真空机台内发光材料废料量检测装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种真空机台内发光材料废料量检测装置，所述检测装置设置在机台内，包括能够激发发光材料发光的发光源，及能够监控发光材料发光的图像接收装置，所述图像接收装置将机台内残余发光材料的信息以图片形式传送至图像分析终端，经灰阶分析判断是否需要对腔体进行开腔清理，避免了频繁开腔影响机台稼动率及密封性能的问题。

Measuring device for waste amount of luminescent materials in vacuum machine

【技术实现步骤摘要】
真空机台内发光材料废料量检测装置
本专利技术涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种真空机台内发光材料废料量检测装置。
技术介绍
显示技术的发展，使显示装置从阴极射线管显示装置不断发展为液晶显示装置、柔性显示装置，为更好的适应市场需求，降低生产成本，利用喷墨打印法制备取向层、彩色滤光片、发光材料等以替代现有的蒸镀等制备方法，在降低生产成本的同时，可提高对材料的利用效率，且喷墨打印法具有工艺简单的优势，将其应用到柔性显示装置的制备流程中，将有助于扩大柔性显示装置的产量。在喷墨打印法中，材料多以混合溶液的形式被制备在基材表面，此后还需经过预干燥和后干燥制程得到要制备的膜层。但在这个过程中，往往会配合溶剂蒸发过程，以辅助膜层的制备，此时，微量的溶剂就会转变为蒸汽，并以蒸汽的形式附着在腔体内，在后续进行抽真空或加热干燥后，这些附着于腔体内的溶剂又会不断的积累，长此以往，就可能滴落在被加工器件的表面，对被加工器件造成污染，影响正常的制程工序。因此，在溶剂累积到一定程度后就需要对机台进行清洗，以保证器件性能。但是在密闭腔室内衡量溶剂是否已经累计至该清洗量并定期进行清洗，就需频繁的开腔确认溶剂量的多少，这就会对机台的稼动率及密封性能造成影响。
技术实现思路
本专利技术提供一种真空机台内发光材料废料量检测装置，能够监控机台腔体内残余发光材料的多少，以解决现有的密闭制程机台腔室内无法检测发光材料残余量而造成频繁开腔，影响机台稼动率及密封性能的技术问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：本专利技术提供一种真空机台内发光材料废料量检测装置，所述机台包括一密闭腔体，所述检测装置包括置于所述腔体内的至少一个发光源，以及至少一个图像接收装置。所述废料量指制程过程中位于非制备位置上的发光材料，即残余发光材料；所述发光源用于激发所述腔体内的残余发光材料发光；所述图像接收装置与所述发光源相对设置，且位于可监控所述残余发光材料发光的位置处。当所述腔体内存在残余发光材料时，所述发光源发出的光会被所述残余发光材料接收，并激发所述残余发光材料发光。此时，由于所述图像接收装置被布置于可监控所述残余发光材料发光的位置处，所以所述图像接收装置将采集的光信号处理为图像信号，输出至所述腔体外部的图像分析终端，所述图像分析终端通过灰阶分析实现对所述发光材料废料量的检测，即对所述残余发光材料的分布区域及累积程度的计算和分析。在所述腔体进行发光材料工艺制程时，含有发光材料的溶剂挥发会带走部分溶质，使其分散在所述腔体的内壁上，此时为避免对所述发光材料工艺制程产生影响，可令所述发光源及所述图像接收装置均处于关闭状态。所述腔体在发光材料工艺制程结束后，所述腔体的腔门打开，以便取出被制备基材。之后，所述腔体的腔门关闭，所述发光源及所述图像接收装置切换为开启状态，此时所述发光源激发所述残余的发光材料发光，所述图像接收装置接收所述残余发光材料发出的光信号，并将其转化为图像信号输出至所述图像分析终端，由所述图像分析终端实现对所述残余发光材料区域及累积程度的计算，并判断所述腔室内发光材料废料量是否达到清洁要求，即判断是否大于预设的清理值。若所述图像分析终端计算出的所述残余发光材料的区域大小及累积程度在预定的范围内时，所述发光材料废料量小于清理值，所述腔体即可不必进行开腔清理；若计算出的所述残余发光材料的区域大小及累积程度超出预定的范围时，所述发光材料废料量大于或等于清理值，所述腔体需进行开腔清理所述残余材料。其中，所述清理值可根据制程的要求不同而不同。在结束分析后，所述发光源及所述图像接收装置即可关闭，以便进行下一次制程前的传片准备或开腔清理前的准备。所述发光源及所述图像接收装置的开关状态的切换，可通过现有的控制方法实现，即可以通过计算机实现控制；同样地，所述图像分析终端也可采用与控制所述发光源及所述图像接收装置相同的设备进行控制。所述发光源的照射波长为270nm～380nm，优选300nm～375nm。所述图像接收装置为包括电荷耦合器件的相机，所述图像接收装置传输给所述图像分析终端的信号为包含所述残余发光材料区域分布及累积程度的图片。