基板制造技术

本申请涉及其上形成有特定类型的间隔物的基板、包括形成在所述间隔物上的配向膜的基板、以及使用这样的基板的光学装置。在本申请中，通过控制形成在基板上的间隔物的形状，即使当在顶部上形成配向膜并进行取向处理时，也可以进行均匀的取向处理而不受间隔物的段差等的任何影响，由此可以提供能够提供具有优异光学性能的装置的基板等。

Substrate

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板
本申请要求基于在2017年6月30日提交的韩国专利申请第10-2017-0083496号的优先权权益，其公开内容通过引用整体并入本文。本申请涉及基板。
技术介绍
已知能够通过在彼此相对设置的两个基板之间设置液晶化合物、或液晶化合物和染料的混合物等来调整透光率或颜色的光学装置。例如，专利文献1公开了应用液晶主体和二色性染料客体的混合物的所谓的GH单元(guesthostcell，宾主单元)。在这样的装置中，所谓的间隔物位于两个基板之间以保持基板之间的间隔。<现有技术文献><专利文献>专利文献1：欧洲专利公开第0022311号
技术实现思路
技术问题本申请提供了基板，例如，包括间隔物的基板或其上在基板的间隔物上形成有配向膜的基板。技术方案本申请的基板包括基础层和存在于基础层上的间隔物。作为基础层，例如，可以没有特别限制地应用在已知光学装置例如LCD(液晶显示器)的配置中的基板中使用的任何基础层。例如，基础层可以为无机基础层或有机基础层。作为无机基础层，可以例示玻璃基础层等，作为有机基础层，可以例示各种塑料膜等。塑料膜可以由TAC(三乙酰纤维素)膜；COP(环烯烃共聚物)膜，例如降冰片烯衍生物；丙烯酸类膜，例如PMMA(聚(甲基丙烯酸甲酯))；PC(聚碳酸酯)膜；聚烯烃膜，例如PE(聚乙烯)或PP(聚丙烯)；PVA(聚乙烯醇)膜；DAC(二乙酰纤维素)膜；Pac(聚丙烯酸酯)膜；PES(聚醚砜)膜；PEEK(聚醚醚酮)膜；PPS(聚苯砜)膜；PEI(聚醚酰亚胺)膜；PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)膜；PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜；PI(聚酰亚胺)膜；PSF(聚砜)膜或PAR(聚芳酯)膜等来例示，但不限于此。在本申请的基板中，基础层的厚度也没有特别限制，其中可以根据应用来选择适当的范围。在基础层上存在间隔物。间隔物可以被固定至基础层。在这种情况下，间隔物可以被固定成与基础层直接接触，或者如果在基础层与间隔物之间存在其他层，则间隔物可以被固定在相关的其他层上。其他层的种类包括驱动光学装置所需的已知层，并且例如，可以例示以下描述的电极层或遮光层等。间隔物可以为至少在顶部上形成半球形部分的半球形间隔物。通过应用具有这样的半球形部分的间隔物，即使当在其上形成有间隔物的基础层上形成配向膜之后进行取向处理例如摩擦取向或光取向时，即使在其中存在间隔物的区域中，也可以进行均匀的取向处理而不受间隔物的段差(step)的影响。因此，应用本申请的基板的光学装置可以表现出均匀的光学性能。在本申请中，术语半球形部分可以意指包括其中截面的轨迹具有预定曲率的弯曲形状的间隔物的一部分。此外，半球形部分的截面的轨迹可以包括其中曲率中心存在于截面轨迹内部的弯曲部。在一个实例中，半球形部分的截面轨迹的最大曲率可以为2,000mm-1或更小。已知的是，曲率是表示线的弯曲程度的数值，其被定义为作为在相关曲线的预定点处的接触圆的半径的曲率半径的倒数。在直线的情况下，曲率为0，并且曲率越大，存在越弯曲的曲线。通过控制半球形部分的弯曲程度使得半球形部分的截面轨迹的最大曲率为2,000mm-1或更小，即使当在半球形部分的顶部处进行配向膜的取向处理时也可以进行均匀的取向处理。在此，用于确定半球形部分的截面轨迹的截面可以为基础层的任何法向平面。此外，最大曲率可以意指可以在半球形部分的截面轨迹上获得的所有接触圆的曲率中的最大曲率。换言之，半球形部分的截面轨迹可以不包括使得曲率超过2,000mm-1的程度的弯曲部分。在另一个实例中，最大曲率可以为1,800mm-1或更小、1,600mm-1或更小、1,400mm-1或更小、1,200mm-1或更小、1,000mm-1或更小、900mm-1或更小、950mm-1或更小、850mm-1或更小、800mm-1或更小、750mm-1或更小、700mm-1或更小、650mm-1或更小、600mm-1或更小、550mm-1或更小、500mm-1或更小、450mm-1或更小、400mm-1或更小、350mm-1或更小、300mm-1或更小、250mm-1或更小、200mm-1或更小、或者大约150mm-1或更小。