一种硬质光滑基材表面用标示膜制造技术

本发明专利技术针对现有技术中存在热转印碳带难以应用到金属等基材表面的局限，提供一种硬质光滑基材表面用标示膜，通过以下方法制成：由热转印碳带将标示信息热转印至TPU薄膜表面，然后加热加压使TPU薄膜熔融并与金属的表面相粘接，冷却后即得标示膜；所述热转印碳带包括带基，所述带基的两侧分别涂布有背涂层和热转印层，所述热转印层从带基一侧表面自内向外依次由保护层和粘接层构成。该标示膜能够达到使用所需的粘接强度，耐腐蚀性能好，且避免了化学蚀刻引起的损伤。

A kind of marking film for hard and smooth substrate surface

【技术实现步骤摘要】
一种硬质光滑基材表面用标示膜
本专利技术属于热转印材料
，具体涉及一种硬质光滑基材表面用标示膜及其加工工艺。
技术介绍
近年来，随着热转印技术的发展，采用碳带热转印的方式来取代传统印刷方式越来越广泛，但是金属等材料表面的印刷受制于碳带的转印方式限制，要么采用碳带打印到标签后通过粘贴的方式，要么采用化学蚀刻的方式进行。前者粘接强度和耐受酒精、日晒、酸碱腐蚀等复杂条件性能差，后者会对玻璃、陶瓷等造成损坏，经济型不好。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中存在热转印碳带难以应用到金属等基材表面的局限，提供一种硬质光滑基材表面用标示膜，该标示膜能够达到使用所需的粘接强度，不仅耐腐蚀性能好，而且避免了化学蚀刻引起的损伤。本专利技术采用如下技术方案：一种硬质光滑基材表面用标示膜，通过以下方法制成：由热转印碳带将标示信息热转印至TPU薄膜表面，然后加热加压使TPU薄膜熔融并与硬质光滑基材的表面相粘接，冷却后即得标示膜；所述热转印碳带包括带基，所述带基的两侧分别涂布有背涂层和热转印层，所述热转印层从带基一侧表面自内向外依次由保护层和粘接层构成；其中，所述硬质光滑基材包括玻璃、金属、陶瓷等。优选地，所述热转印碳带为耐高温树脂基碳带。优选地，所述保护层由以下重量百分比的原料制成：聚四氟乙烯蜡25％-35％、聚酰亚胺树脂0～5％、余量为有机硅橡胶，所述有机硅橡胶的硬度在70A以上，断裂伸长率在700％以上。有机硅橡胶的硬度在70A以上，断裂伸长率在700％以上，能够保证在加热TPU薄膜时，印迹能够不因为TPU高温受热变形而改变，保证印迹的保证完整性，同时提供足够的牢度。优选地，所述粘接层由以下重量配比的原料制成：蜡、间苯二酚甲醛树脂、亚甲基供体和炭黑的质量比为3-6：80-87：2-3：8-13，其中，所述间苯二酚甲醛树脂的软化点在95-100℃，其中游离的甲醛和游离苯酚的含量低于5ppm。根据产品使用条件，软化点在95-100℃的间苯二酚甲醛树脂既能够保证打印温度，又能够在加热反应后保持足够的粘接力。优选地，所述亚甲基供体选自甲醛，多聚甲醛，六亚甲基四胺，六甲氧基甲基密胺以及2-N-2-甲基-1-丙醇中的一种或多种。优选地，所述背涂层厚度为0.1～0.2μm，所述保护层厚度为0.8-1.2μm，所述粘接层厚度0.8-1.5μm。优选地，所述TPU薄膜厚度为2-4μm，熔点为180℃以上，断裂伸长率大于600％，防水指数大于1500mmH2O。优选地，所述耐高温树脂基碳带的制备过程包括以下步骤：a、在带基一侧表面涂布背涂层浆料，烘干后得到所述背涂层；b、按重量配比将有机硅橡胶、聚四氟乙烯蜡和聚酰亚胺树脂溶于有机溶剂中，在100℃-110℃下涂布在带基另一侧表面，烘干后得到所述保护层；c、按重量配比将蜡、间苯二酚甲醛树脂和亚甲基供体溶于有机溶剂中，再按重量配比加入炭黑进行研磨后涂布，涂布在步骤b所得的保护层表面，烘干得到所述粘接层；至此，制备得到所述耐高温树脂基碳带。本专利技术的有益效果如下：本专利技术通过使用热敏打印机将耐高温树脂基碳带打印至TPU薄膜材料上，通过加热加压该TPU薄膜使其熔融粘接至陶瓷、金属、玻璃等基材的表面，冷却后能够达到足够的粘接强度，且耐溶剂、酸碱腐蚀性强，同时避免了化学蚀刻对材料表面的损伤。其中，本专利技术中的保护层选用了有特殊性能要求的有机硅橡胶，该有机硅橡胶能够保证在加热TPU薄膜时，印迹能够不因为TPU高温受热变形而改变，保证印迹的保证完整性，同时提供足够的牢度，此外本专利技术的保护层还通过利用有机硅树脂的耐高温、耐溶剂等方面的优势，辅助聚四氟乙烯蜡和聚酰亚胺树脂通过印刷形成一个能够在热转印后保护印迹的涂层，同时也能避免TPU在高温转印过程中过度变形。本专利技术的粘接层主要是利用间苯二酚甲醛树脂和亚甲基供体在高温作用下形成一个热固性树脂，能够在加热TPU材料时产生足够的粘接力，且能够抵抗溶剂、汗液等侵蚀。具体实施方式为了使本专利技术的技术目的、技术方案和有益效果更加清楚，下面结合具体实施例对本专利技术的技术方案作出进一步的说明。以下实施例优选采用以下原料：带基厚度4.5μm，选用日本东丽的BOPET膜；有机硅橡胶采用美国迈图TSE221系列产品(TSE221-3U～6U)，其干燥后的硬度可达到70A(邵氏硬度)以上；断裂伸长率700％-900％；聚四氟乙烯蜡的熔点在300～320℃之间，采用美国三叶公司SST系列产品；粘接层的蜡主要用聚乙烯微粉蜡，原始粒径为2μm，熔点为130℃，优选美国honeywell公司的cμmistC3；所采用的TPU薄膜具体为：薄膜厚度：10mm；材料熔点：140-150℃；材料的断裂伸长率大于600％-800％，购自东莞百骏新材料有限公司；实施例1一种硬质光滑基材表面用标示膜，通过以下方法制成：采用热敏打印机，通过脉冲加热的方式加热热转印碳带，从而将标示信息热转印至TPU薄膜表面，然后加热加压(温度140-150℃、压力1.3MPa-1.5MPa、加热时间5-8s)使TPU薄膜表面熔融并与金属的表面相粘接，冷却后即得标示膜；所述热转印碳带包括带基，所述带基的两侧分别涂布有背涂层和热转印层，所述热转印层从带基一侧表面自内向外依次由保护层和粘接层构成；本实施例中，所述热转印碳带为耐高温树脂基碳带，其采用如下配比的原料制备而成：制备方法具体如下：a)背涂层：将背涂材料主剂改性有机硅材料120g、溶剂甲苯45g加热60度用甲苯溶解完全后冷却至室温，加入助剂异氰酸酯1g搅拌均匀，制备成背涂层材料涂布在带基的一侧，烘干温度为80℃，背涂层厚度0.2μm；b)以重量计，将有机硅橡胶60g、聚四氟乙烯蜡35g、聚酰亚胺树脂5g，用65mL甲苯和5mLDMF的混合溶剂加热至100℃溶解，并在此温度下涂布在带基一侧，涂布密度为4g/m2，在80～85℃下烘干形成厚度0.9μm的保护层；c)以重量计，聚乙烯蜡6g：间苯二酚甲醛树脂80g：六次甲基四胺1.5g：六甲氧基甲基蜜胺1g，用甲苯和丁酮将上述树脂和蜡溶解，加入炭黑11.5g进行研磨后涂布，涂布在保护层表面，涂布密度5g/m2，在80～100℃下烘干形成厚度1.2μm的粘接层。实施例2本实施例与实施例1的不同之处在于所述热转印碳带为耐高温树脂基碳带的原料配比不同以及涂布厚度不同，本实施例中所述热转印碳带为耐高温树脂基碳带采用如下配比的原料制备而成：涂布时，背涂层厚度0.2μm，保护层厚度1.0μm，粘接层厚度1.3μm。实施例3本实施例与实施例1的不同之处在于所述热转印碳带为耐高温树脂基碳带的原料配比不同以及涂布厚度不同，本实施例中所述热转印碳带为耐高温树脂基碳带采用如下配比的原料制备而成：涂布时，背涂层厚度0.本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硬质光滑基材表面用标示膜，其特征在于，通过以下方法制成：由热转印碳带将标示信息热转印至TPU薄膜表面，然后加热加压使TPU薄膜熔融并与硬质光滑基材的表面相粘接，冷却后即得标示膜；所述热转印碳带包括带基，所述带基的两侧分别涂布有背涂层和热转印层，所述热转印层从带基一侧表面自内向外依次由保护层和粘接层构成。/n

