【技术实现步骤摘要】
一种含砷废水处理系统
本技术涉及废水处理
，具体为一种含砷废水处理系统。
技术介绍
砷作为一类污染物，其排放受到严格的控制，在《污水综合排放标准》（GB8978-1996）表1中要求砷＜0.5mg/L。且砷的排放有越来越严格的趋势，《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表2中要求砷＜0.1mg/L；上海市《半导体行业污染物排放标准》（DB31-2006）表1中A类标准为砷＜0.05mg/L）；在部分地区由于排放受到限制，甚至要求砷＜2μg/L。半导体行业的含砷废水通常来源于两个部分，一部分来源于芯片生产过程，如清洗、剥离、刻蚀、研磨抛光及芯片切割等工序；另一部分源自砷化镓外延废气处理产生的含砷、含磷废水。工业上常用的除砷方法有化学沉淀，除砷树脂或吸附剂吸附，反渗透和蒸发浓缩工艺等。实际工程案例中常采用化学沉淀法处理含砷废水，此法工艺成熟，操作简便，能使出水砷浓度＜0.5mg/L。但当需要达到更高排放要求，如（DB31-2006）表1中A类标准为砷＜0.05mg/L，则需再化学沉淀后，再经过深度处理...
【技术保护点】
1.一种含砷废水处理系统，其包括顺次连接的用于中和废水的第一反应槽，用于氧化处理的第二反应槽，用于添加无机絮凝剂的第三反应槽，用于中和的第四反应槽，用于深度除砷的第一吸附罐，其特征在于：其还包括管式微滤膜，所述管式微滤膜分别与所述第四反应槽和所述第一吸附罐连接。/n
【技术特征摘要】
1.一种含砷废水处理系统，其包括顺次连接的用于中和废水的第一反应槽，用于氧化处理的第二反应槽，用于添加无机絮凝剂的第三反应槽，用于中和的第四反应槽，用于深度除砷的第一吸附罐，其特征在于：其还包括管式微滤膜，所述管式微滤膜分别与所述第四反应槽和所述第一吸附罐连接。
2.根据权利要求1所述的一种含砷废水处理系统，其特征在于：所述第四反应槽和所述管式微滤膜之间还设有用于投加除砷药剂的浓缩槽。
3.根据权利要求1或2所述的一种含砷废水处理系统，其特征在于：所述管式微滤膜和所述第一吸附罐之间还连接有用于添加铁复合药剂的第五反应槽。
4.根据权利要求3所述的一种含砷废水处理系统，其特征在于：所述第五反应槽还用于中和废水。
5.根据权利要求1所述的一种含砷废水处理系统，其特征在于：所述管式...
【专利技术属性】
技术研发人员：陆晟星，熊江磊，周笈，董全宇，周子健，
申请(专利权)人：江苏中电创新环境科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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