检测光学系统异常的测距装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供测距装置。测距装置具备光学系统异常度检测部，该光学系统异常度检测部通过测距值d及光强度Ls的关系与基准值K

A distance measuring device for detecting the abnormality of optical system

【技术实现步骤摘要】
检测光学系统异常的测距装置
本专利技术涉及基于光的飞行时间来测定到物体为止的距离的测距装置，尤其是涉及检测光学系统异常的测距装置。
技术介绍
作为测定到物体为止的距离的测距装置，已知有基于光的飞行时间而输出距离的TOF(timeofflight)相机。TOF相机在大多情况下采用相位差方式，在该相位差方式中，向测定对象空间照射以规定周期进行了强度调制的测距光，对照射的测距光与从测定对象空间的被拍摄物反射的反射光之间的相位差进行检测。在上述测距装置中，有时由于光学系统异常而导致测距精度降低，丧失测距能力。尤其是作为三维传感器的TOF相机通过拍摄测距光的从被拍摄物反射的反射光而进行测距，因此，通常知晓当反射光变弱时，散粒噪声、暗电流噪声、热噪音等的影响相对显著化，测距值的偏差变大。作为反射光变弱的主要原因，通常举出黑色等的低反射率的被拍摄物、遥远的被拍摄物等，但除此外，还举出(1)污垢向透镜的附着、(2)污垢向测距光用扩散板的附着、(3)测距光源的输出下降、(4)受光元件的异常这样的光学系统异常。作为与上述光学系统异常的检测相关联的在先技术，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种测距装置，该测距装置具备向被拍摄物照射测距光的照射部以及接受从所述被拍摄物反射的反射光的受光部，且输出基于所述测距光与所述反射光之间的相位差而计算出的到所述被拍摄物为止的测距值及所述反射光的光强度，/n其特征在于，/n所述测距装置具备光学系统异常度检测部，该光学系统异常度检测部通过所述测距值及所述光强度的关系与基准值的比较，来检测所述测距装置的光学系统的异常度。/n

【技术特征摘要】
20180726 JP 2018-1404301.一种测距装置，该测距装置具备向被拍摄物照射测距光的照射部以及接受从所述被拍摄物反射的反射光的受光部，且输出基于所述测距光与所述反射光之间的相位差而计算出的到所述被拍摄物为止的测距值及所述反射光的光强度，
其特征在于，
所述测距装置具备光学系统异常度检测部，该光学系统异常度检测部通过所述测距值及所述光强度的关系与基准值的比较，来检测所述测距装置的光学系统的异常度。


2.根据权利要求1所述的测距装置，其特征在于，
使用所述被拍摄物的反射率来求出所述基准值。


3.根据权利要求1所述的测距装置，其特征在于，
使用在所述测距装置正常时获取到的所述测距值及所述光强度的...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村稔，高桥祐辉，渡边淳，
申请(专利权)人：发那科株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP