【技术实现步骤摘要】
X射线分析装置及其光轴调整方法
本专利技术涉及一种X射线分析装置及其光轴调整方法，尤其涉及对使用分析器的测量有用的技术。
技术介绍
以提高受光侧的分辨率为目的，作为X射线衍射装置等的X射线分析装置所具备的X射线受光光学系统部件，使用分析器晶体的分析器被使用。美国专利第6665372号公开了X射线衍射装置。其中，在配置于位置1的样品与配置于位置2的检测器之间配置一个或两个分析器晶体，由此，从样品产生的衍射X射线实现如下两条光路：向检测器直接入射的光路、经由该一个或两个分析器晶体向检测器入射的光路。日本特开平9-49811号公报公开了X射线衍射装置。其中，分别包括对置的两个平行的反射表面(即，两个分析器晶体)，配置有两个沟道晶体(4晶体)，使四个反射表面分别旋转，由此实现两条光路。专利文献1：美国专利第6665372号专利文献2：日本特开平9-49811号公报
技术实现思路
通过使用分析器晶体能够进行高分辨率的测量，所以期望在进行高分辨率测量时，在样品与检测器之间的光路上设置分...
【技术保护点】
1.一种X射线分析装置，其特征在于，包括：/n样品台，用于支持样品；/nN维检测器，其中N是整数1或2；以及/n分析器，包括1或多个分析器晶体，/n所述N维检测器的检测面具有第一检测区域和与所述第一检测区域分离配置并且与所述第一检测区域区分检测的第二检测区域，/n所述样品产生的衍射X射线所行进的多条光路包括直接到达所述第一检测区域的第一光路和经由所述1或多个分析器晶体而到达的第二光路，/n所述N维检测器根据所述第一检测区域的X射线检测进行所述第一光路的测量，根据所述第二检测区域的X射线检测进行所述第二光路的测量。/n
【技术特征摘要】
20180629 JP 2018-1251061.一种X射线分析装置，其特征在于，包括：
样品台，用于支持样品；
N维检测器，其中N是整数1或2；以及
分析器，包括1或多个分析器晶体，
所述N维检测器的检测面具有第一检测区域和与所述第一检测区域分离配置并且与所述第一检测区域区分检测的第二检测区域，
所述样品产生的衍射X射线所行进的多条光路包括直接到达所述第一检测区域的第一光路和经由所述1或多个分析器晶体而到达的第二光路，
所述N维检测器根据所述第一检测区域的X射线检测进行所述第一光路的测量，根据所述第二检测区域的X射线检测进行所述第二光路的测量。
2.根据权利要求1所述的X射线分析装置，其特征在于，
所述第二光路在所述1或多个分析器...
【专利技术属性】
技术研发人员：小林信太郎，稻叶克彦，光永徹，
申请(专利权)人：株式会社理学，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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