在另一个实例中，最大曲率可以为5mm-1或更大、10mm-1或更大、15mm-1或更大、20mm-1或更大、25mm-1或更大、30mm-1或更大、35mm-1或更大、40mm-1或更大、45mm-1或更大、或者50mm-1或更大。半球形部分的截面轨迹可以包括或可以不包括曲率为0的部分，即线性部分。例如，图1是不包括曲率为0的部分的半球形部分的截面轨迹的一个实例，图2是包括曲率为0的部分的半球形部分的截面轨迹的一个实例。间隔物包括至少在顶部处的如上所述的半球形部分。在本说明书中，术语顶部意指从基础层朝向形成在基础层上的间隔物的方向，底部意指顶部的相反方向。间隔物可以以各种形状形成，只要其包括半球形部分即可。例如，半球形间隔物可以为其中半球形部分直接形成在基础层(100)的表面上的形状，如图1或2所示，或者可以为包括在顶部处的半球形部分的柱状间隔物，如图3或4所示。此外，在半球形间隔物的半球形部分中，截面轨迹可以不包括曲率为0的部分，如图1或图3所示，或者截面轨迹还可以包括曲率为0的部分(在顶部上的平坦表面)，如图2或图4所示。在下文中，为了方便起见，与图1或图3中的间隔物的半球形部分相同的形状的半球形部分可以称作通常半球形部分，而具有如图2或图4中的间隔物的半球形部分那样的其中在顶部上形成平坦表面的形状的半球形部分可以称作平坦半球形部分。在图1至图4中，H2为半球形部分的高度，R为半球形部分的曲率半径，W1为平坦半球形部分的平坦表面的长度(宽度)，W2为间隔物的宽度，H1为通过从间隔物的总高度中减去半球形部分的高度(H2)而获得的值。半球形部分可以为完整的半球形，或者可以为具有近似半球形的半球形部分。完整的半球形可以为满足以下将描述的关系表达式1的半球形，近似半球形可以为满足以下关系表达式2至4中的任一者的半球形。半球形部分可以具有其中截面形状满足以下关系表达式1至4中的任一者的形状。[关系表达式1]a＝b＝R[关系表达式2]a≠b＝R或b≠a＝R[关系表达式3]a＝b＜R[关系表达式4]a≠b＜R在关系表达式1至4中，a为在半球形部分截面的虚拟接触圆的中心处测量的半球形部分截面的水平长度，b为在半球形部分截面的虚拟接触圆的中心处测量的半球形部分截面的垂直长度，R为半球形部分截面的虚拟接触圆的曲率半径。关系表达式1至4中的曲率半径对应于图1至图4中由R表示的长度。在关系表达式1至4中，虚拟接触圆可以意指与形成半球形部分的曲线接触的多个虚拟接触圆中具有最大曲率半径的接触圆。如果半球形部分为如图1和图3所示的通常半球形部分，则半球形部分的截面本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板，包括基础层和存在于所述基础层上的间隔物，所述间隔物为在顶部具有半球形部分的半球形间隔物。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170630 KR 10-2017-00834961.一种基板，包括基础层和存在于所述基础层上的间隔物，所述间隔物为在顶部具有半球形部分的半球形间隔物。


2.根据权利要求1所述的基板，其中所述半球形部分的截面轨迹的最大曲率为2,000mm-1或更小。


3.根据权利要求2所述的基板，其中所述半球形部分的所述截面轨迹不包括曲率为0mm-1的轨迹。


4.根据权利要求1所述的基板，其中所述半球形部分的高度在1μm至20μm的范围内。


5.根据权利要求1所述的基板，其中所述半球形部分的宽度在2μm至40μm的范围内。


6.根据权利要求1所述的基板，其中所述间隔物的高度在1μm至50μm的范围内。


7.根据权利要求1所述的基板，其中在所述间隔物的底部形成其中截面轨迹为曲率中心形成在截面外部的弯曲形状的渐缩部分。


8.一种基板，包括基础层；存在于所述基础层上的间隔物；和形成在所述基础层和所述间隔物上的配向膜，
其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的顶部具有半球形。


9.根据权利要求8所述的基板，其中所述半球形...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐汉珉，黄智泳，宋哲沃，裴南锡，李承宪，吴东炫，柳正善，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR