光谱仪制造技术

本发明专利技术涉及一种光谱仪，所述光谱仪包括：壳体(11)，所述壳体(11)配置有：平面光栅(2)，所述平面光栅(2)布置为与所述壳体(11)的孔(1)相对并且相对于所述孔(1)的法线以小于45°的角度对准；物镜装置(6)；以及传感器元件(7)。所述孔(1)的尺寸被设计成使得平行于所述孔(1)的法线入射的电磁辐射完全辐射所述光栅(2)的表面。所述物镜装置(6)布置在所述光栅(2)和所述传感器元件(7)之间，以便将所述电磁辐射聚焦到所述传感器元件(7)上，使得仅将所述电磁辐射的通过所述光栅(2)衍射的第一级衍射或更高级衍射朝向所述物镜装置(6)和所述传感器元件(7)定向。

A spectrometer

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光谱仪
本专利技术涉及光谱仪。
技术介绍
从现有技术中已知各种要实现整体设置(setup)的小型化的光谱仪。例如，US6870619B1公开了仅具有很少的光学元件的小型化光谱仪。然而，这种设置需要昂贵的曲面光栅、小孔和电光调制器。当在光栅的上游使用大量的光学元件(诸如镜子或透镜)时，散射光是主要问题。因此，在文献US20120188542A1中，使用了在进入孔下游的第二孔来界定入射光束。然而，这也限制了光谱仪的灵敏度。
技术实现思路
因此，本专利技术是基于提出一种避免所述缺点的光谱仪的目的，也就是说，利用该光谱仪可以使用尽可能少的光学元件来获得具有高灵敏度的小型化结构。根据本专利技术，该目的通过根据权利要求1的光谱仪来实现。在从属权利要求中描述了有利的改进和发展。所述光谱仪具有壳体，在壳体中布置有物镜装置、传感器元件和布置为与该壳体的孔相对的平面光栅。光栅相对于孔的法线以小于45°的角度对准。孔的尺寸被设计成使得在电磁辐射平行于孔的法线入射的情况下，光栅的表面被完全辐射。为了将入射的电磁辐射聚焦到传感器元件上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有壳体(11)的光谱仪，其中，/n布置有平面光栅(2)、物镜装置(6)和传感器元件(7)，所述平面光栅(2)布置为与所述壳体(11)的孔(1)相对并且相对于所述孔(1)的法线以小于45°的角度对准，其中，/n所述孔(1)的尺寸被设计成使得在电磁辐射平行于所述孔(1)的法线入射的情况下，所述光栅(2)的表面被完全辐射，其中，/n为了将所述电磁辐射聚焦到所述传感器元件(7)上，所述物镜装置(6)布置在所述光栅(2)和所述传感器元件(7)之间，使得：/n仅将所述电磁辐射的由所述光栅(2)衍射的第一级衍射或更高级的衍射定向至所述物镜装置(6)和所述传感器元件(7)上。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170410 DE 102017206066.21.一种具有壳体(11)的光谱仪，其中，
布置有平面光栅(2)、物镜装置(6)和传感器元件(7)，所述平面光栅(2)布置为与所述壳体(11)的孔(1)相对并且相对于所述孔(1)的法线以小于45°的角度对准，其中，
所述孔(1)的尺寸被设计成使得在电磁辐射平行于所述孔(1)的法线入射的情况下，所述光栅(2)的表面被完全辐射，其中，
为了将所述电磁辐射聚焦到所述传感器元件(7)上，所述物镜装置(6)布置在所述光栅(2)和所述传感器元件(7)之间，使得：
仅将所述电磁辐射的由所述光栅(2)衍射的第一级衍射或更高级的衍射定向至所述物镜装置(6)和所述传感器元件(7)上。


2.根据权利要求1所述的光谱仪，其特征在于，入射的所述电磁辐射从所述孔(1)穿过直接到达所述光栅(2)上。


3.根据权利要求1或2所述的光谱仪，其特征在于，所述孔(1)具有至少在0.5mm和2.5mm之间、优选为1mm的直径或宽度。

【专利技术属性】
技术研发人员：斯蒂芬·弗雷德里奇，
申请(专利权)人：安瓦约有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE