高分子化合物的制造方法技术

本发明专利技术得到重均分子量大的包含噻吩环的高分子化合物。一种包含下述式(1)所示的重复单元的高分子化合物的制造方法，该制造方法包括在包含钯催化剂和碱的反应溶剂中使下述式(2)所示的化合物和下述式(3)所示的化合物进行反应的工序，反应溶剂包含：至少1种作为烃的第1溶剂；仅由至少1个碳原子、至少1个氢原子以及至少1个氧原子构成的至少1种作为有机溶剂的第2溶剂；以及水，相对于第1溶剂的体积、第2溶剂的体积以及水的体积的合计，水的体积比例大于10体积％且小于100体积％。(式(1)中，Ar

Manufacturing methods of polymer compounds

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】高分子化合物的制造方法
本专利技术涉及高分子化合物的制造方法。
技术介绍
包含噻吩环的高分子化合物作为有机电致发光元件(有机EL元件)、光电转换元件、有机薄膜晶体管等电子元件所具备的功能层的材料有用，因而正在进行各种研究。作为高分子化合物的制造方法，已知下述基于铃木偶联的制造方法：在钯催化剂的存在下，使具有硼酸或硼酸酯的芳香族化合物与具有卤原子作为取代基的芳香族化合物进行反应(专利文献1、2、非专利文献1、2)。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第2003/048225号专利文献2：日本特开2007-51289号公报非专利文献非专利文献1：HaTranNguyen,etal.,JpolymRes(2014)21:552非专利文献2：IrinaWelterlich,etal.,Macromolecules,2012,45,4511-4519
技术实现思路
专利技术所要解决的课题包含噻吩环的高分子化合物所具有的π共轭体系的长度在将该高分子化合物本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高分子化合物的制造方法，其为包含下述式(1)所示的重复单元的高分子化合物的制造方法，/n该制造方法包括在包含钯催化剂和碱的反应溶剂中使下述式(2)所示的化合物和下述式(3)所示的化合物进行反应的工序，/n所述反应溶剂包含：/n至少1种作为烃溶剂的第1溶剂；/n仅由至少1个碳原子、至少1个氢原子以及至少1个氧原子构成的至少1种作为有机溶剂的第2溶剂；以及/n水，/n相对于所述第1溶剂的体积、所述第2溶剂的体积以及所述水的体积的合计，水的体积比例大于10体积％且小于100体积％，/n[化1]/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种高分子化合物的制造方法，其为包含下述式(1)所示的重复单元的高分子化合物的制造方法，
该制造方法包括在包含钯催化剂和碱的反应溶剂中使下述式(2)所示的化合物和下述式(3)所示的化合物进行反应的工序，
所述反应溶剂包含：
至少1种作为烃溶剂的第1溶剂；
仅由至少1个碳原子、至少1个氢原子以及至少1个氧原子构成的至少1种作为有机溶剂的第2溶剂；以及
水，
相对于所述第1溶剂的体积、所述第2溶剂的体积以及所述水的体积的合计，水的体积比例大于10体积％且小于100体积％，
[化1]



式(1)中，
ArA表示2价芳香族烃基或2价芳香族杂环基，
ArB表示包含至少1个噻吩环的2价芳香族杂环基，
[化2]
X1-ArA-X2····(2)
式(2)中，
X1和X2各自独立地表示氯原子、溴原子或碘原子，
ArA表示2价芳香族烃基或2价芳香族杂环基，
[化3]
Y1-ArB-Y2····(3)
式(3)中，
Y1和Y2各自独立地表示包含1个硼原子和至少2个氧原子的1价基团，
ArB表示包含至少1个噻吩环的2价芳香族杂环基。


2.如权利要求1所述的高分子化合物的制造方法，其中，所述第2溶剂为不与水混合的溶剂。


3.如权利要求1所述的高分子化合物的制造方法，其中，所述第2溶剂为与水混合的溶剂。


4.如权利要求1～3中任一项所述的高分子化合物的制造方法，其中，所述第2溶剂为选自由醇溶剂、酮溶剂以及醚溶剂组成的组中的1种以上。


5.如权利要求1～4中任一项所述的高分子化合物的制造方法，其中，相对于所述第1溶剂的体积、所述第2溶剂的体积以及所述水的体积的合计，所述水的体积比例大于25体积％且小于100体积％。


6.如权利要求1～5中任一项所述的高分子化合物的制造方法，其中，相对于所述第1溶剂的体积、所述第2溶剂的体积以及所述水的体积的合计，所述水的体积比例大于35体积％且小于100体积％。


7.如权利要求1～6中任一项所述的高分子化合物的制造方法，其中，相对于所述第1溶剂的体积、所述第2溶剂的体积以及所述水的体积的合计，所述水的体积比例为50体积％以上且小于100体积％。

【专利技术属性】
技术研发人员：北村圭一，山田贵司，小林重也，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP