。
2.根据权利要求1所述的镍电镀浴，其特征在于所述至少一种氨基酸是选自由以下组成的群组：β丙氨酸、甘氨酸、谷氨酸、DL-天冬氨酸、苏氨酸、缬氨酸、谷氨酰胺或L-丝氨酸。
3.根据权利要求1或2所述的镍电镀浴，其特征在于所述至少一种不为氨基酸的羧酸是选自由以下组成的群组：单羧酸、二羧酸或三羧酸。
4.根据权利要求3所述的镍电镀浴，其特征在于所述至少一种不为氨基酸的羧酸是选自由以下组成的群组：酒石酸、乙醇酸、苹果酸、乙酸、乳酸、柠檬酸、琥珀酸、丙酸、甲酸或戊二酸。
5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的镍电镀浴，其特征在于所述电镀浴包含至少两种不同羧酸，此二者均不为氨基酸；其中所述两种不同羧酸的总浓度在10到40g/l的范围内。
6.根据前述权利要求中任一权利要求所述的镍电镀浴，其特征在于所述电镀浴包含至少一种氨基酸和一种不为氨基酸的羧酸；其中所述氨基酸的总浓度在1到10g/l的范围内，其中不为氨基酸的所述羧酸的总浓度在10到40g/l的范围内。
7.根据前述权利要求中任一权利要求所述的镍电镀浴，其特征在于所述镍离子的总浓度在60到75g/l、优选62到72g/l的范围内。
8.根据前述权利要求中任一权利要求所述的镍电镀浴，其特征在于所述电镀浴的pH值在2到6、优选3到5、更优选3.5到4.7的范围内。
9.一种用于在待处理衬底上沉积装饰用镍涂层的方法，其包含以下方法步骤：
i)使所述待处理衬底与根据权利要求1到8中任一权利要求所述的镍电镀浴接触；
ii)使至少一个阳极与所述镍电镀浴接触...
【专利技术属性】
技术研发人员：P·瓦赫特，R·尼拉麦加姆，P·哈特曼，KD·舒尔策，
申请(专利权)人：德国艾托特克公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE
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