由于所述发光材料采用所述发光源激发发光，所述发光源的照射波长为紫外线波长，小于可见光波长，所以在所述发光源激发所述残余发光材料发光时，所述残余材料发出的光波长会等于或大于所述发光源的波长，此时即使是利用普通的相机作为所述图像接收装置，也可识别出所述残余发光材料发出的光。此外，由于所述图像接收装置中又涉及所述电荷耦合器件，所述电荷耦合器件会对不同波长范围的光有不同的响应能力，而所述残余发光材料发出的光又在所述电荷耦合器件的光谱响应范围内，所以所述残余发光材料发出的光易被所述图像接收装置采集和记录，并经后续的放大处理、模数转化等处理转变为反映所述发光材料区域分布的图片传送至所述图像分析终端。所述图像分析终端采用图像处理的相关算法实现对所述残余发光材料分布区域及累积程度的计算和分析，其中可以采用灰阶分析先表示所述残余发光材料的各分布区域及累积范围，然后再借助相关算法提取各分布区域的边缘信息，最后再计算该区域的大小即可分析出所述残余发光材料分布区域及累积程度。其中，具体利用灰阶分析的说明如下：在所述图片中，所述残余发光材料分布的区域依据所述残余发光材料的累积量会有不同。在所述图片中，发光材料废料量大于或等于所述清理值时的所述残余发光材料的分布区域，要比发光材料废料量小于所述清理值时的分布区域在图片中的表现更为集中。所以在发光材料废料量大于或等于所述清理值时，所述残余发光材料在图片中分布更密集，此时将所述图片转化为灰度图片，得到其中表现所述残余发光材料的区域也会较明显。另外，在图片中，由于各发光材料因发光波长和累积程度不同，表现出的灰度值也不同，所以所述图像分析终端可以利用灰阶分析先确定出各发光材料的分布范围，在确定完各所述分布区域的范围后，利用图像处理中的与面积、周长相关的算法即可实现对所述分布区域的相关计算。根据本专利技术一优选实施例，所述发光源置于所述腔体内的一侧或一角。除上述以固定的方式布置所述发光源和所述图像接收装置外，所述发光源和所述图像接收装置还可通过不固定方式设置于所述腔体内，即所述检测装置还包括第一可移动装置，所述第一可移动装置搭载所述发光源在所述腔体内移动，激发所述腔体内不同位置处的残余发光材料发光。所述检测装置还包括第二可移动装置，所述第二可移动装置搭载所述图像接收装置在所述腔体内移动，并配合所述发光源实现对不同位置处发光材料废料量的定位检测。具体地，所述第一可移动装置和所述第二可移动装置可为导轨和滑块配合移动的形式，也可为齿轮啮合等形式。所述腔体内还包括玻璃载台，所述玻璃载台在发光材料工艺制程中，用于承载玻璃基板，以使发光材料制备于所述玻璃基板上。在发光材料工艺制程完成后，已制备发光材料的所述玻璃基板即被取出。本专利技术所提出的检测装置不仅限于真空机台内，也可用于诸如加热机台等发光材料制程机台内。本专利技术的有益本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.真空机台内发光材料废料量检测装置，其特征在于，所述机台包括一密闭的腔体，所述检测装置包括设置于所述腔体内的至少一个发光源，以及至少一个图像接收装置；/n所述发光源用于激发所述腔体内的残余发光材料发光；/n所述图像接收装置用于采集所述残余发光材料发出的光信号，并将其转变为图像信号传送至所述腔体外部的图像分析终端；/n其中，所述图像分析终端对所采集的图像的灰阶信息进行分析，检测出所述发光材料的废料量。/n

【技术特征摘要】
1.真空机台内发光材料废料量检测装置，其特征在于，所述机台包括一密闭的腔体，所述检测装置包括设置于所述腔体内的至少一个发光源，以及至少一个图像接收装置；
所述发光源用于激发所述腔体内的残余发光材料发光；
所述图像接收装置用于采集所述残余发光材料发出的光信号，并将其转变为图像信号传送至所述腔体外部的图像分析终端；
其中，所述图像分析终端对所采集的图像的灰阶信息进行分析，检测出所述发光材料的废料量。


2.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述图像接收装置与所述发光源相对设置，且位于可监控所述残余发光材料发光的位置处。


3.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述发光源为紫外灯，所述紫外灯的照射波长为270nm～380nm。


4.根据权利要求3所述的检测装置，其特征在于，所述紫外灯的照射波长为300nm～375nm。


5.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述图像接...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋媛媛，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44