【技术特征摘要】
1.一种硬质光滑基材表面用标示膜，其特征在于，通过以下方法制成：由热转印碳带将标示信息热转印至TPU薄膜表面，然后加热加压使TPU薄膜熔融并与硬质光滑基材的表面相粘接，冷却后即得标示膜；所述热转印碳带包括带基，所述带基的两侧分别涂布有背涂层和热转印层，所述热转印层从带基一侧表面自内向外依次由保护层和粘接层构成。


2.根据权利要求1所述的硬质光滑基材表面用标示膜，其特征在于，所述保护层由以下重量百分比的原料制成：聚四氟乙烯蜡25%-35%、聚酰亚胺树脂0~5%、余量为有机硅橡胶，所述有机硅橡胶的硬度在70A以上，断裂伸长率在700%以上。


3.根据权利要求1所述的硬质光滑基材表面用标示膜，其特征在于，所述粘接层由以下重量配比的原料制成：蜡、间苯二酚甲醛树脂、亚甲基供体和炭黑的质量比为3-6：80-87：2-3：8-13，其中，所述间苯二酚甲醛树脂的软化点在95-100℃。


4.根据权利要求3所述的硬质光滑基材表面用标示膜，其特征在于，所述亚甲基供体选自甲醛，多聚甲醛，六亚甲基四胺，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李金洞，杜小冬，邓丽霞，张乃凡，牛杏梅，王利红，
申请(专利权)人：焦作卓立膜材料有限责任公司，
类型：发明
国别省市：河南;41